Global Patent Index - EP 0423005 A1

EP 0423005 A1 19910417 - Hydrazinbath for chemical plating platin and or palladium and process for preparing such a bath.

Title (en)

Hydrazinbath for chemical plating platin and or palladium and process for preparing such a bath.

Title (de)

Hydrazinbad zur stromlosen Plattierung mit Platin und/oder Palladium, sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Bades.

Title (fr)

Bain à l'hydrazine pour le dépÔt chimique de platine et/ou de palladium, et procédé de fabrication d'un tel bain.

Publication

EP 0423005 A1 19910417 (FR)

Application

EP 90402778 A 19901005

Priority

FR 8913294 A 19891011

Abstract (en)

Bath containing an oxalate of the metal or of each of the metals to be deposited and hydrazine as reducing agent, as well as ethylenediamine as complexing agent and at least one stabiliser, this bath being strongly basic and having an autocatalytic action.

Abstract (fr)

Bain contenant un oxalate du métal ou de chacun des métaux à déposer et de l'hydrazine comme réducteur, ainsi que de l'éthylènediamine comme complexant et au moins un stabilisant, ce bain étant fortement basique et ayant une action autocatalytique.

IPC 1-7

C23C 18/44

IPC 8 full level

C04B 41/88 (2006.01); C23C 18/30 (2006.01); C23C 18/44 (2006.01)

CPC (source: EP US)

C23C 18/44 (2013.01 - EP US)

Citation (search report)

[A] DE 1771053 A1 19711125 - TELEFUNKEN PATENT

Designated contracting state (EPC)

DE GB IT SE

DOCDB simple family (publication)

EP 0423005 A1 19910417; FR 2652822 A1 19910412; FR 2652822 B1 19930611; JP H03134178 A 19910607; US 5085693 A 19920204

DOCDB simple family (application)

EP 90402778 A 19901005; FR 8913294 A 19891011; JP 27064890 A 19901011; US 59764790 A 19901010