EP 3719181 A3 20201118 - OXIDE LAYER AND METHOD OF FORMING A THERMALLY RELAXED OXIDE LAYER
Title (en)
OXIDE LAYER AND METHOD OF FORMING A THERMALLY RELAXED OXIDE LAYER
Title (de)
VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER THERMISCH RELAXIERTEN OXIDSCHICHT UND OXIDSCHICHT
Title (fr)
PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE D'OXYDE THERMIQUEMENT RELAXÉE ET COUCHE D'OXYDE
Publication
Application
Priority
DE 102019108982 A 20190405
Abstract (de)
Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer thermisch relaxierten Oxidschicht auf einer Oberfläche eines Materials mittels eines elektrolytischen Oxidationsprozesses, wobei die Energie, die für den Oxidationsprozess benötigt wird, pulsweise zugeführt wird, und eine mittels dieses Verfahrens hergestellte Oxidschicht vorgeschlagen, wobei ein Energiepuls aus drei Phasen, nämlich Anfangsphase, Mittelphase und Endphase, besteht und die Energiezuführung zumindest in der Mittelphase entladungsfrei erfolgt.
IPC 8 full level
C25D 11/02 (2006.01); C25D 11/04 (2006.01); C25D 11/30 (2006.01); C25D 21/12 (2006.01); C25D 11/08 (2006.01)
CPC (source: EP)
C25D 11/024 (2013.01); C25D 11/026 (2013.01); C25D 11/30 (2013.01); C25D 21/12 (2013.01); C25D 11/08 (2013.01)
Citation (search report)
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EP 20168188 A 20200406