[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regenerierung eines stromlosen Verkupferungsbades,
welches einen Komplexbildner wie Ethylendiamintetraessigsäure oder dergleichen enthält.
Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
[0002] Chemisch, d.h. ohne Anschluß an eine äußere Stromquelle arbeitende Verkupferungsbäder
finden z.B. zur Beschichtung von Kunststoffoberflächen, zur gleichmäßigen Beschichtung
von Teilen komplizierter Geometrie, insbesondere bei der Herstellung von gedruckten
Schaltungen nach dem semiadditiven oder volladditiven Verfahren Anwendung. Allen
chemisch arbeitenden Bädern ist gemeinsam, daß der Vorrat an schichtbildendem Metall
in gelöster Form in das Bad eingebracht werden muß. Um eine brauchbare Abscheidung
zu erzielen, muß jedoch die Konzentration an freiem Metall stark begrenzt werden.
Hierzu werden Komplexbildner verwendet, welche das Metallkation maskieren und dieses
nur im Rahmen des Komplexbildungsgleichgewichts in kleinsten Mengen für die Beschichtungsreaktion
zur Verfügung stellen. Um die Konzentration an freien Metallkationen auf das notwendige
Maß zu begrenzen, werden die Komplexbildner dem Bad häufig in mehrfachem Überschuß
zugegeben. Am häufigsten wird als Komplexbildner Ethylendiamintetraessigsäure (EDTA)
verwendet.
[0003] Damit der nach dem stromlosen Verfahren abgeschiedene Kupferfilm hervorragende physikalische
Eigenschaften aufweist, verglichen mit solchen stromlos abgeschiedenen Filmen, die
nur als leitender Dünnfilm für eine Durchführungsöffnung wirken und nach dem subtraktiven
Verfahren hergestellt werden und auf denen ein Kupferaufbau durch elektrolytische
Abscheidung erfolgt, ist es erforderlich, die Zusammensetzung des stromlosen Verkupferungsbades
so genau wie möglich zu kontrollieren, damit seine Konzentration so gleichmäßig wie
möglich ist und die Bildung von Nebenprodukten so niedrig wie möglich zu halten. Letzteres
ist besonders bei der Wiedergewinnung des Komplexbildners, vorzugsweise der Ethylendiamintetraessigsäure,
welche in hohen Konzentrationen im stromlosen Verkupferungsbad vorhanden ist, zu beachten.
[0004] Bisher wurde nach der europäischen Patentanmeldung 0 088 852 ein Teil oder das ganze
den Komplexbildner enthaltende Verkupferungsbad dem Verkupferungstank entnommen,
der Kupfergehalt des Bades durch Ausfällen des Kupfers als metallisches Kupfer oder
als Kupferoxid oder durch Elektrolyse abgesenkt und der Komplexbildner anschließend
durch Ansäuern ausgefällt. Der so wiedergewonnene Komplexbildner wurde dem anodischen
Teil einer Zelle mit einer Kupferanode, die von dem kathodischen Teil mit der Kathode
durch eine Ionenaustauschermembran getrennt ist, wieder zugeführt. Dann wurde Gleichstrom
an beide Elektroden angelegt und die Lösung aus dem anodischen Teil der Zelle in das
stromlose Verkupferungsbad zurückgeführt. In diesem Verfahren wird nicht näher auf
die Bedingungen, unter denen die Elektrolyse zur Absenkung des Kupfergehaltes in dem
zu regenerierenden Verkupferungsbad durchzuführen ist und auf den Einfluß dieser
Bedingungen auf die Reinheit des wiederzugewinnenden Komplexbildners, vorzugsweise
der EDTA, eingegangen.
[0005] In der deutschen Offenlegungsschrift 3 340 305 ist ein Verfahren zur Entsorgung chemischer
Metallisierungsbäder beschrieben, bei dem das Schwermetall durch selektiv arbeitende
Ionenaustauscher aus der Lösung entfernt wird und die komplexbildnerhaltige Restlösung
weiter aufgearbeitet werden kann. Dieses Verfahren ist jedoch nur auf die Abtrennung
von Metallen aus solchen komplexbildnerhaltigen Lösungen anwendbar, deren Komplexbildungskonstante
geringer ist als die des Austauscherharzes. Dies trifft für EDTA nicht zu.
[0006] Aufgabe der Erfindung ist, ein Verfahren zur Regenerierung von stromlosen Verkupferungsbädern
anzugeben, bei dem der Kupfergehalt des Bades durch Elektrolyse abgesenkt wird und
die Bedingungen für die Durchführung derselben so gewählt werden, daß bei der Weiteraufarbeitung
der komplexbildnerhaltigen Restlösung ein sehr reiner Komplexbildner, insbesondere
eine sehr reine Ethylendiamintetraessigsäure, welche frei von Nebenprodukten ist,
erhalten wird.
[0007] Die Aufgabe der Erfindung wird gelöst durch ein Verfahren gemäß Patentanspruch 1.
[0008] Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
[0009] Die Erfindung wird anhand der speziellen Beschreibung und der Figuren 1 bis 6 näher
erläutert. Es stellen dar:
Figur 1 ein Flußdiagramm für das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung;
Figur 2 die Formeln von Zersetzungsprodukten, Aminen und weiteren Produkten;
Figur 3 die Reaktionen, welche zwischen Anode und Kathode ablaufen;
Figur 4 die Elektrolysierstromwerte als Funktion der Elektrolysierzeit;
Figur 5 die Elektrolysezelle mit zwei Überlaufkästen für die interne Zirkulation des
Elektrolyten und
Figuren 6A und 6B der Kupfergehalt des Verkupferungsbades in mg/l in Abhängigkeit
von der Elektrolysierzeit in Stunden.
[0010] Nachfolgend wird das Flußdiagram für das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung,
das in Fig. 1 dargestellt ist, erläutert. Das stromlose Verkupferungsbad
12 in Behälter 11 enthält vier Grundbestandteile:
Kupferionen in zweiwertiger Form;
Komplexbildner, damit das Kupfer in seiner zweiwertigen Form erhalten bleibt;
Alkali zur Abpufferung überschüssiger Wasserstoffionen und Erhaltung des pH-Werts
und Reduktionsmittel, z.B. Formaldehyd.
Das Bad kann Stabilisatoren, beispielsweise Cyanid und Netzmittel als weitere Zusätze
enthalten.
[0011] Für eine Entleerung des Verkupferungsbehälters 11 zu Reinigungszwekken ist ein Behälter
15 mit Verbindungsleitungen 14 zwischen beiden Behältern vorgesehen. Eine Rohrleitung
16 führt von dem Verkupferungsbehälter 11 zu dem Auffangbehälter 17. Von dort gelangt
das zu regenerierende Verkupferungsbad über Zuleitung 18 in die Elektrolysiereinheit
19, in der zwei Elektrodenblöcke 20 und 21 angeordnet sind. Die Elektrolysiereinheit
19 ist mit Überlaufkästen 22 versehen, wobei in einem eine pH-Meßsonde 24 eingebaut
ist und die Zudosierung von Natronlauge zur Einstellung und Erhaltung des pH-Werts
über die Leitung 23 in den gegenüberliegenden Kasten erfolgt. Die Umwälzung des zu
regenerierenden Verkupferungsbades innerhalb der Elektrolysiereinheit wird anhand
von Fig. 5 gesondert beschrieben. Die Anzahl und die Abmessungen der Elektroden in
jedem Elektrodenblock errechnen sich aus der Stromstärke I, der Stromdichte i und
der Behältergröße. Die Elektroden sind wechselseitig in der Weise angeordnet, daß
immer eine Kathode zwischen zwei Anoden steht. Die Kathoden bestehen aus dünnen Kupferfolien,
die Anoden aus Edelstahl.
[0012] Die entmetallisierte Badlösung gelangt über Rohrleitung 25 aus der Elektrolysiereinheit
in einen Behälter 26, in dem der Komplexbildner durch Absenkung des pH-Werts in den
sauren Bereich ausge fällt wird. Hierzu wird eine Säure wie Schwefelsäure, Salzsäure
oder dergl. über die Leitung 27 in den Behälter 26 zudosiert. Der für die Ausfällung
geeignete pH-Bereich liegt im allgemeinen unter 4.0 und für EDTA unter 2.0, vorzugsweise
unter 1.0. Außer Ethylendiamintetraessigsäure (EDTA) können auch andere Komplexbildner,
die für die stromlose Verkupferung geeignet sind, beispielsweise Kalium-natrium-tartrat
(Rochelle-Salz), Ethylendiamintetramin, Triethanolamin, Diethanolamin und dergl. aufgearbeitet
werden.
[0013] Die ausgefällte EDTA wird zweimal mit deionisiertem Wasser gewaschen, wobei das
Waschwasser über die Rohrleitung 31 in den Behälter 32 geführt wird. Anschließend
kann die EDTA in Natronlauge noch einmal als Tetranatriumsalz gelöst und durch erneutes
Ausfällen mit H₂SO₄ gereinigt werden. Die gereinigte Ethylendiamintetraessigsäure
wird noch im gleichen Behälter (26) in Natronlauge, welche über Leitung 30 zudosiert
wird, zum Tetranatriumsalz gelöst. Über Leitung 28 gelangt die Lösung von EDTA-NA₄
(Tetranatrium-edetat) in einen Lagerbehälter 29 und wird dann über die Leitung 13
direkt in das chemische Verkupferungsbad 12 geleitet, oder es wird eine Vormischung
mit Kupfersulfatlösung hergestellt, die dann ebenfalls dem chemischen Verkupferungsbad
12 im Behälter 11 zugeführt wird.
[0014] In einer bevorzugten Ausführungsform wird ein stromloses Verkupferungsbad mit folgenden
Bestandteilen, Bereichen und Parametern verwendet:

[0015] Bäder dieser Zusammensetzung sind beispielsweise beschrieben in der US-Patentschrift
3 844 799.
[0016] Die Konzentrationen der Bäder werden eingestellt, indem separat hergestellte Kupfersulfatlösung,
Formalin, Natriumcyanidlösung und Natriumhydroxidlösung dem Bad zudosiert werden,
wenn deren Konzentration unter einen bestimmten Wert gefallen ist.
[0017] Die Konzentrationen der einzelnen Badbestandteile werden sorgfältig überwacht, die
von Cu⁺⁺ beispielsweise durch photometrische Messung; die von Formaldehyd über eine
Reaktion mit Natriumsulfit, welche zu einer pH-Wert-Änderung führt; die von NaCN
mit einer ionenselektiven Elektrode und die von NaOH mit einer Glaselektrode. Auch
die Temperatur des Bades muß sorgfältig überwacht werden. Die Reaktionsprodukte aus
der stromlosen Verkupferung aktivierter Oberflächen von Leiterplatten sind im wesentlichen
Na₂SO₄ (Natriumsulfat) und HCOONa (Natriumformiat), welche während der Benutzung des
Bades eine konstante Konzentration erreichen.
[0018] Wie anhand von Fig. 1 erläutert wurde, wird zur Regeneration des Verkupferungsbades
in demselben zunächst der Kupfergehalt der Badflüssigkeit durch Elektrolyse auf eine
Konzentration under etwa 20 mg/l abgesenkt und anschließend der Komplexbildner durch
Ansäuern ausgefällt.
[0019] Es hat sich gezeigt, daß der Durchführung der Elektrolyse für die Absenkung des Kupfergehalts
im Hinblick auf die Reinheit der wiedergewonnenen Ethylendiamintetraessigsäure entscheidende
Bedeutung zukommt.
[0020] Es wurde nämlich festgestellt, daß bei den bisher durchgeführten Elektrolyseprozessen,
bei denen mit konstanten anodischen und kathodischen und verhältnismäßig hohen Stromdichten
gearbeitet wurde, bei der anschließenden Ausfällung der Ethylendiamin tetraessigsäure
ein Produkt erhalten wurde, welches stark mit Zersetzungsprodukten verunreinigt war
und nach Aminen roch. Durch zahlreiche Laboruntersuchungen konnten die in Fig. 2 formelmäßig
dargestellten Zersetzungsprodukte I und die durch Rekombination freier Radikale gebildeten
Amine II nachgewiesen werden. Im einzelnen sind dies: Tetramethylethylendiamin (a),
Dimethylethylamin (b), N-Methyl-Nʹ-dimethyl-diaminomethan (c), Ethylendiamin (d) und
cyklische Amine (e). Als weitere Produkte III konnten Glycin (f), Iminodiessigsäure
(g) und dergl. nachgewiesen werden.
[0021] Wenn Amine, insbesondere Ethylendiamin (d), im Verkupferungsbad vorhanden sind, wirkt
sich dies negativ auf die Kornstruktur der abgeschiedenen Kupferschicht aus. In Gegenwart
von Aminen wird aus dem Verkupferungsbad eine grobkörnige Kupferschicht abgeschieden,
in der bei späterem Erhitzen, beispielsweise während des Lötens, Risse gebildet werden
können. Es ist auch bekannt, daß Amine mit anderen Bestandteilen des Bades, beispielsweise
mit Formaldehyd zu s-Triazinderivaten reagieren können. s-Triazin wiederum, das auf
Formaldehyd stabilisierend wirkt, hat auch einen negativen Effekt auf die Kornstruktur
der abgeschiedenen Kupferschicht.
[0022] Anhand polarographischer Untersuchungen an Proben aus dem Verkupferungsbad konnte
festgestellt werden, daß sich während der Elektrolyse, welche mit konstanter Stromdichte
durchgeführt wird, etwa 10 % der im Bad enthaltenen EDTA zersetzen. Dies ist darauf
zurückzuführen, daß durch eine starke Belegung der Anoden mit Sauerstoff während der
Elektrolyse eine Potentialänderung stattfindet und ein Potentialgrenzwert überschritten
wird, ab dem eine anodische Zersetzung der EDTA einsetzt. Die Bedingunen für die Elektrolyse
müssen deshalb so gewählt werden, daß diese Zersetzung der EDTA unterbleibt.
[0023] Bei der Aufarbeitung chemischer Verkupferungsbäder wird in der Elektrolysezelle,
in der in der einfachsten Anordnung Kupfer kathoden zwischen Anoden aus Edelstahl
angeordnet sind, an den Kupferkathoden ein galvanischer Niederschlag von Kupfer gemäß
der folgenden Reaktionsgleichung gebildet:
[Cu²⁺ EDTA-Komplex]+ 2 e⁻→ Cu ± O + EDTA (1)
Als unerwünschte, aber nicht unterdrückbare Nebenreaktion findet an den Kathoden
auch eine Wasserzersetzung nach folgendem Schema statt:

An der Anode wird in der stark alkalischen Lösung (pH-Wert von 11 bis 12) durch Elektronenentzug
molekularer Sauerstoff gebildet:
3 OH⁻ → O₂ + 2H₂O + 4 e⁻ (3)
Dieser Verbrauch an OH-Ionen während der Elektrolyse macht sich in einem Abfall des
pH-Werts bemerkbar. Bei einem Anfangswert von pH = 11.7 beispielsweise, wird nach
einer Elektrolysierzeit von etwa 10 Stunden ein pH-Endwert von 9.4 erhalten. Da mit
fallendem pH-Wert auch der Anteil an Zersetzungsprodukten ansteigt, wurde die Elektrolysiereinheit
mit einer Regelung versehen (24, 23 in Fig. 1), die den pH-Wert während der Elektrolyse
konstant hält.
[0024] Die Reaktionen an Kathode und Anode sind stark vereinfacht in Fig. 3 wiedergegeben.
Durch die galvanische Abscheidung von Kupfer an den Kathoden verarmt der Elektrolyt
ständig an Kupferionen, bis die Elektrolyse bei einem Restgehalt von etwa 20 mg/l
Cu abgebrochen wird. In der Praxis wird während der Elektrolyse ständig der Kupfergehalt
des Elektrolyten gemessen. Bei Erreichen des gewünschten Endwerts schaltet die Anlage
automatisch ab.
[0025] Für die oben angegebenen chemischen Reaktionen an Kathode und Anode gelten die folgenden
elektrochemischen Beziehungen a - d:
[0026] a) Durch die kathodische Abscheidung von Kupfer verarmt der Elektrolyt an Kupferionen.
Es besteht deshalb eine Abhängigkeit des Potentials von der Kupferionenkonzentration,
welche gegeben ist durch:

wobei ε ν
i die Summe aller Faktoren darstellt, die das Potential mit beeinflussen.
[0027] b) Auch die Stromdichte i ist konzentrationsabhängig, wobei die Grenzstromdichte
in Abhängigkeit von der Kupferionenkonzentration und der Temperatur gegeben ist durch:
i
lim = f ( [Cu²⁺] ;t)
[0028] Die Abhängigkeit des Potentials und der Stromdichte von der Kupferionenkonzentration
gewinnt an Bedeutung, wenn bereits viel Kupfer durch Elektrolyse abgeschieden ist.
Dann können die Werte für das Grenzpotential bzw. für die Grenzstromdichte erreicht
werden, bei denen eine Zersetzung der EDTA stattfindet.
[0029] Durch die Belegung der Elektroden mit Wasserstoff bzw. Sauerstoff während der Elektrolyse
werden diese zu Gaselektroden, deren elektromotorische Kraft der Kupferabscheidung
entgegenwirkt:

Der Hauptreaktion:
[Cu²⁺ EDTA-Komplex] + 2e⁻→ Cu±
0 + EDTA
wirkt die EMK, welche eine Funktion von

ist, entgegen.
[0030] Bei der Elektrolyse, welche mit konstanten, verhältnismäßig hohen Stromdichten arbeitet,
sinkt durch den während der Elektrolyse ansteigenden Wasserstoff- und Sauerstoffanteil
die Strom- und Energieausbeute, bezogen auf das abzuscheidende Kupfer, stark ab. Dadurch
wird eine sehr lange Elektrolysierzeit erforderlich, bis der gewünschte Restkupfergehalt
von etwa 20 mg/l Cu erreicht wird.
[0031] Wenn beispielsweise 15 m³ Additivbad mit einem Gehalt an 8 g/l CuSO₄ x 5 H₂O ( ≙
2,03 g/l Cu) bei einer konstanten Stromstärke von 6000 Ampere und einer Stromdichte
von etwa 100 A/m² elektrolysiert werden, beträgt die mittlere kathodische Stromausbeute
über 24 Stunden
(Cu, 24 h) nur 18 %. Der weitaus größere Anteil. d.h. die restlichen 82 % der aufgewendeten
Elektrizitätsmenge werden für die Wasserzersetzung und für Nebenreaktionen verbraucht.
Für die ersten 10 Stunden errechnet sich eine mittlere kathodische Stromausbeute,
bezogen auf das abzuscheidende Kupfer, von 69 %. Nach weiteren 14 Stunden, insgesamt
also nach 24 Stunden errechnet sich eine mittlere kathodische Stromausbeute von nur
18 %. In Fig. 4, rechte Seite, ist für dieses Ausführungsbeispiel der Elektrolysierstrom
I von 6000 A über der Elektrolysierzeit t dargestellt. Es ist eine Elektrolysierzeit
t von 24 Stunden erforderlich, bis der gewünschte Kupfergehalt der Lösung von < 20
mg/l erreicht wird. Über 24 Stunden wird, wie bereits ausgeführt, eine mittlere kathodische
Stromausbeute von nur 18 % erhalten.
[0032] Aufgrund dieser Ergebnisse ist es erforderlich, die Wasserstoff- und Sauerstoffentwicklung
während der Elektrolyse so niedrig wie möglich zu halten und gebildete Gase so schnell
wie möglich von den Elektroden zu entfernen, um die kathodische Stromausbeute, bezogen
auf das abzuscheidende Kupfer zu verbessern und die Elektrolysierzeit für die Absenkung
auf den gewünschten Kupfergehalt von 20 mg/l zu verkürzen. Eine Verkürzung der Elektrolysierzeit
hat auch zur Folge, daß weniger Nebenprodukte gebildet werden.
[0033] Die Entfernung der Gase von den Elektroden geschieht am besten durch hohe interne
Badumwälzung während der Elektrolyse, wobei bei einer hohen Badumwälzung der Elektrolyt
mit einer Elektrolytbewegung von etwa 10 bis 50 Volumina pro Stunde umgewälzt wird.
Bei dem zuvorgenannten Ausführungsbeispiel mit einem Inhalt der Elektrolysezelle von
15 m³ sind bei einer Elektrolytbewegung von 20 Volumina pro Stunde eine Elektrolytumlaufmenge
von 300 m³ pro Stunde umzuwälzen.
[0034] In Fig. 5 ist eine Vorrichtung dargestellt, in der die Elektrolytzirkulation durch
Einblasrohre, welche unter den Elektroden angeordnet sind, bewirkt wird. Der Elektrolyt
gelangt aus der Elektrolysezelle in Überlaufkästen, die beidseitig von dieser Elektrolysiereinheit
angeordnet sind und wird von dort wieder zu den Einblasrohren zurückgeführt. Im oberen
Teil von Fig. 5 ist eine Seitenansicht einer Elektrolysiereinheit mit einer Elektrolysezelle
und zwei Überlaufkästen und Einblasrohren unterhalb der Elektroden dargestellt. Im
unteren Teil von Fig. 5 ist eine Ansicht derselben Vorrichtung von oben dargestellt.
Wenn es aus Platzgründen möglich ist, ist es günstig, neben der Elektrolysiereinheit
einen Puffertank anzuordnen (nicht dargestellt), in den der Elektrolyt aus den Überlaufkästen
und von dort über die Einblasrohre zurück zu den Elektroden geführt wird.
[0035] Außer der Elektrolythewegung ist die Stromdichte im Verfahren der vorliegenden Erfindung
von ausschlaggebender Bedeutung. In den meisten Elektrolyseprozessen zur Gewinnung
oder zur Elektroraffination von Kupfer, bei denen in der Regel mit konstanter Stromdichte
über die gesamte Elektrolysierziet gearbeitet wird, wird die vorteilhafteste Stromdichte
nach wirtschaftlichen Gesichtspunkten festgelegt. Ziel der vorliegenden Erfindung
ist jedoch nicht die möglichst kostengünstige Abscheidung von Kupfer, sondern die
kostengünstige Rückgewinnung einer möglichst reinen Ethylendiamintetraessigsäure,
die dem stromlosen Verkupferungsbad für den Leiterplattenprozess wieder zugeführt
werden kann. Bei konventionellen Elektrolyseprozessen zur Kupfergewinnung liegen die
anodischen und kathodischen Stromdichten bei Kupferelektrolyten vergleichbarer Konzentration
bei etwa 200 A/m² und in Ausnahmefällen auch bei 300 A/m². Diese verhältnismäßig hohen
Stromdichten können wegen der elektrochemischen Zersetzung der Ethylendiamintetraessigsäure
bei diesen Stromdichtewerten im Rahmen der vorliegenden Erfindung nicht angewendet
werden. Versuche haben ergeben, daß für die Rückgewinnung einer reinen Ethylendiamintetraessigsäure
in dem erfindungsgemäßen Verfahren eine maximale anodische Stromdichte von i
+ = 100 A/m² nicht überschritten werden darf.
[0036] Eine Elektrolyseanlage für das erfindungsgemäße Verfahren ist beispielsweise für
eine maximale Stromstärke I
max von 6000 A ausgelegt, sie wird jedoch nur mit einer Stromstärke von höchstens etwa
5400 A gefahren. Die Anlage enthält 36 Kupferkathoden mit einer aktiven Gesamtfläche
Σ f von 77,1 m² und 38 Edelstahlanoden mit einer aktiven Gesamtfläche von Σ f von
88,9 m². Die maximalen Stromdichten betragen dann i
- max = 70 A/m² und i
+ max = 60,7 A/m², wobei die anodische Stromdichte ≦ der kathodischen Stromdichte ist,
damit bei einer Belegung der Anode mit Sauerstoff, welche nicht ganz zu unterdrücken
ist, der Potentialgrenzwert nicht überschritten wird, bei dem die Zersetzung der EDTA
beginnt. Aus den Zahlenwerten ergibt sich, daß die Elektrolyseanlage nur mit etwa
60 % der höchstzulässigen anodischen Stromdichten gefahren wird. Dadurch wird die
Wahrscheinlichkeit, daß durch anodische Oxidation störende Abbauprodukte der Ethylendiamintetraessigsäure
gebildet werden, noch geringer.
[0037] Am vorteilhaftesten ist jedoch, um die Ausbildung störender Abbauprodukte ganz zu
vermeiden, nicht nur mit konstanten Stromdichten zu arbeiten, sondern mit Stromdichten,
welche während der Elektrolyse entsprechend der Elektrolysekennlinie kontinuierlich
oder in Stufen abgesenkt werden (linke Seite von Fig. 4).
[0038] In der nachfolgenden Tabelle1 sind in Spalte 1 die Elektrolysierzeit, unterteilt
nach Stunden, und in Spalte 2 der Abfall der mittleren kathodischen Stromausbeute
- in Prozent in Abhängigkeit von der Elektrolysierzeit (Spalte 1) dargestellt. Diese
Experimente wurden bei einer konstanten anodischen Stromdichte i
+ von 100 A/m² durchgeführt. In Spalte 3 ist die erfindungsgemäß vorgeschlagene Absenkung
der anodischen Stromdichte i
+ in A/m² angegeben und in Spalte 4 die hierfür einzustellende Stromstärke I in A.
In Spalte 5 sind die mittleren kathodischen Stromausbeuten
- für die in Spalte 3 angegebenen anodischen Stromdichten angegeben. Eine deutliche
Verbesserung gegenüber den Werten von Spalte 2 (konstante anodische Stromdichte) ist
ersichtlich.

[0039] Aus der Tabelle ist ersichtlich, daß in den ersten vier Stunden bei einer konstanten
anodischen Stromdichte i
+ von 100 A/m² die mittlere kathodische Stromausbeute
- ungefähr 80 % beträgt. Zwischen der vierten und fünften Stunde fällt die Stromausbeute
bei derselben Stromdichte auf etwa 37 % ab. Nach etwa 12 Stunden ist die mittlere
kathodische Stromausbeute auf einen Wert unter 1 % abgesunken, d.h. fast die gesamte
elektrische Energie wird nicht mehr zur Kupferabscheidung sondern zur Wasserzersetzung
und für unerwünschte Nebenreaktionen verschwendet. Aus der Tabelle ergibt sich über
zehn Stunden gerechnet, bei konstanter anodischer Stromdichte von i
+ = 100 A/m² eine mittlere kathodische Stromausbeute
- von 44 %.
[0040] Die mittlere kathodische Stromausbeute wird wesentlich besser, wenn mit zunehmender
Elektrolysierzeit die anodische Stromdichte verringert wird (Spalte 3). Nach Tabelle
1 ist dann der Gesamtaufwand an elektrischer Energie:
ΣQ = ΣI · t = 40500 A/h.
Dies entspricht einer Stromausbeute, berechnet über zehn Stunden von η = 69 %, wobei
der Berechnung ein mittlerer Kupfergehalt von 2,2 g/l zugrunde liegt.
[0041] Die Elektrolysierzeit läßt sich aus den experimentellen Daten in Tabelle 1 nach dem
Faraday'schen Gesetz unter Zugrundelegung folgender Ausgangswerte
Elektrolytvolumen V = 15 m³
Kupfergehalt des Additivbades m = 2,2 g/l
Mittlere Stromstärke I = 4050 A
Mittlere kathodische Stromausbeute
- = 69 %
berechnen. Es errechnet sich eine Dauer t von 10 Stunden.
[0042] Nach diesen Berechnungen kann man davon ausgehen, daß die Elektrolyse bei Absenkung
der Stromdichten während ihrer Dauer nach etwa zehn bis zwölf Stunden beendet werden
kann, was gegenüber der bisherigen Rückgewinnungselektrolyse von Kupfer, bei der mit
konstanter anodischer Stromdichte gearbeitet wird, eine Halbierung der Elektrolysierzeit
bedeutet. Die kürzere Elektrolysierzeit hat auch zur Folge, daß weniger Zersetzungsprodukte
der EDTA gebildet werden.
[0043] Fig. 6A zeigt die Abnahme des Kupfergehalts des Verkupferungsbades während der ersten
vier Stunden der Elektrolyse. Fig. 6B zeigt die Abnahme des Kupfergehalts des Bades
von der fünften zur zwölften Stunde der Elektrolyse, jeweils bei konstanter anodischer
Stromdichte i
+ von 100 A/m². Bei Absenkung der anodischen Stromdichte während der Elektrolyse wird
eine noch bessere mittlere kathodische Stromausbeute und eine weitere Verkürzung der
Elektrolysierzeit erhalten.
1. Verfahren zur Regenerierung eines stromlosen Verkupferungsbades mit einem Gehalt
an einem Komplexbildner, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
1. kontinuierliche oder intermittierende Entnahme der komplexbildnerhaltigen Badlösung
aus dem stromlosen Verkupferungsbad;
2. Absenken des Kupfergehalts in der entnommenen Badlösung auf einen Wert unter 20
mg/l durch Elektrolyse;
3. Ansäuern der so erhaltenen Badlösung zum Ausfällen des Komplexbildners und seiner
Wiedergewinnung;
4. Auflösen des wiedergewonnen Komplexbildners in einer alkalischen Elektrolytlösung
und
5. Rückführen der Lösung in das stromlose Verkupferungsbad
2. Verfahren zur Regenerierung eines stromlosen Verkupferungsbades nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß der Komplexbildner Ethylendiamintetraessigsäure, Kalium-natrium-tartrat,
Ethylendiamintetramin, Triethanolamin oder Diethanolamin ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Komplexbildner Ethylendiamintetraessigsäure
ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolyse zur Absenkung
des Kupfergehalts des Bades bei hoher interner Badumwälzung durchgeführt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolyse bei einer
Badumwälzung von etwa 10 bis 50 Volumina/h, vorzugsweise bei einer Badumwälzung von
20 Volumina/h durchgeführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der pH-Wert während der
Elektrolyse konstant gehalten wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß während der Elektrolyse
eine anodische Stromdichte i+ von 100 A/m² nicht überschritten wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die anodische Stromdichte
während der Elektrolyse entsprechend der Elektrolysekennlinie oder in Stufen abgesenkt
wird.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Ethylendiamintetraessigsäure
nach der Entfernung der Kupferionen durch Ansäuern der Badlösung auf einen pH-Wert
unter 2.0 ausgefällt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die ausgefällte EDTA durch
Auflösen in Natronlauge und erneutes Ausfällen mit H₂SO₄ gereinigt wird.
11. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die gereinigte EDTA in Natronlauge gelöst und direkt dem chemischen Verkupferungsbad
zugeführt wird, oder daß mit Kupfersulfatlösung eine Vormischung hergestellt und diese
dem Verkupferungsbad zugeführt wird.
12. Regeneriervorrichtung für ein stromloses Verkupferungsbad bestehend aus
1. einer Elektrolysiereinheit 19 mit zwei Elektrodenblöcken (20, 21) und einer Vorrichtung (24, 23) zur Konstanthaltung
des pH-Werts; und
2. einer Einheit (26) zur Einstellung des pH-Werts der Lösung für die Ausfällung und
Wiedergewinnung des Komplexbildners;
3. gegebenenfalls einer Vorrichtung (29) zur Zwischenlagerung der Lösung des Komplexbildners
und
4. einer Rückführung (13) in das stromlose Verkupferungsbad (12).