EP 1318524 A2 20030611 - X-ray optical system and method for imaging a source
Title (en)
X-ray optical system and method for imaging a source
Title (de)
Röntgen-optisches System und Verfahren zur Abbildung einer Quelle
Title (fr)
Système optique à rayons X et méthode pour former un image d'une source
Publication
Application
Priority
DE 10160472 A 20011208
Abstract (en)
The system has two x-ray reflectors (A,B) for focussing an x-ray source (S) onto a target region. The x-ray reflectors are tilted towards each other, with an offset from 90 degrees so that the combined acceptance region of the x-ray reflectors is matched to the shape of the x-ray source and/or the target region. The offset from 90 degrees is preferably between 30 and 85 degrees. The x-ray reflectors may comprise a multilayer structure. <??>Independent claims are also included for the following: <??>(1) an x-ray diffractometer; and <??>(2) a method of focusing an image source for x-ray or neutron radiation onto a target region.
Abstract (de)
Ein Röntgen-optisches System mit zwei Röntgen-Spiegeln (A, B) zum Abbilden einer Röntgen-Quelle (S) auf einen Zielbereich, ist dadurch gekennzeichnet, dass die Röntgen-Spiegel (A, B) abweichend von 90° derart gegeneinander verkippt angeordnet sind, dass der kombinierte Akzeptanzbereich der Röntgen-Spiegel (A, B) an die Form der Röntgen-Quelle (S) und/oder des Zielbereichs angepasst ist. Dadurch wird mit geringen und technischen einfachen Modifikationen problemlos eine Erhöhung der Intensität der fokussierten Röntgen-Strahlung auf der Probe bei gleichbleibender Emissionsleistung der Röntgen-Quelle (S) ermöglicht. <IMAGE>
IPC 1-7
IPC 8 full level
G21K 1/06 (2006.01)
CPC (source: EP US)
G21K 1/06 (2013.01 - EP US)
Citation (applicant)
- US 6282259 B1 20010828 - CRANE KEITH [US]
- US 5615245 A 19970325 - HASHIMOTO SHINYA [JP]
- WO 9531815 A1 19951123 - UNIV COLORADO [US]
- US 6049588 A 20000411 - CASH JR WEBSTER C [US]
- US 6014423 A 20000111 - GUTMAN GEORGE [US], et al
- SAUNEUF ET AL.: "large field high resolution x-ray microscope for studying laser plasmas", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, vol. 68, no. 9, 1997
- VON J. UNDERWOOD, APPLIED OPTICS, vol. 25, no. 11, 1986
Designated contracting state (EPC)
FR GB NL
DOCDB simple family (publication)
EP 1318524 A2 20030611; EP 1318524 A3 20070704; EP 1318524 B1 20090318; DE 10160472 A1 20030626; DE 10160472 B4 20040603; US 2003108153 A1 20030612; US 6925147 B2 20050802
DOCDB simple family (application)
EP 02026625 A 20021129; DE 10160472 A 20011208; US 30291802 A 20021125