Global Patent Index - EP 0453953 A2

EP 0453953 A2 19911030 - Process for the production of printing plates or photoresist by imagewise exposure of a photopolymerisable registration material.

Title (en)

Process for the production of printing plates or photoresist by imagewise exposure of a photopolymerisable registration material.

Title (de)

Verfahren zur Herstellung von Druckformen oder Photoresists durch bildmässiges Bestrahlen eines photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials.

Title (fr)

Procédé pour la fabrication de plaques d'impression ou photoréserves par exposition selon une image d'une couche d'enregistrement photopolymérisable.

Publication

EP 0453953 A2 19911030 (DE)

Application

EP 91106188 A 19910418

Priority

DE 4013358 A 19900426

Abstract (en)

A description is given of a process for the production of printing plates or photoresists by imagewise exposure of a photopolymerisable registration material whose photopolymerisable layer contains a polymeric binder, a free-radical-polymerisable ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylenical double bond, and a metallocene compound as photoinitiator. In the process, the material is heated for a short time after the imagewise exposure, exposed for a short time to visible light having a wavelength of at least 400 nm without artwork before, at the same time as or after the imagewise exposure, and then developed. The process makes it possible to shorten the image exposure or irradiation substantially and is suitable, in particular, for the projection exposure or laser exposure of printing plates.

Abstract (de)

Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen oder Photoresists durch bildmäßiges Bestrahlen eines photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials beschrieben, dessen photopolymerisierbare Schicht ein polymeres Bindemittel, eine radikalisch polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung mit mindestens einer endständigen ethylenischen Doppelbindung und eine Metallocenverbindung als Photoinitiator enthält, bei dem das Material nach der bildmäßigen Bestrahlung kurzzeitig erwärmt, vor, zugleich mit oder nach der bildmäßigen Bestrahlung kurzzeitig mit sichtbarem Licht einer Wellenlänge von mindestens 400 nm ohne Vorlage belichtet und dann entwickelt wird. Das Verfahren erlaubt eine wesentliche Verkürzung der Bildbelichtung bzw. -bestrahlung und eignet sich insbesondere zur Projektionsbelichtung oder Laserbelichtung von Druckplatten.

IPC 1-7

G03F 7/029; G03F 7/20

IPC 8 full level

G03F 7/00 (2006.01); G03F 7/027 (2006.01); G03F 7/029 (2006.01); G03F 7/20 (2006.01); G03F 7/38 (2006.01); H01L 21/027 (2006.01)

CPC (source: EP KR)

G03F 7/2022 (2013.01 - EP); G03F 7/28 (2013.01 - KR)

Designated contracting state (EPC)

BE DE ES FR GB IT NL SE

DOCDB simple family (publication)

EP 0453953 A2 19911030; EP 0453953 A3 19921202; EP 0453953 B1 19970924; BR 9101676 A 19911210; CA 2041191 A1 19911027; DE 4013358 A1 19911031; DE 59108857 D1 19971030; ES 2106039 T3 19971101; FI 103696 B1 19990813; FI 103696 B 19990813; FI 911979 A0 19910424; FI 911979 A 19911027; IE 911389 A1 19911106; JP 3118520 B2 20001218; JP H04261544 A 19920917; KR 0180737 B1 19990401; KR 910018851 A 19911130

DOCDB simple family (application)

EP 91106188 A 19910418; BR 9101676 A 19910425; CA 2041191 A 19910425; DE 4013358 A 19900426; DE 59108857 T 19910418; ES 91106188 T 19910418; FI 911979 A 19910424; IE 138991 A 19910425; JP 12242591 A 19910425; KR 910006545 A 19910424