EP 0664350 A1 19950726 - Process and device for the production of crystalline films.
Title (en)
Process and device for the production of crystalline films.
Title (de)
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung kristalliner Schichten.
Title (fr)
Procédé et appareil pour la production de couche cristalline.
Publication
Application
Priority
DE 4401626 A 19940120
Abstract (en)
In layer formation on a substrate by flowing a liq. contg. the layer-forming material over the substrate surface, a conc. drop of layer-forming material is produced perpendicular to the liq. flow direction such that the layer-forming material concn. is maximised at one side of the liq., pref. at the substrate-side of the liq.. Also claimed is an appts. for carrying out the above process.
Abstract (de)
Verfahren zur Herstellung kristalliner Schichten, bei welchem die Resultante der auf eine über dem Substrat (2a) befindlichen flüssigen Lösung einwirkenden Kräfte, insbesondere der Zentrifugalkraft, auf der Substratoberfläche senkrecht steht, wodurch ein Konzentrationsmaximum des in der Flüssigkeit gelösten abzuscheidenden Materials in unmittelbarer Nähe der Substratoberfläche entsteht. Die Lösung kann "in situ" nachgesättigt werden durch aus einer Vorratsplatte (2b) gelöstes abzuscheidendes Material, das in Richtung auf das Substrat transportiert wird. Als Vorrichtung dient ein zylinder- oder kegelstumpfförmiger, doppelwandiger Tiegel (10). <IMAGE>
IPC 1-7
IPC 8 full level
C30B 19/00 (2006.01); C30B 19/02 (2006.01); C30B 19/06 (2006.01); C30B 35/00 (2006.01); H01L 21/208 (2006.01); H01L 31/04 (2006.01)
CPC (source: EP US)
C30B 19/02 (2013.01 - EP US); C30B 19/064 (2013.01 - EP US)
Citation (search report)
- [PA] US 5314869 A 19940524 - PANDEY RAGHVENDRA K [US], et al
- [A] DE 3736731 A1 19880511 - US ENERGY [US]
- [A] WO 8505134 A1 19851121 - HUGHES AIRCRAFT CO [US]
- [PA] US 5314571 A 19940524 - CISZEK THEODORE F [US]
- [A] US 5162297 A 19921110 - TERASHIMA KAZUTAKA [JP], et al
Designated contracting state (EPC)
DE FR GB
DOCDB simple family (publication)
EP 0664350 A1 19950726; DE 4401626 A1 19950727; JP H08119791 A 19960514; US 5503103 A 19960402
DOCDB simple family (application)
EP 95100725 A 19950119; DE 4401626 A 19940120; JP 4121895 A 19950120; US 37579695 A 19950120