Global Patent Index - EP 1106912 A1

EP 1106912 A1 20010613 - Method of producing a mask for adapting a dipped beam of a headlamp to a reverse traffic direction

Title (en)

Method of producing a mask for adapting a dipped beam of a headlamp to a reverse traffic direction

Title (de)

Verfahren zur Herstellung einer Blende um das Lichtbündel eines Abblendscheinwerfers zur Anpassung an eine umgekehrte Verkehrsrichtung

Title (fr)

Procédé d'élaboration d'un masque pour adapter un faisceau de projecteur de croisement à un sens de circulation inverse

Publication

EP 1106912 A1 20010613 (FR)

Application

EP 00403291 A 20001124

Priority

FR 9915539 A 19991209

Abstract (en)

The method includes the steps of modelling a light beam from an optical projector having a luminous source (S), a receiving and concentration mirror (M) and a lens (L). The next step includes identifying, in the beam, the glare component, and by analysing the inverse trajectory of the light rays taking part in the glare part, determining the zone (ZM1, ZM2,ZM3) of the mirror by which these rays are reflected, and determining, on a mask surface (GR), the zones which are homologous with the zones of the mirror, and making masking elements for occupying the zones to be masked on this mask surface.

Abstract (fr)

Le procédé selon l'invention comprend les étapes consistant à : modéliser un faisceau lumineux engendré par un ensemble optique du projecteur comprenant une source lumineuse (S), un miroir récupérateur et concentrateur (M) et une lentille (L), identifier dans le faisceau lumineux modélisé la partie éblouissante à atténuer ou occulter, par analyse de trajets inverses des rayons lumineux participant à ladite partie éblouissante, déterminer au moins une zone (ZM1, ZM2, ZM3) du miroir par laquelle ces rayons lumineux sont réfléchis, et déterminer, sur une surface de masque (GR), la ou les zones qui sont homologues de la ou des zones du miroir, et réaliser un ou plusieurs éléments de masquage aptes à occuper la ou les zones de masque sur ladite surface de masque. Application notamment à la réalisation d'un « cache vacancier » pour projecteur du genre elliptique. <IMAGE>

IPC 1-7

F21S 8/10

IPC 8 full level

F21V 5/00 (2006.01); F21V 7/00 (2006.01); F21V 11/16 (2006.01)

CPC (source: EP)

F21S 41/255 (2017.12); F21S 41/334 (2017.12); F21S 41/43 (2017.12); F21S 41/62 (2017.12)

Citation (applicant)

Citation (search report)

Designated contracting state (EPC)

DE ES GB IT

DOCDB simple family (publication)

EP 1106912 A1 20010613; FR 2802282 A1 20010615; FR 2802282 B1 20020125

DOCDB simple family (application)

EP 00403291 A 20001124; FR 9915539 A 19991209