EP 1006326 A1 20000607 - Process and apparatus for the production of pressurised oxygen and krypton/xenon by cryogenic air separation
Title (en)
Process and apparatus for the production of pressurised oxygen and krypton/xenon by cryogenic air separation
Title (de)
Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von Drucksauerstoff und Krypton/Xenon durch Tieftemperaturzerlegung von Luft
Title (fr)
Procédé et dispositif pour la production d'oxygène sous pression et de krypton/xenon par séparation cryogénique d'air
Publication
Application
Priority
DE 19855487 A 19981201
Abstract (en)
Process for recovering pressurized oxygen and krypton/xenon comprises low temperature decomposition of air in a rectification system consisting of a low pressure column (3) for nitrogen-oxygen separation and a krypton-xenon enriching column (15). Process for recovering pressurized oxygen and krypton/xenon comprises low temperature decomposition of air in a rectification system consisting of a low pressure column (3) for nitrogen-oxygen separation and a krypton-xenon enriching column (15). Pressurized pre-cleaned process air (4, 21-23) is fed into the rectification system. A first oxygen fraction (11) is removed from the low pressure column, placed under pressure using a pump (12), vaporized and removed as gaseous pressurized oxygen product (24). A second oxygen fraction (16) is removed from the low pressure column and fed via line (18) to the lower or middle region of the krypton-xenon enriching column. The first oxygen fraction (11) is removed above the sump of the low pressure column and fed via line (14) to the upper region of the krypton-xenon enriching column. A krypton- and/or xenon-enriched fraction is removed from the lower region of the krypton-xenon enriching column. The gaseous pressurized oxygen product (24) is removed from the top of the krypton-xenon enriching column.
Abstract (de)
Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Gewinnung von Drucksauerstoff und Krypton/Xenon durch Tieftemperaturzerlegung von Luft. Das Rektifiziersystem weist eine Niederdrucksäule (3) zur Stickstoff-Sauerstoff-Trennung und eine Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (15) auf. Verdichtete und vorgereinigte Einsatzluft (4) wird in das Rektifiziersystem eingeleitet. Eine erste Sauerstofffraktion (11) wird der Niederdrucksäule (3) entnommen, flüssig auf einen erhöhten Druck gebracht (12), verdampft und als gasförmiges Drucksauerstoffprodukt (24) abgeführt. Ferner wird eine zweite Sauerstofffraktion (16) der Niederdrucksäule (3) entnommen und in den unteren oder mittleren Bereich der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (15) geleitet (18). Die erste Sauerstofffraktion (11) wird mindestens einen praktischen oder theoretischen Boden oberhalb des Sumpfs der Niederdrucksäule (3) entnommen und nach der Druckerhöhung (12) im flüssigen Zustand in den oberen Bereich der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (15) eingeführt (14). Dem unteren Bereich der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (15) wird eine krypton- und/oder xenonangereicherte Fraktion (19) entnommen. Das Drucksauerstoffprodukt (24) wird gasförmig aus dem oberen Bereich der Krypton-Xenon-Anreicherungssäule (15) abgezogen. <IMAGE>
IPC 1-7
IPC 8 full level
F25J 3/04 (2006.01)
CPC (source: EP KR US)
F25J 3/04 (2013.01 - KR); F25J 3/04412 (2013.01 - EP US); F25J 3/04745 (2013.01 - EP US); F25J 2200/34 (2013.01 - EP US); F25J 2200/92 (2013.01 - EP US); F25J 2200/94 (2013.01 - EP US); F25J 2235/50 (2013.01 - EP US)
Citation (search report)
- [AD] DE 4332870 A1 19950330 - LINDE AG [DE]
- [A] US 3222879 A 19651214 - ROMAN STOKLOSINSKI
- [A] WO 8706684 A1 19871105 - PASSANT MURIEL ETHEL LEGAL REP [GB], et al
Designated contracting state (EPC)
DE DK ES FI FR GB IT NL SE
DOCDB simple family (publication)
EP 1006326 A1 20000607; EP 1006326 B1 20040421; CN 1123754 C 20031008; CN 1255620 A 20000607; DE 19855487 A1 20000608; DE 59909230 D1 20040527; DK 1006326 T3 20040809; ES 2219942 T3 20041201; JP 2000180050 A 20000630; KR 100660243 B1 20061220; KR 20000047816 A 20000725; US 6301929 B1 20011016
DOCDB simple family (application)
EP 99102628 A 19990211; CN 99125538 A 19991201; DE 19855487 A 19981201; DE 59909230 T 19990211; DK 99102628 T 19990211; ES 99102628 T 19990211; JP 33742599 A 19991129; KR 19990054115 A 19991201; US 45216799 A 19991201