EP 0258417 A1 19880309 - PHOTORESIST STRIPPER COMPOSITION AND PROCESS OF USE.
Title (en)
PHOTORESIST STRIPPER COMPOSITION AND PROCESS OF USE.
Title (de)
LICHTRESISTENTE ÄTZMITTELZUSAMMENSETZUNG UND DEREN VERWENDUNG.
Title (fr)
COMPOSITION DE DEPOUILLEMENT DE PHOTORESERVES ET PROCEDE D'UTILISATION.
Publication
Application
Priority
US 83521886 A 19860228
Abstract (en)
[origin: WO8705314A1] A composition, adapted to strip photoresists from substrates after the protective function of the photoresist has been completed, comprises a mixture of (a) morpholine or an N-alkyl or N-hydroxyalkylmorpholine and (b) pyrrolidone or an N-alkyl or N-hydroxyalkylpyrrolidone in a ratio by weight of (a) to (b) of about 4:1 to about 0.25:1. The composition is effective in stripping, rapidly and completely, a wide variety of photoresists at room temperature or at elevated temperatures below the flash point of the composition.
Abstract (fr)
Une composition, servant à dépouiller des substrats de leur photoréserve une fois terminée la fonction protectrice de la photoréserve, comprend un mélange (a) de morpholine ou d'un N-alkyle ou N-hydroxyalkylmorpholine et (b) de pyrrolidone ou d'un N-alkyle ou N-hydroxyalkylpyrrolidone, selon une proportion en poids de (a) sur (b) d'environ 4/1 à environ 0,25/1. Ladite composition est efficace dans le dépouillement rapide et complet d'une grande variété de photoréserves à température ambiante ou à des températures élevées se situant au-dessous du point d'inflammabilité de la composition.
IPC 1-7
IPC 8 full level
CPC (source: EP)
C09D 9/00 (2013.01); G03F 7/425 (2013.01)
Citation (search report)
See references of WO 8705314A1
Designated contracting state (EPC)
AT BE CH DE FR GB IT LI LU NL SE
DOCDB simple family (publication)
WO 8705314 A1 19870911; AU 7163187 A 19870928; EP 0258417 A1 19880309; ZA 87922 B 19870930
DOCDB simple family (application)
US 8700424 W 19870227; AU 7163187 A 19870227; EP 87901962 A 19870227; ZA 87922 A 19870209