[0001] Die Erfindung bezieht sich auf Anoden für Elektrolysezwecke.
[0002] Für Elektrolysen werden hauptsächlich Anoden aus Graphit, Magnetit, Bleidioxid sowie
aus Edelmetallen, vorzugsweise aus Platinmetallen, eingesetzt. "Da diese Elektroden
entweder hohe Überspannungen aufweisen oder nicht ausreichend korrosionsbeständig
bzw. teilweise zu teuer sind, wurden in letzter Zeit Anoden auf Titanbasis mit dünnen
Platinmetallüberzügen entwickelt. Die Einsatzmöglichkeiten solcher Anoden sind bei
hohen anodischen Stromdichten allerdings beschränkt, da es insbesondere in halogenidhaltigen
Elektrolyten zu einer stetigen Erhöhung der Überspannung kommt. Außerdem wird bei
einer Reihe von Elektrolyseprozessen das Platinmetall langsam abgelöst, so daß die
Elektroden oft schon nach kurzer Betriebszeit ersetzt werden müssen.
[0003] Weiterhin sind aus der DE-OS 1 617 422 Anoden bekannt geworden, die auf einem leitenden
Kern einen Überzug aus einer Kombination mindestens eines Oxides eines oder mehrerer
elektrolytisch filmbildender Metalle mit einem elektrolytisch nicht filmbildenden
Leiter aufweisen.
[0004] Bevorzugte Kombinationen sind Mischoxide, beispielsweise Titan-Ruthenium-Mischoxide.
Im Dauerbetrieb bei hohen Belastungen erwiesen sich solche Anoden wesentlich günstiger
als Titananoden, die mit Platinmetallen beschichtet sind. Es wurde aber auch bei diesen
Elektroden festgestellt, daß im Laufe der Zeit ein langsamer Anstieg der Überspannung
erfolgt, wodurch die Lebensdauer begrenzt wird.
[0005] Ausschlaggebend für die Inaktivierung solcher Titananoden ist, daß es insbesondere
bei hohen Stromdichten neben der Herauslösung des Edelmetalls zur Bildung einer nichtleitenden
Oxidschicht zwischen dem Titanträgermaterial und dem Überzug kommt, welche langsam
durch eine stetige Oxidation des Titanuntergrundes anwächst.
[0006] In der deutschen Auslegeschrift 2 346 055 werden Elektroden für Elektrolysezwecke
beschrieben, die neben einer Legierung von Wolfram mit Metallen der Eisengruppe Tantal,
Tantalborid, Tantalcarbid oder Legierungen von Tantal mit Metallen der Eisengruppe
einzeln oder im Gemisch enthalten und auf der Oberfläche mit Metallen der Platingruppe
dotiert sind. Bei Verwendung dieser Anoden in Amalgamzellen können bei Kurzschlüssen
mit der Amalgamkathode geringe Mengen Wolfram auf die Kathode gelangen, die die Wasserstoffüberspannung
herabsetzen.
[0007] Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, Anoden für Elektrolysezwecke
bereitzustellen, deren Überspannung in halogenhaltigen.Elektrolyten auch im Dauerbetrieb
bei hohen Strombelastungen nicht ansteigt.
[0008] Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe gelöst werden kann mit Anoden für Elektrolysezwecke,
die aus einem elektrisch leitenden Träger bestehen, auf dem sich eine Schicht aus
metallischem Silicium und/oder Germanium befindet, die mit ein oder mehreren Elementen
der III. Hauptgruppe 1 des Periodischen Systems und ein oder mehreren Metallen der
VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems dotiert ist.
[0009] Als Elemente der III. Hauptgruppe des Periodischen Systems können neben insbesondere
Bor und Indium auch die Metalle Aluminium, Gallium und Thallium einzeln oder in Kombination
verwendet werden. Der Anteil dieser Metalle in der Silicium- und/oder Germaniumschicht
sollte bevorzugt zwischen 5 . 10
-2 und 0,3 Gewichtsprozent liegen. Als Metalle der VIII. Nebengruppe des Periodischen
Systems kommen z.B. Ruthenium, Palladium, Platin, Osmium, Cobalt und Nickel, vorzugsweise
aber Rhodium, Iridium und Eisen, in Betracht. Je nach dem Verwendungszweck der Elektroden
werden diese Metalle nur auf der Oberfläche der Silicium-GermaniumSchicht aufgebracht,
oder es wird die Schicht durchgehend dotiert, wobei die Metallkonzentration von der
Oberfläche in die Tiefe der Schicht abnehmen kann und die Dotierungsmenge in den unteren
Schichten 1/10 bis 1/100 der an der Oberfläche enthaltenen Menge betragen kann. Nur
oberflächlich dotierte Schichten können als Elektroden bei Diaphragmenzellen für die
Elektrolyse wäßriger Lösungen von Alkalimetallchloriden eingesetzt werden, während
es bei Amalgamzellen sinnvoller ist, durchgehend dotierte Schichten zu verwenden.
[0010] Eine bevorzugte Schichtkombination auf dem elektrisch leitenden Träger, die universell
in Elektrolyten einsetzbar ist, besteht aus mit,Bor bzw. Indium dotiertem Silicium,
welches mit Rhodium und/oder Iridium zusätzlich dotiert ist.
[0011] Als elektrisch leitende Trägerkörper können die Metalle oder Legierungen von Metallen
der IV. bis VI. Nebengruppe des Periodischen Systems (Titan, Zirkon, Hafnium bzw.
Vanadin, Niob, Tantal bzw. Chrom, Molybdän und Wolfram) sowie Aluminium oder Graphit
verwendet werden. Besonders günstig sind Titan, Titan-Tantallegierungen, Titan-Niob-Legierungen
und Tantal.
[0012] Die Fertigung der Elektroden kann z.B. in der Weise erfolgen, daß zunächst der elektrisch
leitende metallische Trägerkörper, wenn keine Graphitträger verwendet werden, entfettet
und durch eine chemische Ätzung mit Fluß- oder Oxalsäure bzw. eine Ionenätzung mit
Edelgasen bei niedrigen Drucken, von Oxiden befreit wird. Auf den oxidfreien elektrisch
leitenden Träger wird anschließend mit Hilfe von Aufdampfverfahren im Hochvakuum bzw.
durch eine Beschichtung mit dem Plasmabrenner unter Inergasatmosphäre die mit Metallen
der III. Hauptgruppe des Periodischen Systems angereicherte Schicht aus Silicium und/oder
Germanium aufgetragen. In die Oberfläche dieser Schicht werden durch Ionenplattierung
im Hochvakuum die Metalle der VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems dotiert.
Es ist aber auch möglich, die Dotierung so vorzunehmen, daß man auf die Oberfläche
der Elektroden eine wäßrige Lösung einer Verbindung eines Elements der VIII. Nebengruppe
des Periodischen Systems aufbringt und anschließend bei Temperaturen von 600 bis 1
200
oC, vorzugsweise 800 bis 900°C, tempert.
[0013] Schließlich kann die Silicium- und/oder Germaniumschicht mittels Aufdampfen oder
dem Plasmaspritzverfahren gleichzeitig zusammen mit Metallen der.III. Hauptgruppe
und VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems auf den elektrisch leitenden Trägerkörper
aufgetragen werden.
[0014] Die Dicke der Silicium- und/oder Germanium-Schichten kann in weiten Grenzen variieren
und beträgt von 0,025 bis 500
/um je nach Auftragsart der aktiven Schichten. Sie enthält 0,001 bis 3 Gewichtsprozent
an Elementen der III. Nebengruppe und 0,005 bis 5 Gewichtsprozent an Elementen der
VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems.
[0015] Die erfindungsgemäßen Anoden lassen sich insbesondere für die Elektrolyse von neutralen
und sauren Alkalichloridlösungen, sowohl in Diaphragmen - als auch in Amalgamzellen
einsetzen. Sie zeigen auch im Dauerbetrieb keinen nennenswerten Anstieg der ChlorUberspannung,und
im Falle von Amalgamzellen tritt bei Kurzschlüssen keine Absenkung der Wasserstoffüberspannung
an den Kathoden auf.
Beispiel 1
[0016] Ein Titanstreckmetallnetz mit den Abmessungen von 240 x 240 mm wird entfettet und
durch eine Ionenätzung mit Argon im Vakuum von Oxiden befreit. Auf die oxidfreie Oberfläche
wird anschließend eine ~ 4 000 8 dicke Schicht aus mit Bor dotiertem Silicium (B-Gehalt
~ 0,5 Gewichtsprozent, bezogen auf die Bor-Silicium-Legierung) aufgetragen. Anschließend
wird die Oberfläche mit Rhodium durch Ionenplattierung dotiert. Der Rhodiumgehalt
der Elektrode in der Schicht beträgt 1,8 Gewichtsprozent (bzw. 0,17 g Rho- dium/m
2 Elektrodenoberfläche). Die Elektrode kann zur Elektrolyse von neutralen und sauren
Alkalichloridlösungen in Diaphragmen- und Amalgamzellen sowie zur Chlorabscheidung
aus Salzsäure verwendet werden. Nach einer Betriebsdauer von >100 d bei 10 KA/m
2 in 15 %iger Salzsäure ist kein Anstieg der Überspannung festzustellen. Bei Kurzschlüssen
mit der Quecksilberkathode tritt keine Absenkung der Wasserstoffüberspannung auf.
Beispiel 2
[0017] Ein Titanstreckmetallnetz mit den Abmessungen wie in Beispiel 1 wird auf der oxidfreien
Titanoberfläche mit Hilfe des Plasmabrenners unter Argon mit einer Legierung aus 99,5
Gewichtsprozent Silicium und 0,5 Gewichtsprozent Indium ca. 60
/um dick beschichtet. Anschließend wird die Oberfläche mit einer 1,5-prozentigen wäßrigen,
salzsauren Rhodium-III-Chloridlösung imprägniert. Nach dem Trocknen erhitzt man die
Schicht ca. 5 Sekunden lang mit einem Argon-Plasma auf etwa 700
0C und kühlt unter Argon wieder auf Raumtemperatur ab. Die Elektrode eignet sich ausgezeichnet
zur Elektrolyse von Alkalichloridlösungen. Bei Kurzschlüssen mit der Quecksilberkathode
wird die Wasserstoffüberspannung der Kathode nicht vermindert.
Beispiel 3
[0018] Auf ein oxidfreies Streckmetallnetz aus Titan mit den Abmessungen von 100 x 100 mm
wird mit Hilfe des Plasmabrenners eine Legierung aus 94 Gewichtsprozent Silicium,
4 Gewichtsprozent Eisen und 2 Gewichtsprozent Bor
N 100 µm dick aufgetragen. Die Elektrode eignet sich als Anode zur Elektrolyse schwefelsaurer
Abwässer.
Beispiel 4
[0019] Ein oxidfreier Trägerkörper aus 80 Gewichtsprozent Titan und 20 Gewichtsprozent Tantal
mit den Abmessungen von 100 mm Länge, 80 mm Breite und 1 mm Dicke wird mit Hilfe des
Plasmabrenners auf der Oberfläche mit einer Legierung, bestehend aus 98,5 Gewichtsprozent
Silicium, 1 Gewichtsprozent Bor und 0,5 Gewichtsprozent Iridium -60/um dick beschichtet.
Diese Elektrode eignet sich bevorzugt als Anode in schwefelsauren und salzsauren Elektrolyten.
Beispiel 5
[0020] Ein Streckmetallnetz aus Titan mit den Abmessungen von 45 x 45 mm wird nach einer
Oberflächenreinigung, wie in Beispiel 1, mit einem mit Bor dotiertem Silicium (~1,0
Gewichtsprozent Bor) bedampft. Anschließend wird die Oberfläche, wie in Beispiel 1,
mit einer salzsauren, wäßrigen Lösung, die 0,5 Gewichtsprozent Iridium-IV-chlorid
und 1 Gewichtsprozent Rhodium-III-chlorid enthält, oberflächlich imprägniert. Nach
dem Trocknen wird ~ 2 Sekunden lang mit einem Argon-Plasma auf etwa 850 C angeheizt
und unter Argon wieder auf Raumtemperatur abgekühlt. Die Elektrode eignet sich ausgezeichnet
als Anode zur Elektrolyse von Farbwässern.
Beispiel 6
[0021] Eine Graphitplatte mit den Abmessungen von 80 x 120 x 5 mm wird auf der Oberfläche
mit Hilfe des Plasmabrenners ca. 60
/um dick mit einer Legierung aus 50 Gewichtsprozent Silicium, 46 Gewichtsprozent Germanium,
3,0 Gewichtsprozent Aluminium, 0,5 Gewichtsprozent Eisen und 0,5 Gewichtsprozent Palladium
beschichtet. Die Anode kann zur Elektrolyse von sulfathaltigen Lösungen verwendet
werden.
1. Anoden für Elektrolysezwecke, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem elektrisch
leitenden Trägerkörper eine Schicht aus metallischem Silicium und/oder Germanium aufgebracht
ist, die mit mindestens einem Metall der III. Hauptgruppe des Periodischen Systems
und mindestens einem Metall der VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems dotiert
ist.
2. Anoden nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Elemente der III. Hauptgruppe
Bor und Indium verwendet werden.
3.-Anoden nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Dotierungsmetalle
der VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems die Elemente Eisen, Rhodium und Iridium
verwendet werden.
4. Anoden nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Elemente der VIII.
Nebengruppe des Periodischen Systems bevorzugt Rhodium und/oder Iridium und als Elemente
der III. Hauptgruppe des Periodischen Systems vorzugsweise Bor und/oder Indium verwendet
werden.
5. Anoden nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als elektrisch leitende
Trägerkörper Metalle bzw. Metall-Legierungen der IV. bis VI. Nebengruppe des Periodischen
Systems sowie Aluminium oder Graphit verwendet werden.
6. Anoden nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Silicium- und/oder
Germaniumschicht eine Dicke von o,025/um bis 500/um aufweist.
7. Anoden nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Silicium-Germanium-Schichten
von 0,001 bis 3 Gewichtsprozent an Elementen der III. Hauptgruppe des Periodischen
Sysstems und von 0,001 bis 5 Gewichtsprozent an Metallen der VIII. Nebengruppe des
Periodischen Systems aufweisen.