EP 3680718 A2 20200715 - CONTROL DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING A MANIPULATOR WITH RESPECT TO A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
Title (en)
CONTROL DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING A MANIPULATOR WITH RESPECT TO A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
Title (de)
STEUERUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR STEUERUNG EINES MANIPULATORS BEZÜGLICH EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
Title (fr)
DISPOSITIF DE COMMANDE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'UN MANIPULATEUR PAR RAPPORT À UNE INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Publication
Application
Priority
DE 102019200218 A 20190110
Abstract (en)
[origin: US2020225587A1] A control apparatus controls at least one manipulator for modifying a parameter of a microlithographic projection exposure apparatus by generating a target for a travel variable, which defines a modification of the parameter to be undertaken via the manipulator. The control apparatus is configured to generate the target from a state characterization of the projection exposure apparatus by optimizing a merit function. A merit function includes at least one penalty term for taking account of a limit for a property of the projection exposure apparatus as an implicit constraint and the penalty term is formulated in such a way that the function value thereof tends to “infinity” as the property approaches the limit.
Abstract (de)
Eine Steuerungsvorrichtung (14, 114) zur Steuerung mindestens eines Manipulators (M1-M4, 36) zur Veränderung eines Parameters einer Projektionsbelichtungsanlage (50)für die Mikrolithographie durch Generierung einer Vorgabe (38, 138) für eine Stellwegsvariable, welche eine mittels des Manipulators vorzunehmende Veränderung des Parameters definiert, wird bereitgestellt. Die Steuerungsvorrichtung ist dazu konfiguriert, aus einer Zustandscharakterisierung (34) der Projektionsbelichtungsanlage die Vorgabe (38, 138) durch Optimierung einer Gütefunktion (42) zu generieren. Eine Gütefunktion umfasst mindestens einen Bestrafungsterm (46) zur Berücksichtigung einer Grenze (44) für eine Eigenschaft der Projektionsbelichtungsanlage als implizite Nebenbedingung und der Bestrafungsterm ist derart formuliert, dass dessen Funktionswert für die Annäherung der Eigenschaft an die Grenze gegen "unendlich" läuft.
IPC 8 full level
G03F 7/20 (2006.01)
CPC (source: EP US)
G03F 7/7015 (2013.01 - US); G03F 7/70191 (2013.01 - US); G03F 7/705 (2013.01 - EP); G03F 7/70516 (2013.01 - EP)
Citation (applicant)
- DE 102019200218 A 20190110
- WO 2010034674 A1 20100401 - ZEISS CARL SMT AG [DE], et al
- DE 102015206448 A1 20161013 - ZEISS CARL SMT GMBH [DE]
- US 2013188246 A1 20130725 - ROGALSKY OLAF [DE], et al
- "Optical Shop Testing", 1992, JOHN WILEY & SONS, INC.
- H. GROSS: "Handbook of Optical Systems", vol. 2, 2005, WILEY-VCH VERLAG GMBH & CO. KGAA
Designated contracting state (EPC)
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Designated extension state (EPC)
BA ME
DOCDB simple family (publication)
EP 3680718 A2 20200715; EP 3680718 A3 20200729; DE 102019200218 B3 20200625; JP 2020112786 A 20200727; JP 7441640 B2 20240301; US 10852642 B2 20201201; US 2020225587 A1 20200716
DOCDB simple family (application)
EP 20150217 A 20200103; DE 102019200218 A 20190110; JP 2019226548 A 20191216; US 202016734082 A 20200103