Technisches Gebiet
[0001] Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes
Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten
Entladungsraum, dessen Wandungen durch ein erstes rohrförmiges und ein zweites Dielektrikum
gebildet sind, welches auf seinen dem Entladungsraum abgewandten Oberflächen mit ersten
und zweiten Elektroden versehen ist, mit einer an die ersten und zweiten Elektroden
angeschlossenen Wechselstromquelle zur Speisung der Entladung.
[0002] Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er sich etwa aus
der EP-A 054 111, der US-Patentanmeldung 07/076 926 oder auch der EP-Patentanmeldung
88113393.3 vom 22.08.1988 oder der US-Patentanmeldung 07/260,869 vom 21.10.1988 ergibt.
Technologischer Hintergrund und Stand der Technik
[0003] Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark von der der Verfügbarkeit
geeigneter UV-Quellen ab. Die klassischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere
UV-Intensitäten bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z.B. die Quecksilber-Niederdrucklampen
bei 185 nm und insbesondere bei 254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur
aus Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über einen grösseren Wellenlängenbereich
verteilen. Die neuen Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für photochemische
Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen
Prozess wohl nur in Ausnahmefällen geeignet.
[0004] In der eingangs genannten EP-Patentanmeldung oder auch in dem Konferenzdruck "Neue
UV- und VUV Excimerstrahler" von U. Kogelschatz und B. Eliasson, verteilt an der
10. Vortragstagung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photochemie, in
Würzburg (BRD) 18.-20. November 1987, wird ein neuer Excimerstrahler beschrieben.
Dieser neue Strahlertyp basiert auf der Grundlage, dass man Excimerstrahlung auch
in stillen elektrischen Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp, der in der
Ozonerzeugung grosstechnisch eingesetzt wird. In den nur kurzzeitig (< 1 Mikrosekunde)
vorhandenen Stromfilamenten dieser Entladung werden durch Elektronenstoss Edelgasatome
angeregt, die zu angeregten Molekülkomplexen (Excimeren) weiterreagieren. Diese Excimere
leben nur einige 100 Nanosekunden und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form
von UV-Strahlung ab.
[0005] Der Aufbau eines derartigen Excimerstrahlers entspricht bis hin zur Stromversorgung
weitgehend dem eines klassichen Ozonerzeugers, mit dem wesentlichen Unterschied,
dass mindestens eine der den Entladungsraum begrenzenden Elektroden und/oder Dielektrikumsschichten
für die erzeugte Strahlung durchlässig ist.
[0006] Die genannten Hochleistungsstrahler zeichnen sich durch hohe Effizienz, wirtschaftlichen
Aufbau aus und ermöglichen die Schaffung grosser Flächenstrahler, mit der Einschränkung,
dass grossflächige Flachstrahler einen eher grossen technischen Aufwand erfordern.
Bei Rundstrahlern hingegen wird ein nicht unbeachtlicher Anteil der Strahlung durch
Schattenwirkung der Innenelektrode nicht ausgenützt.
Darstellung der Erfindung
[0007] Ausgehend vom Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen
Hochleistungsstrahler, insbesondere für UV- oder VUV-Strahlung, zu schaffen, der sich
insbesondere durch hohe Effizienz auszeichnet, wirtschaftlich zu fertigen ist, den
Aufbau sehr grosser Flächenstrahler ermöglicht und bei dem die Schattenwirkung der
Innenelektrode(n) auf ein Minimum reduziert ist.
[0008] Zur Lösung dieser Aufgabe bei einem Hochleistungsstrahler der eingangs genannten
Gattung ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass innerhalb des ersten rohrförmigen Dielektrikums
ein Stab aus dielektrischem Material angeordnet ist, in dessen Inneren ein elektrischer
Leiter eingelegt oder eingebettet ist, welcher Leiter die zweite Elektrode bildet.
[0009] Vorzugsweise ist der Aussendurchmesser des vorzugsweise aus Quarzglas bestehenden
Stabes fünf bis zehn mal kleiner als der Innendurchmesser des äusseren Rohres.
[0010] In vielen Fällen möchte man die Strahlung vorzugsweise in eine Richtung auskoppeln,
z.B. um eine Oberfläche zu bestrahlen. Die ideale Entladungsgeometrie für diesen
Zweck ist ein auf der Rückseite verspiegelter Flachstrahler (z.B. gemäss der EP-A-0254
111). Die Herstellung flacher Quarzzellen ist mit grossem technischen Aufwand und
entsprechend hohen Kosten verbunden. Man kann auf einfache Weise eine Vorzugsrichtung
der Abstrahlung erreichen, wenn man die Entladung ungleichmässig im Entladungsspalt
verteilt, was man am einfachsten durch eine exzentrische Anordnung des Dielektrikumsstabes
erreichen kann. Dadurch erreicht man, dass die elektrische Entladung überwiegend
auf der Seite erfolgt, auf der die optische Strahlung ausgekoppelt werden soll.
[0011] Anstelle von auf dem ganzen Umfang des äusseren Dielektrikumsrohres aufgebrachter
Aussenelektroden genügt eine teilweise Bedampfung oder Beschichtung auf der Rückseite,
wobei die Schicht gleichzeitig als Elektrode und Reflektor dient. Als Material, das
sich sowohl gut aufdampfen lässt, als auch eine hohe UV-Reflexion besitzt, bietet
sich Aluminium an, das mit einer geeigneten Schutzschicht versehen ist (eloxiert,MgF₂-Beschichtung).
[0012] Man kann leicht mehrere solcher exzentrischen Strahler zu Blöcken kombinieren, die
zur Bestrahlung grosser Flächen geeignet sind. Die (halbzylindrischen) Aussparungen
im Aluminiumblock dienen gleichzeitig als Halterung für die Quarz-Entladungsröhren,
als (Erd-)Elektrode und als Reflektor. Es können beliebig viele dieser Entladungsrohren
parallel- geschaltet werden, indem man die Innenlektroden an eine gemeinsame Wechselspannungsquelle
legt. Für spezielle Anwendungen kann man Röhren mit verschiedener Gasfüllung und damit
verschiedene (UV-)Wellenlängen kombinieren. Die beschriebenen Alublöcke müssen nicht
unbedingt ebene Oberflächen haben. Man kann sich auch zylindrische Anordnungen vorstellen,
bei denen die Aussparungen zur Aufnahme der Entladungsröhren entweder aussen oder
innen angebracht sind.
[0013] Bei höheren Leistungen ist es möglich, die Aluminiumblöcke zu kühlen, z.B. indem
man zusätzliche Kühlkanäle vorsieht. Auch die einzelnen Gasentladungsröhren kann man
zusätzlich kühlen, wenn man z.B. die Innenelektrode als Kühlkanal ausbildet.
[0014] Bei der UV-Behandlung von Oberflächen und der Aushärtung von UV-Farben und UV-Lacken
ist es in bestimmten Fällen von Vorteil, nicht in Luft zu arbeiten. Es gibt mindestens
zwei Gründe, die eine UV-Behandlung unter Ausschluss von Luft angezeigt erscheinen
lassen. Der erste Grund liegt vor, wenn die Strahlung so kurzwellig ist, dass sie
von Luft absorbiert und damit abgeschwächt wird (Wellenlängen < 190 nm). Diese Strahlung
führt zur Sauerstoffspaltung und damit zur uner wünschten Ozonbildung. Der zweite
Grund liegt vor, wenn die beabsichtigte photochemische Wirkung der UV-Strahlung durch
die Anwesenheit von Sauerstoff behindert wird (oxygen inhibition). Dieser Fall tritt
z.B. bei der Photovernetzung (UV-Polymerisation, UV-Trockung) von Lacken und Farben
auf. Diese Vorgänge sind an sich bekannt und beispielsweise im Buch "U.V.and E.B.
Curing Formulation for Printing Ink, Coatings and Paints", herausgegeben 1988 von
SITA-Technology, 203 Gardiner House, Broomhill Road, London SW18, Seiten 89 - 91,
beschrieben. In diesen Fällen ist erfindungsgemäss vorgesehen, Mittel zur Spülung
des Behandlungsraums mit einem inerten UV-transparenten Gas wie z.B. Stickstoff oder
Argon vorzusehen. Insbesondere bei Konfigurationen, bei denen die erste Elektrode
gemäss Anspruch 5 aus einem mit Rillen versehenen Metallblock ausgebildet ist, lässt
sich eine derartige Spülung ohne grossen technischen Aufwand verwirklichen, z.B. durch
zusätzliche von einer Inertgasquelle gespeiste und gegen den Entladungsraum offene
Kanäle. Das durch besagte Kanäle geleitete Inertgas kann darüber hinaus zur Kühlung
des Strahlers herangezogen werden, so dass bei manchen Anwendungen auf separate Kühlkanäle
verzichtet werden kann.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
[0015] In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt;
darin zeigt
Fig.1 Ein erstes Ausführungsbeispiel eines Zylinderstrahlers mit konzentrischer Anordnung
des inneren Dielektrikumsstabes im Querschnitt;
Fig.2 eine Abwandlung des Strahlers nach Fig.1 ,mit einer exzentrischen Anordnung
des inneren Dielektrikums;
Fig. 3 eine Ausführungsform eines Zylinderstrahlers mit konzentrischer Anordnung des
inneren Dielektrikums und einer Aussenelektrode in Form einer Beschichtung, die sich
nur über einen Teil des Umfangs des äusseren Dielektrikumsrohres erstreckt, wobei
die Beschichtung gleichzeitig als Reflektor dient;
Fig.4 eine Ausführungsform eines Zylinderstrahlers analog Fig. 3 jedoch mit exzentrischer
Anordnung des inneren Dielektrikums und einer Beschichtung, die sich nur über einen
Teil des Umfanges des äusseren Dielektrikumsrohres erstreckt, welche Beschichtung
gleichzeitig als Aussenelektrode und als Reflektor dient;
Fig.5 die Zusammenfassung mehrerer Strahler nach Fig.3 zu einem Flächenstrahler;
Fig. 6 die Zusammenfassung mehrerer Strahler nach Fig.4 zu einem Flächenstrahler;
Fig.7 eine Abwandlung von Fig. 5 in Gestalt eines aus einer Vielzahl Strahlern gemäss
Fig.3 zusammengesetzten grossflächigen Zylinderstrahlers.
Fig. 8 eine Abwandlung von Fig. 6 in Gestalt eines aus einer Vielzahl von Strahlern
gemäss Fig.4 zusammengestzten grossflächigen Zylinderstrahlers;
Fig. 9 eine Weiterbildung des Strahlers nach Fig.5 mit Mitteln zur Zufuhr eines Inertagases
in den Behandlungsraum;
Fig.10 eine Weiterbildung des Strahlers nach Fig.6 mit Mitteln zur Zufuhr eines Inertgases
in den Behandlungsraum.
Wege zur Ausführung der Erfindung
[0016] In Fig.1 ist ein Quarzrohr 1 mit einer Wandstärke von etwa 0,5 bis 1,5 mm und einem
Aussendurchmesser von etwa 20 bis 30 mm mit einer Aussenelektrode 2 in Form eines
Drahtnetzes versehen. Konzentrisch im Quarzrohr 1 ist ein zweites Quarzrohr 3 angeordnet
mit einem wesentlich kleineren Aussendurchmesser als der Innendurchmesser des Quarzrohres
1, typisch 3 bis 5 mm Aussendurchmesser.
In das innere Quarzrohr 3 ist ein Draht 4 eingeschoben. Dieser bildet die Innenelektrode
des Strahlers, das Drahtnetz 2 die Aussenelektrode des Strahlers.
Das äussere Quarzrohr 1 ist an beiden Enden verschlossen. Der Raum zwischen den beiden
Rohren l und 3, der Entladungsraum 5, ist mit einem unter Entladungsbedingungen Strahlung
aussendendem Gas/Gasgemisch gefüllt. Die beiden Elektroden 2,4 sind mit den beiden
Polen einer Wechselstromquelle 6 verbunden. Die Wechselstromquelle entspricht grundsätzlich
jenen, wie sie zur Anspeisung von Ozonerzeugern verwendet werden. Typisch liefert
sie eine einstellbare Wechselspannung in der Grössenordnung von mehreren 100 Volt
bis 20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechselstroms bis hin zu
einigen 1000 kHz - abhängig von der Elektrodengeometrie, Druck im Entladungsraum und
Zusammensetzung des Füllgases.
[0017] Das Füllgas ist, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch,
gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise
Ar, He, Ne, als Puffergas.
[0018] Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung kann dabei eine Substanz/Substanzgemisch
gemäss nachfolgender Tabelle Verwendung finden:
Füllgas |
Strahlung |
Helium |
60 - 100 nm |
Neon |
80 - 90 nm |
Argon |
107 - 165 nm |
Argon + Fluor |
180 - 200 nm |
Argon + Chlor |
165 - 190 nm |
Argon + Krypton + Chlor |
165 - 190, 200 - 240 nm |
Xenon |
160 - 190 nm |
Stickstoff |
337 - 415 nm |
Krypton |
124, 140 - 160 nm |
Krypton + Fluor |
240 - 255 nm |
Krypton + Chlor |
200 - 240 nm |
Quecksilber |
185, 254, 320-370, 390-420 nm |
Selen |
196, 204, 206 nm |
Deuterium |
150 - 250 nm |
Xenon + Fluor |
340 - 360 nm, 400 - 550 nm |
Xenon + Chlor |
300 - 320 nm |
[0019] Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
- Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F₂, J₂, Br₂,
Cl₂ oder eine Verbindung die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, J, Br oder
Cl abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit O₂ oder einer Verbindung, die in der
Entladung ein oder mehrere 0-Atome abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
[0020] In der sich bildenden stillen elektrischen Entladung (silent discharge) kann die
Elektronenenergieverteilung durch Dicke der Dielektrika und deren Eigenschaften Druck
und/oder Temperatur im Entladungsraum optimal eingestellt werden.
[0021] Bei Anliegen einer Wechselspannung zwischen den Elektroden 2, 4 bildet sich eine
Vielzahl von Entladungskanälen (Teilentladungen) im Entladungsraum 5 aus. Diese treten
mit den Atomen/Molekülen des Füllgases in Wechselwirkung, was schlussendlich zur UV
oder VUV-Strahlung führt.
[0022] Anstelle von Quarzröhrchen 3 mit eingelegtem Draht können auch Quarzstäbe, in die
ein Metalldraht eingeschmolzen ist, verwendet werden. Auch Metallstäbe, die mit einem
Dielektrikum überzogen sind, führen zum Erfolg.
[0023] Anstelle eines Drahtnetzes 2 kann auch eine perforierte Metallfolie oder ein UV-transparenter,
elektrisch leitfähiger Belag benutzt werden.
[0024] Will man mit einfachen Mitteln eine Vorzugsrichtung der Abstrahlung erzielen, verteilt
man die Entladung ungleichmässig im Entladungsraum. Am einfachsten kann dies durch
exzentrische Anordnung des inneren Dielektrikumsrohres 3 im äusseren Rohr 1 erfolgen,
wie dies in Fig. 2 beispielsweise veranschaulicht ist.
[0025] In Fig.2 ist das innere Quarzrohr 3 ausserhalb des Zentrums nahe der Innenwand des
Rohres 1 angeordnet. Im Grenzfall kann sogar das Rohr 3 am Rohr 1 anliegen und dort
linienförmig oder punktuell mit der Innenwand verklebt sein.
[0026] Die exzentrische Anordnung des inneren Quarzrohres und damit der inneren Elektrode
4 hat keinen entscheidenden Einfluss auf die Qualität der Entladung. Bei knapp eingestellter
Spitzenspannung zündet nur ein schmaler Bereich in unmittelbarer Nähe des Quarzrohres
3. Durch Erhöhung der Spannung kann man nach und nach die Entladungszone vergrössern,
bis der ganze Entladungsraum 5 mit leuchtendem Plasma gefüllt ist.
[0027] Statt einer auf den gesamten Aussenumfang des äusseren Dielektrikumsrohres 1 aufgebrachten
Elektrode 2 (Fig. 2) genügt auch eine teilweise Beschichtung der äusseren Oberfläche
des Rohres 1, wie es in Fig.3 veranschaulicht ist. Die sich über etwa die Hälfte des
Aussenumfangs des Rohres 1 erstreckende Beschichtung 7 ist gleichzeitig Aussenelektrode
und Reflektor. Entsprechend Fig.2 ist auch hier eine exzentrische Anordnung des
inneren Quarzrohres 3 möglich, wobei die Beschichtung 7 sich nur symmetrisch über
den dem inneren Quarzrohr 3 zugewandten Aussenwandabschnitt erstreckt. Diese Schicht
7 ist gleichzeitig Aussenelektrode und Reflektor. Als Material, das sich sowohl gut
aufdampfen lässt, als auch eine hohe UV-Reflexion besitzt, bietet sich insbesondere
Aluminium an.
[0028] In Fig.5 ist veranschaulicht, auf welche Weise eine Vielzahl von konzentrischen Strahlern
gemäss Fig.3 zu einem Flächenstrahler zusammengefasst werden können. Fig.6 zeigt
eine entsprechende Anordnung mit exzentrisch angeordneten inneren Quarzrohren 3 nach
Fig.4. Ein Aluminiumkörper 8 ist zu diesem Zweck mit einer Vielzahl paralleler Rillen
9 mit kreisrundem Querschnitt versehen, die um mehr als einen Aussenrohrdurchmesser
voneinander beabstandet sind. Die Rillen 9 sind den äusseren Quarzrohren 1 angepasst
und durch Polieren oder dergleichen so behandelt, dass sie gut reflektieren. Zusätzlichen
Bohrungen 10, die in Richtung der Rohre 1 verlaufen, dienen der Kühlung der Strahler.
[0029] Die Wechselstromquelle 6 führt mit ihrem einen Pol an den Aluminiumkörper 8, die
Innenelektroden 4 der Strahler sind parallelgeschaltet und mit dem anderen Pol der
Quelle 6 verbunden.
[0030] Analog zu den Beschichtungen 7 der Fig.3 bzw. Fig.4 dienen im Fall der Fig.5 und
6 die Rillenwände sowohl als Aussenelektrode als auch als Reflektoren.
[0031] Für spezielle Anwendungen kann man Einzelstrahler mit verschiedenen Gasfüllungen
und damit verschiedenen (UV-)Wellenlängen kombinieren.
[0032] Die Aluminiumkörper 8 müssen nicht unbedingt ebene Oberflächen haben. Z.B. veranschaulichen
Fig.7 und 8 eine Variante mit einem hohlzylindrischen Aluminiumkörper 8a mit regelmässig
über seinen Innenumfang verteilten achsparallelen Rillen 9 in die jeweils ein Strahlerelement
nach Fig.3 bzw. Fig.4 eingelegt ist.
[0033] Der Strahler nach Fig.9 entspricht grundsätzlich demjenigen nach Fig.5. mit zusatzlichen
in Längsrichtung des Metallblocks 8 verlaufenden Kanälen 11. Diese Kanäle stehen
mit dem Behandlungsraum 12 über eine Vielzahl von Bohrungen oder Schlitzen 13 im Metallblock
8 in Verbindung, und zwar über den vergleichweise schmalen, durch unvermeidliche Fertigungstoleranzen
der Quarzrohre 1 bedingten Spalt zwischen den äusseren Quarzrohren 1 und den Rillen
9 im Metallblock 8 in Verbindung. Die Kanäle 11 sind an eine nicht dargestellte Inertgasquelle,
z.B. Stickstoff- oder Argonquelle angeschlossen. Von den Kanälen 11 gelangt das unter
Druck stehende Inertgas auf dem beschriebenen Wege in den Behandlungsraum 12. Dieser
Behandlungsraum wird einerseits durch Schenkel 14 am Metallblock 8 und durch das
zu bestrahlende Substrat 15 begrenzt. Er füllt sich in kurzer Zeit mit Inertgas. Je
nach Grösse des Spaltes 16 zwischen dem Substrat 15 und den Enden der Schenkel 14
entweicht dabei eine gewisse Leckgasmenge, welche aber durch die Inertgasquelle nachgeliefert
wirde. Auf diese Weise werden die eingangs beschriebenen Wechselwirkungen zwischen
der in den Entladungsräumen 5 erzeugten UV-Strahlung und dem Luftsauerstoff zuverlässig
vermieden.
[0034] In Fig.10 ist eine weitere Möglichkeit der Inertgaszufuhr zum Behandlungsraum 12
veranschaulicht. Der Strahler entspricht dabei weitgehend demjenigen nach Fig.6. Zusätzlich
sind jedoch zwischen benachbarten Quarzrohren 5 in Längsrichtung des Metallblocks
8 verlaufende Kanäle 11 vorgesehen, welche über Bohrungen oder Schlitze 13 unmittelbar
mit dem Behandlungsraum 12 verbunden sind. Ansonsten entspricht Aufbau und Wirkungsweise
denjenigen nach Fig.9.
[0035] Es versteht sich von selbst, dass auch die Zylinderstrahler nach den Figuren 7 und
8 mit Mitteln zur Zufuhr von Inertgas in den Behandlungsraum (dort das Innere des
Rohres 8a) versehen werden können, ohne den den die Erfindung gesteckten Rahmen
zu verlassen.
1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter
Entladungsbedingungen Strahlung aussendenden Füllgas gefüllten Entladungsraum (5),
dessen Wandungen durch ein erstes rohrförmiges (1) und ein zweites Dielektrikum (3)
gebildet sind, welches auf seinen dem Entladungsraum (5) abgewandten Oberflächen mit
ersten (2, 7) und zweiten Elektroden (4) versehen ist, mit einer an die ersten und
zweiten Elektroden angeschlossenen Wechselstromquelle (6) zur Speisung der Entladung,
dadurch gekennzeichnet, dass innerhalb des ersten rohrförmigen Dielektrikums (1) ein
Stab (3) aus dielektrischem Material angeordnet ist, in dessen Inneren ein elektrischer
Leiter (4) eingelegt oder eingebettet ist, welcher Leiter die zweite Elektrode bildet.
2. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Aussendurchmesser
des Stabes (3) fünf bis zehn mal kleiner ist als der Innendurchmesser des ersten rohrförmigen
Dielektrikums (1).
3. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der
Stab (3) aus dielektrischem Material exzentrisch im ersten rohrförmigen Dielektrikum
(1) angeordnet ist.
4. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die erste
Elektrode (7) die Aussenwand des ersten Dielektrikums (1) nur in dem Abschnitt bedeckt,
der dem zweiten Dielektrikum (3) zugeordnet und als Reflektor ausgebildet ist.
5. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die erste
Elektrode und der Reflektor als Materialausnehmungen, vorzugsweise Rillen (9), in
einem Metallkörper (8) ausgebildet sind.
6. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass im Metallkörper
(8) Kühlbohrungen (10) vorgesehen sind, welche die Materialausnehmungen (9) nicht
anschneiden.
7. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Querschnitt
der Materialausnehmungen (9) dem Aussendurchmesser des ersten Dielektrikums (1) angepasst
ist und die Ausnehmungswandungen als UV-Reflektoren ausgebildet sind.
8. Hochleistungsstrahler nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
dass Mittel (11,13) zur Zuführung von Inertgas in den Raum (12) ausserhalb des ersten
rohrförmigen Dielektrikums (1) vorgesehen sind.
9. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass im Metallkörper
(8,8a) Kanäle (11) vorgesehen sind, welche unmittelbar oder mittelbar mit dem Behandlungsraum
(12) in Verbindung stehen, durch welche Kanäle (11) ein Inertgas, vorzugsweise Stickstoff
oder Argon, zuführbar ist.
10. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Kanäle
(11) jeweils zwischen benachbarten Dielektrikumsrohren (1) angeordnet sind und über
Bohrungen oder Schlitze (13) mit dem Behandlungsraum (12) in Verbindung stehen.