Global Patent Index - EP 1408141 A1

EP 1408141 A1 20040414 - Process and electrolyte for the galvanic deposition of bronze

Title (en)

Process and electrolyte for the galvanic deposition of bronze

Title (de)

Verfahren und Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von Bronzen

Title (fr)

Methode et électrolyte pour la deposition galvanique des bronzes

Publication

EP 1408141 A1 20040414 (DE)

Application

EP 02022718 A 20021011

Priority

EP 02022718 A 20021011

Abstract (en)

Galvanic deposition of bronze on a substrate comprises using an acidic electrolyte containing tin and copper ions, an alkylsulfonic acid and an aromatic non-ionic wetting agent. An Independent claim is also included for an electrolyte used in the deposition process.

Abstract (de)

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Bronzen, mit welchem das zu beschichtende Substrat in einem sauren Elektrolyten, der zumindest Zinn- und Kupferionen, eine Alkylsulfonsäure und ein Netzmittel aufweist, metallisiert wird. Mit Hilfe eines derartigen Verfahrens sollen wesentlich höheren Abscheidegeschwindigkeiten erreicht werden und haftfeste sowie porenfreie Bronzeüberzüge mit hohen Kupfergehalten und unterschiedlichen dekorativen und mechanischen Eigenschaften abgeschieden werden, wobei dieses erfindungsgemäß dadurch erreicht wird, daß dem Elektrolyten ein aromatisches, nichtionisches Netzmittel zugegeben wird. Weiterhin wird ein saurer Elektrolyt zur Abscheidung von Bronzen bereitgestellt.

IPC 1-7

C25D 3/58; C25D 3/60

IPC 8 full level

C25D 3/58 (2006.01); C25D 3/60 (2006.01)

CPC (source: EP KR US)

C25D 3/58 (2013.01 - EP KR US); C25D 3/60 (2013.01 - EP US)

Citation (search report)

Designated contracting state (EPC)

AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

DOCDB simple family (publication)

EP 1408141 A1 20040414; EP 1408141 B1 20141217; CN 1703540 A 20051130; CN 1703540 B 20101006; ES 2531163 T3 20150311; JP 2005537394 A 20051208; JP 4675626 B2 20110427; KR 100684818 B1 20070222; KR 20050059174 A 20050617; US 2006137991 A1 20060629; WO 2004035875 A2 20040429; WO 2004035875 A3 20050414

DOCDB simple family (application)

EP 02022718 A 20021011; CN 200380101253 A 20031010; EP 0311229 W 20031010; ES 02022718 T 20021011; JP 2004544134 A 20031010; KR 20057004846 A 20050321; US 53114205 A 20050411