EP 1083244 A1 20010314 - Alumina-based thick films obtained by plasma spraying
Title (en)
Alumina-based thick films obtained by plasma spraying
Title (de)
Durch Plasmaspritzen erzeugte dicke Schichten auf Aluminiumoxid-Basis
Title (fr)
Couches épaisses à base d'alumine obtenues par pulvérisation à plasma
Publication
Application
Priority
DE 19942857 A 19990908
Abstract (en)
Aluminum oxide-based layer applied on a substrate by plasma spraying has a thickness of more than 0.3 mm and is built up in a sandwich fashion to form a lamella. The aluminum oxide layers are placed between two intermediate layers of a ceramic material which increases the volume on cooling by phase conversion.
Abstract (de)
Die durch Plasmaspritzen auf ein Substrat aufgebrachte Schicht auf Al2O3-Basis, welche eine Schichtdicke von mehr als 0,3 mm aufweist, ist sandwichartig lamellar aufgebaut, wobei die Al2O3-Schichten zwischen zwei ebenfalls durch Plasmaspritzen aufgebrachten Zwischenschichten aus einem anderen Keramikschichtwerkstoff, welcher beim Abkühlen durch Phasenumwandlung sein Volumen vergrössert, eingelagert sind. Für diese Zwischenschichten haben sich insbesondere Al2O3/ZrO2, Al2O3/TiO2, ZrO2/Y2O3-, Y2O3/ZrO2-, ZrO2/MgO-, ZrO2/CeO2, und ZrO2/CaO-Legierungssysteme bewährt. <IMAGE>
IPC 1-7
IPC 8 full level
C23C 4/02 (2006.01); C23C 4/10 (2006.01); C23C 4/11 (2016.01); C23C 28/04 (2006.01)
CPC (source: EP US)
C23C 4/02 (2013.01 - EP US); C23C 4/11 (2016.01 - EP US); C23C 28/04 (2013.01 - EP US); C23C 28/042 (2013.01 - EP US); C23C 28/42 (2013.01 - EP US)
Citation (search report)
- [AD] DE 19538034 C1 19970109 - SIEMENS AG [DE]
- [A] DE 19542808 A1 19960814 - SIEMENS AG [DE]
- [A] US 5942334 A 19990824 - WORTMAN DAVID J [US]
- [A] US 5687679 A 19971118 - MULLIN RICHARD S [US], et al
- [A] US 4471017 A 19840911 - POESCHEL EVA [DE], et al
- [A] PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 009, no. 278 (C - 312) 6 November 1985 (1985-11-06)
- [A] KIM H -J ET AL: "TEMPERATURE-VARIANT HARDNESS BEHAVIOR OF PLASMA SPRAYED CERAMIC COATINGS", THIN SOLID FILMS,CH,ELSEVIER-SEQUOIA S.A. LAUSANNE, vol. 289, no. 1/02, 30 November 1996 (1996-11-30), pages 207 - 212, XP000692069, ISSN: 0040-6090
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DOCDB simple family (publication)
EP 1083244 A1 20010314; EP 1083244 B1 20030910; AT E249530 T1 20030915; CA 2314528 A1 20010308; CA 2314528 C 20041102; DE 19942857 A1 20010315; DE 19942857 C2 20010705; DE 50003617 D1 20031016; US 6551730 B1 20030422
DOCDB simple family (application)
EP 00810628 A 20000717; AT 00810628 T 20000717; CA 2314528 A 20000725; DE 19942857 A 19990908; DE 50003617 T 20000717; US 63268000 A 20000807