Global Patent Index - EP 0451247 A1

EP 0451247 A1 19911016 - METHOD AND APPARATUS RELATING TO ION IMPLANTATION.

Title (en)

METHOD AND APPARATUS RELATING TO ION IMPLANTATION.

Title (de)

VERFAHREN UND GERÄT BEZÜGLICH IONENIMPLANTIERUNG.

Title (fr)

METHODE ET APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE.

Publication

EP 0451247 A1 19911016 (EN)

Application

EP 90916032 A 19901026

Priority

  • GB 9001653 W 19901026
  • GB 8924223 A 19891027

Abstract (en)

[origin: WO9106972A1] In ion implantation apparatus, a plurality of targets on supports (31, 32) are presented to an ion beam (21). The targets are moved back and forth in reciprocatory motion through the ion beam. Each target is reversed whilst outside the ion beam, and the reversals of the targets are effected while another target or targets is or are moving through the beam. Where two targets are presented, the sequence is that the two target supports (31, 32) follow each other through the ion beam (21) in one direction, and then follow each other through the beam in the opposite direction, each target being reversed in direction while the other is passing through the beam.

Abstract (fr)

Dans un appareil d'implantation d'ions, une pluralité de cibles posées sur des supports (31, 32) sont présentées à un faisceau ionique (21). Ces cibles sont déplacées d'avant en arrière, en un mouvement alternatif, au travers du faisceau. Chacune d'entre elles est inversée lorsqu'elle se trouve hors du faisceau et alors qu'une autre ou d'autres cible(s) le traversent. Lorsque deux cibles se présentent, les deux supports (31, 32) se suivent à travers le faisceau ionique (21) dans une direction, puis en sens inverse, et la direction de chaque cible est inversée lors du passage de l'autre au travers du faisceau.

IPC 1-7

F16H 19/06; H01J 37/20; H01J 37/317; H01L 21/00

IPC 8 full level

C23C 14/48 (2006.01); H01J 37/317 (2006.01); H01L 21/265 (2006.01)

CPC (source: EP US)

H01J 37/3171 (2013.01 - EP US); H01J 2237/20228 (2013.01 - EP US)

Citation (search report)

See references of WO 9106972A1

Designated contracting state (EPC)

CH DE FR GB IT LI NL

DOCDB simple family (publication)

WO 9106972 A1 19910516; DE 69015616 D1 19950209; DE 69015616 T2 19950824; EP 0451247 A1 19911016; EP 0451247 B1 19941228; GB 8924223 D0 19891213; JP H04502534 A 19920507; US 5194748 A 19930316

DOCDB simple family (application)

GB 9001653 W 19901026; DE 69015616 T 19901026; EP 90916032 A 19901026; GB 8924223 A 19891027; JP 51484390 A 19901026; US 72052291 A 19910621