Global Patent Index - EP 3017875 A1

EP 3017875 A1 20160511 - CLEANING METHOD AND DEVICE FOR ONE OR MULTIPLE PARTS OF AN APPLICATION SYSTEM

Title (en)

CLEANING METHOD AND DEVICE FOR ONE OR MULTIPLE PARTS OF AN APPLICATION SYSTEM

Title (de)

REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSVORRICHTUNG FÜR EIN ODER MEHRERE TEILE EINES APPLIKATIONSSYSTEMS

Title (fr)

PROCEDE DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE POUR UN OU PLUSIEURS ELEMENT D'UN SYSTEME D'APPLICATION

Publication

EP 3017875 A1 20160511 (DE)

Application

EP 15003104 A 20151030

Priority

DE 102014016364 A 20141105

Abstract (en)

[origin: US2016121372A1] A cleaning process for one or more parts of an application system by positioning one or more parts of the application system in a clewing chamber, spraying the one or more parts of the application system with a medium using a plurality of spray devices, with the medium being supplied to the spray devices from an assembly group. One or more parts of the application system may be removed from the cleaning chamber, wherein during spraying the supply of media to the spray devices takes place in a sequence having a plurality of successive phases. At least two phases of the sequence differ in terms of the supply of the at least one medium to the spray devices. A cleaning device designed to carry out the cleaning process is also provided having a control device for controlling the supply of the medium to the spray devices.

Abstract (de)

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Reinigungsverfahren für ein oder mehrere Teile (34) eines Applikationssystems (24) mit zumindest folgenden Verfahrensschritten: Positionieren der ein oder mehreren Teile (34) des Applikationssystems in einer Reinigungskammer (40), Bestrahlen der ein oder mehreren Teile (34) des Applikationssystems (24) mit einem Medium, wobei das Bestrahlen mittels mehrerer Sprühvorrichtungen erfolgt, und wobei das Medium den Sprühvorrichtungen von einer Baugruppe (64) zugeführt wird, Entfernen der ein oder mehreren Teile (34) des Applikationssystems (24) aus der Reinigungskammer (40), wobei im Rahmen des Verfahrensschritts des Bestrahlens die Medienzufuhr zu den Sprühvorrichtungen in einer Sequenz mit mehreren aufeinanderfolgenden Phasen erfolgt, wobei zumindest zwei Phasen der Sequenz sich hinsichtlich der Zufuhr des mindestens einen Mediums zu den Sprühvorrichtungen unterscheiden. Die Erfindung betrifft auch eine zur Durchführung des Reinigungsverfahrens ausgestaltete Reinigungsvorrichtung (38), wobei zur Steuerung der Zufuhr des Mediums zu den Sprühvorrichtungen eine Steuereinrichtung (76) vorgesehen ist. Die Erfindung ermöglicht eine hocheffiziente Mediennutzung. Weiterhin können durch die Erfindung sowohl die Lösewirkung als auch der Abtransport gelöster Verschmutzungen verbessert werden.

IPC 8 full level

B05B 12/04 (2006.01); B05B 15/02 (2006.01); B05B 15/555 (2018.01); B05B 13/04 (2006.01)

CPC (source: CN EP US)

B05B 12/04 (2013.01 - EP US); B05B 12/14 (2013.01 - CN); B05B 13/0421 (2013.01 - CN); B05B 15/555 (2018.01 - EP US); B08B 3/02 (2013.01 - CN US); B08B 5/02 (2013.01 - CN); B05B 13/0452 (2013.01 - EP US)

Citation (search report)

Designated contracting state (EPC)

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Designated extension state (EPC)

BA ME

DOCDB simple family (publication)

EP 3017875 A1 20160511; EP 3017875 B1 20180905; CN 105562383 A 20160511; DE 102014016364 A1 20160512; PL 3017875 T3 20190228; US 2016121372 A1 20160505

DOCDB simple family (application)

EP 15003104 A 20151030; CN 201510640662 A 20150930; DE 102014016364 A 20141105; PL 15003104 T 20151030; US 201514933202 A 20151105