[0001] Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein positiv oder negativ arbeitendes strahlungsempfindliches
Gemisch sowie ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer Schicht aus diesem
Gemisch. Das Aufzeichnungsmaterial ist insbesondere zur Herstellung von Offsetdruckplatten
geeignet.
[0002] Strahlungs- bzw. lichtempfindliche Gemische auf Basis von Naphthochinon-2-diazid-Verbindungen
wie auch deren Verwendung für Aufzeichnungsmaterialien, beispielsweise in Photoresists
oder in vorsensibilisierten Offsetdruckplatten, sind vielfach beschrieben. Zur (bildmäßigen)
Bestrahlung dieser Materialien werden Strahlungsquellen eingesetzt, die Strahlung
im Absorptionsbereich der Chinondiazide, d.h. im Bereich von etwa 350 bis 450 nm,
emittieren. Auf die bildmäßige Bestrahlung folgt im allgemeinen eine Entwicklung.
Als Entwickler sind wässrig-alkalische Lösungen auf Alkalisilikatbasis bei der Herstellung
von Druckplatten besonders verbreitet. Die entwickelten Druckplatten können noch mit
einem geeigneten Korrekturmittel behandelt werden. Wenn sie nicht unmittelbar in der
Druckmaschine verwendet werden sollen, ist eine Konservierung mit einem hydrophilen
Mittel günstig.
[0003] Durch die Fortentwicklung der Technik stehen mittlerweile leistungsstarke und preiswerte
Infrarotlichtquellen zur Verfügung, die sich für eine Direktbebilderung von Aufzeichnungsmaterialien
grundsätzlich eignen. Zu nennen sind insbesondere Diodenlaser, die Strahlung mit einer
Wellenlänge von etwa 800 nm emittieren, und Nd-YAG-Laser, die Strahlung einer Wellenlänge
von etwa 1064 nm emittieren. Ferner ist die Verwendung von Kohlenstoff als IR-absorbierender
Komponente bekannt (z.B. aus der WO 96/20429). Kohlenstoff absorbiert IR-Strahlung
über einen breiten Wellenlängenbereich. Der Einsatz von Kohlenstoff oder Kohlenstoffpigmenten
in der strahlungsempfindlichen Schicht der eingangs genannten Aufzeichnungsmaterialien
ist bisher daran gescheitert, dass sich die Aufzeichnungsmaterialien nach der bildmäßigen
IR-Bestrahlung nicht ordnungsgemäß mit einem wässrig-alkalischen Entwickler entwickeln
ließen. Häufig war die Entwicklung unvollständig, d.h. in den bestrahlten bzw. unbestrahlten
Bereichen blieben Reste der strahlungsempfindlichen Schicht zurück.
[0004] Es bestand daher die Aufgabe, Aufzeichnungsmaterialien der eingangs genannten Art
zur Verfügung zu stellen, die sich als sog. "dual-mode" - Materialien sowohl in herkömmlicher
Weise (d.h. mit sichtbarem Licht und UV-Strahlung) als auch mit Infrarotstrahlung
bebildern lassen. Die Bebilderung soll dabei mit verschiedenen IR-Strahlungsquellen
möglich sein. Die bildmäßig bestrahlten Materialien sollen sich zudem problemlos mit
üblichen, wässrig-alkalischen Lösungen entwickeln lassen.
[0005] Die Aufgabe wird gelöst durch ein positiv oder negativ arbeitendes strahlungsempfindliches
Gemisch, das dadurch gekennzeichnet ist, dass es als IR-absorbierende Komponente ein
Rußpigment mit einer Primärteilchengröße von weniger als 80 nm umfasst, wobei das
Rußpigment vordispergiert ist in einem Polymer, das acide Einheiten mit einem pK
S-Wert von kleiner als 13 enthält.
[0006] Die aciden Einheiten mit einem pK
s von weniger als 13 sind bevorzugt Einheiten, in denen ein saures Proton an ein Heteroatom
gebunden ist. Besonders geeignete acide Gruppen sind daher Gruppen der Formel -NH
2 und -NH- sowie phenolische Hydroxygruppen und Carboxygruppen. Von den -NH
2- und -NH-Gruppen sind besonders solche geeignet, die direkt an eine -SO
2- oder eine -CO-Gruppe gebunden sind. Besonders zu erwähnen sind hier Sulfonamidgruppen.
In jedem Gramm des Polymers ist bevorzugt mindestens 1 mmol, besonders bevorzugt mindestens
1,5 mmol, an aciden Gruppen enthalten. In einer bevorzugten Ausführungsform beträgt
das Gewichtsverhältnis von Polymer mit sauren Einheiten zu Rußpigment im Dispergat
mindestens 1.
[0007] Besonders gute Ergebnisse werden mit einem Rußpigment erzielt, das eine sogenannte
BET-Oberfläche von mindestens 30 m
2 pro Gramm besitzt. "BET-Oberfläche" bedeutet dabei, dass die Oberfläche nach dem
von Brunauer, Emmet und Teller ("BET") eingeführten Verfahren bestimmt wurde. Die
mittlere Primärteilchengröße beträgt bevorzugt weniger als 60 nm. Als "Primärteilchengröße"
wird die Größe der Pigmente bezeichnet, so wie sie bei der Herstellung erhalten werden
(d.h. vor der Dispergierung).
[0008] Die strahlungsempfindliche Komponente in dem Gemisch kann ein Diazoniumsalz sein,
eine Kombination aus einem Photopolymerisationsinitiator und einem polymerisierbaren
Monomer (insbesondere ein Monomer mit einer polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten
Gruppe), eine Kombination aus einer Verbindung, die bei Bestrahlung Säure bildet,
und einer durch die photochemisch erzeugte Säure spaltbaren Verbindung. Bevorzugt
ist die strahlungsempfindliche Komponente jedoch ein Ester aus einer 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-
oder -5-sulfonsäure und einer Verbindung mit mindestens einer phenolischen Hydroxygruppe.
Die letztgenannte Verbindung weist bevorzugt mindestens 3 phenolische Hydroxygruppen
auf. Ganz besonders bevorzugt für die Veresterung sind Verbindungen, die 3 bis 6 phenolische
Hydroxygruppen besitzen. Beispiele hierfür sind 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon, 2,3,4-Trihydroxy-3'-methyl-,
-propyl- oder -isopropyl-benzophenon, 2,3,4,4'-Tetrahydroxy-benzophenon, 2,3,4,2',4'-Pentahydroxy-benzophenon,
2,3,4,2',3',4'-Hexahydroxy-benzophenon und 5,5'-Diacyl-2,3,4,2',3',4'-hexahydroxy-diphenylmethan.
Amide der 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonsäure sind ebenfalls geeignet.
Brauchbare Veresterungskomponenten sind auch Kondensationsprodukte aus Pyrogallol
und Aldehyden oder Ketonen sowie Kondensationsprodukte aus alkylierten Phenolen und
Formaldehyd. Der Gehalt an strahlungsempfindlichen Verbindungen liegt bei etwa 1 bis
50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile des Gemisches.
[0009] Beispiele für Polymere mit aciden Gruppen, die einen pK
s-Wert von weniger als 13 besitzen, sind Polykondensate aus Phenolen (wie Phenol, Resorcin,
einem Kresol, einem Xylenol, einem Trimethylphenol) oder sulfamoyl- oder carbamoyl-substituierten
Aromaten mit Aldehyden (wie Formaldehyd) oder Ketonen, ferner mit bismethylol-substituerten
Harnstoffen. Geeignet sind auch Umsetzungsprodukte von Diisocyanaten mit Diolen oder
Diaminen, die acide Einheiten der genannten Art besitzen.
[0010] Weiterhin sind zu nennen Polymere mit Einheiten aus Vinylaromaten, N-Aryl-(meth)acrylamide
oder Aryl-(meth)acrylate, wobei diese Einheiten jeweils noch eine oder mehrere carboxygruppen
phenolische Hydroxygruppen, Sulfamoyl- oder Carbamoylgruppen aufweisen. Spezifische
Beispiele sind Polymere mit Einheiten aus (2-Hydroxy-phenyl)-acrylat oder -methacrylat,
aus N-(4-Hydroxy-phenyl)-acrylamid oder -methacrylamid, aus N-(4-Sulfamoyl-phenyl)-acrylamid
oder -methacrylamid, aus N-(4-Hydroxy-3,5-dimethyl-benzyl)-acrylamid oder -methacrylamid,
aus 4-Hydroxy-styrol oder aus Hydroxyphenyl-maleimid. Die Polymere können zusätzlich
Einheiten aus anderen Monomeren, die keine aciden Einheiten besitzen, enthalten. Solche
Einheiten sind beispielsweise Einheiten aus Olefinen oder Vinylaromaten, Methyl(meth)acrylat,
Phenyl(meth)acrylat, Benzyl(meth)acrylat, Methacrylamid oder Acrylnitril. In diesem
Zusammenhang steht die Bezeichnung "(Meth)acrylat" für Acrylat und/oder Methacrylat.
[0011] Das strahlungsempfindliche Gemisch enthält darüber hinaus ein polymeres Bindemittel.
Vorzugsweise ist es das gleiche, das auch zur Vordispergierung des Rußes eingesetzt
wird. Der Anteil des Sindemittels beträgt allgemein 2 bis 90 Gew.-%, bevorzugt 50
bis 85 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile
des strahlungsempfindlichen Gemisches. Dieser Anteil umfasst das zum Vordispergieren
verwendete und auch das später zugesetzte Bindemittel.
[0012] Die in dem strahlungsempfindlichen Gemisch enthaltenen Ruße sind bevorzugt Flamm-,
Furnace- oder Channelruße mit einer mittleren Primärteilchengröße von 80 nm oder weniger.
Bevorzugt liegt die Primärteilchengröße bei weniger als 60 nm, besonders bevorzugt
bei weniger als 30 nm. Die BET-Oberfläche der Ruße liegt bevorzugt bei mindestens
30 m
2/g. In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Ruße oxidiert oder nachoxidiert,
wodurch saure Einheiten an der Rußoberfläche entstehen, so dass der pH-Wert einer
wässrigen Dispersion dieser Ruße bei weniger als 7 liegt.
[0013] Die in der beschriebenen Weise vordispergierten Ruße lassen sich überraschend gut
in dem strahlungsempfindichen Gemisch dispergieren. Die Dispersion zeigt darüber hinaus
eine verbesserte Stabilität. Der Anteil an Ruß liegt im allgemeinen bei 0,5 bis 30
Gew.-%, bevorzugt bei 2 bis 15 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen
Komponenten des Gemisches.
[0014] Herstellen lassen sich die Rußdispersionen aus den Rußen und den Bindemitteln mit
aciden Gruppen mit Hilfe von allgemein bekannten Vorrichtungen. Nach einer Vordispergierung
in einem Dissolver wird die Mischung beispielsweise in einer Kugelmühle feindispergiert.
Hierfür können als Lösemittel dieselben eingesetzt werden, die auch zur Beschichtung
verwendet werden (wie Propylenglykol-monomethylether, Butanon oder γ-Butyrolacton).
Der Gesamtgehalt an Gesamtfeststoff in der Dispersionen liegt allgemein bei 5 bis
50 Gew.-%, wobei der Anteil an Ruß bevorzugt unter der Menge an Bindemittel liegt.
In manchen Fällen lässt sich durch Zugabe von Tensiden oder Verdickungsmitteln die
Stabilität der Dispersion verbessern. Bevorzugt werden dazu Tenside bzw. Verdicker
gewählt, die in den wässrig-alkalischen Entwicklern löslich sind.
[0015] Neben den genannten Komponenten kann das Gemisch weitere, in Aufzeichnungsmaterialien
für die Herstellung von Druckplatten allgemein übliche Zusätze enthalten. Insbesondere
sind zu nennen: Indikatorfarbstoffe (beispielsweise Dialkylaminoazobenzole), photochemische
Säurebildner (beispielsweise Trifluormethansulfonate oder Hexafluorphosphate von Diazodiphenylaminen),
Tenside (bevorzugt fluorhaltige Tenside oder Silikon-Tenside), Polyalkylenoxide zur
Steuerung der Acidität der aciden Einheiten und niedermolekulare Verbindungen mit
aciden Einheiten zur Erhöhung der Entwicklungsgeschwindigkeit.
[0016] Teil der vorliegenden Erfindung ist darüber hinaus ein Aufzeichnungsmaterial mit
einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, wobei die Schicht aus dem
erfindungsgemäßen Gemisch besteht. Das strahlungsempfindliche Gemisch lässt sich jedoch
auch für andere Zwecke einsetzen, z.B. als Photoresist.
[0017] Der Träger in dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial ist bevorzugt eine Aluminiumfolie
oder ein Verbund aus einer Aluminiumfolie und einer Polyesterfolie. Die Aluminiumoberfläche
ist bevorzugt aufgerauht, eloxiert und mit einer Verbindung, die mindestens eine Phosphonsäure-
oder Phosphonateinheit enthält, hydrophiliert. Vor der Aufrauhung kann eine Entfettung
und Beizung mit Laugen sowie eine mechanische und/oder chemische Voraufrauhung erfolgen.
Diese Träger werden dann mit einer Lösung des oben beschriebenen strahlungsempfindlichen
Gemisches in einem (organischen) Lösemittel oder Lösemittelgemisch beschichtet und
anschließend getrocknet.
[0018] Gegenstand der Anmeldung ist schließlich ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform,
in dem das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial mit Infrarotstrahlung bildmäßig
bestrahlt und anschließend mit einem wässrig-alkalischen Entwickler bei einer Temperatur
von 20 bis 40 °C entwickelt wird.
[0019] Der Entwickler weist bevorzugt ein Verhältnis von Siliciumdioxid zu Alkalioxid von
1 oder größer als 1 auf. Dadurch ist sichergestellt, dass keine Schädigung der Eloxalschicht
im Entwicklungsprozess erfolgt. Bevorzugte Alkalioxide sind Na
20 und K
20 sowie Mischungen davon. Neben Alkalisilikaten kann der Entwickler weitere Bestandteile
enthalten (wie Puffersubstanzen, Komplexbildner, Entschäumer, Lösemittel, Korrosionsinhibitoren,
Farbstoffe, Tenside und/oder Hydrotrope). Die Entwicklung wird bevorzugt bei Temperaturen
von 20 bis 40 °C in maschinellen Verarbeitungsanlagen durchgeführt. Zur Regenerierung
werden Alkalisilikatlösungen verwendet mit Alkaligehalten von 0,6 bis 2,0 mol/l. Diese
Lösungen können das gleiche Sliciumdioxid/Alkalioxid-Verhältnis wie der Entwickler
besitzen (in der Regel ist es jedoch niedriger) und ebenfalls weitere Zusätze enthalten.
Die erforderlichen Mengen an Regenerat müssen auf die verwendeten Entwicklungsgeräte,
täglichen Plattendurchsätze, Bildanteile etc. abgestimmt werden und liegen im allgemeinen
bei 1 bis 50 ml pro Quadratmeter Aufzeichnungsmaterial. Eine Regelung der Zugabe kann
beispielsweise über die Leitwertmessung erfolgen ( vgl. EP-A 556 690).
[0020] Zur Erhöhung der Widerstandsfähigkeit beim Drucken sowie zur Erhöhung der Resistenz
gegen Auswaschmittel, Korrekturmittel und UV-härtbare Druckfarben können die entwickelten
Platten kurzzeitig auf erhöhte Temperaturen erwärmt werden, wie es für Diazoschichten
aus der GB-B 1 154 749 bekannt ist.
[0021] Die nachfolgenden Beispiele erläutern im Detail den Gegenstand der Erfindung. Vergleichsbeispiele
bzw. -substanzen sind mit Sternchen (*) gekennzeichnet. Prozente sind Gewichtsprozente
und Verhältnisse sind Gewichtsverhältnisse, soweit nicht anders angegeben.
Beispiel 1
[0022] Ein nachoxidierter Gasruß mit einer mittleren Primärteilchengröße von 20 nm (die
wässrige Dispersion dieses Rußes weist einen pH-Wert von 3 auf) und einer BET-Oberfläche
von 300 m
2/g wird mit den nachfolgend aufgeführten Harzen
- 1-1:
- meta-/para-Kresol-Formaldehyd-Novolak
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen : 8,3 mmol/g)
- 1-2:
- Copolymer aus Methacrylsäure und (2-Hydroxy-ethyl)-methacrylat
(Gehalt an Carboxygruppen: 1,6 mmol/g)
- 1-3:
- Homopolymer aus (4-Hydroxy-3,5-dimethyl-benzyl)-methacrylamid
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen: 4,5 mmol/g)
- 1-4:
- Copolymer aus (2-Hydroxy-phenyl)-methacrylat und Methylmethacrylat
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen: 4,7 mmol/g)
- 1-5:
- Homopolymer aus 4-Sulfamoylphenyl-methacrylamid
(Gehalt an Sulfamoylgruppen: 4,1 mmol/g)
- 1-6:
- Homopolymer aus (4-Hydroxy-phenyl)-acrylamid
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen: 6,1 mmol/g )
- 1-7:
- Kondensationsprodukt aus Pyrrogallol und Aceton
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen: 18,1 mmol/g )
- 1-8:
- Poly(4-Hydroxy-styrol)
(Gehalt an phenolischen Hydroxygruppen: 8,3 mmol/g)
- 1-9*:
- Polyvinylbutyral
(enthält keine aciden Gruppen mit einem pKs von weniger als 13)
zu einer Dispersion verarbeitet. Der Gesamtfeststoffgehalt der Dispersion betrug
30 %. Das Verhältnis von Ruß zu Harz lag bei 1:2. Als Lösemittel diente Propylenglykolmonomethylether
(PGME). In einem Dissolver wurde vordispergiert und in einer Kugelmühle feindispergiert.
[0023] Es wurden Beschichtungslösungen hergestellt aus
- 20 Gew.-%
- eines Veresterungsprodukts aus 1 mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon und 1,5 mol 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid,
- 20 Gew.-%
- (bezogen auf den Feststoff) der jeweiligen Rußdispersion (1-1 bis 1-9*),
- 3 Gew.-%
- 2,4-Dihydroxy-benzophenon,
- ad 100 Gew.-%
- Novolak aus Dispersion 1-1
in Propylenglykolmonomethylether und Tetrahydrofuran (1:1) mit einem Gesamtfeststoffgehalt
von 11 Gew.-%.
[0024] Diese Lösungen wurden auf in Salzsäure aufgerauhte, in Schwefelsäure anodisierte
und mit Polyvinylphosphonsäure hydrophilierte Aluminiumfolien aufgebracht. Nach 2
min Trocknen bei 100 °C lag die Schichtdicke bei 2 µm.
[0025] Diese Aufzeichnungsmaterialien wurden dann in einem Innentrommelbelichter mit Infrarotstrahlung
belichtet. Dabei wurde ein Nd-YAG-Laser mit einer Leistung von 8,0 W, einer Schreibgeschwindigkeit
von 367 m/s und einer Strahlbreite von 10 µm eingesetzt.
[0026] Die Entwicklung erfolgte in einem herkömmlichen Prozessor bei einer Durchlaufgeschwindigkeit
von 0,4 m/min und einer Temperatur von 28°C mit einem Kaliumsilikatentwickler, der
K
2SiO
3 (Normalität 0,8 mol/l in Wasser) sowie 0,2 Gew.-% Polyglykol-1000-dicarbonsäure und
0,4 Gew.-% Pelargonsäure enthielt.
[0027] Die mit den vordispergierten Rußen 1-1 bis 1-8 hergestellten Aufzeichnungsmaterialien
ließen sich restschichtfrei entwickeln. Das mit dem Ruß 1-9* hergestellte Aufzeichnungsmaterial
zeigte Restschichtschleier, die in der Druckmaschine zum Tonen führten.
Beispiel 2
[0028] Beispiel 1 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, dass die Infrarotbelichtung
mit einem Außentrommelbelichter vorgenommen wurde, der mit einer Laserdiodenleiste
mit einem Emissionsmaximum bei 830 nm ausgestattet war (Leistung jeder einzelnen Diode:
40 mW, Schreibgeschwindigkeit: 1 m/s, Strahlbreite 10 µm). Die Entwicklung erfolgte
gemäß Beispiel 1, das Resultat bezüglich Restschichtschleier war dasselbe.
Beispiel 3
[0029] Wie in Beispiel 1 beschrieben, werden Dispersionen der folgenden Rußtypen hergestellt
:
Nr. |
Typ |
Teilchengröße (nm) |
pH-Wert |
BET(m2/g) |
3-1 |
HCC |
13 |
2,5 |
460 |
3-2 |
HCC |
17 |
2,5 |
300 |
3-3 |
MCC |
20 |
2,7 |
240 |
3-4 |
RCC |
25 |
4 |
100 |
3-5 |
LCF |
56 |
3 |
45 |
3-6* |
Flammruß |
95 |
7 |
20 |
Dispergierharz: m-Kresol-Novolak aus Beispiel 1-1
Gesamtfeststoffgehalte der Dispersionen: 30 %
Verhältnis Ruß/Harz: 1:3
Lösemittel: Propylenglykolmonomethylether/Butyrolacton (95:5)
Vordispergierung: Dissolver
Feindispergierung: Kugelmühle
[0030] In 5-Tages-Standtests wurde die Stabilität der Dispersionen ermittelt. Folgende Ergebnisse
wurden erhalten:
- 3-1 bis 3-4:
- gute Stabilität,
- 3-5:
- noch akzeptable Stabilität,
- 3-6*:
- erkennbare Sedimentation
[0031] Es wurden Beschichtungslösungen hergestellt aus
- 13 Gew.-%
- eines Esters aus 1 mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 1,5 mol 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid,
- 2 Gew.-%
- eines Esters aus 1 mol p-Cumylphenol und 1 mol 1,2- Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid,
- 30 Gew.-%
- (bezogen auf den Feststoff ) der jeweiligen Rußdispersion (3-1 bis 3-6*),
- 0,5 Gew.-%
- Dimethylaminoazobenzol,
- 15 Gew.-%
- Poly(4-hydroxy-styrol),
- ad 100 Gew.-%
- des Novolaks aus Dispersion 1-1
in Propylenglykolmonomethylether und Methylethylketon (2:1) mit einem Gesamtfeststoffgehalt
von 11 Gew.-%.
[0032] Diese Lösungen wurden auf eine in Salpetersäure aufgerauhte, in Schwefelsäure anodisierte
und mit Polyvinylphosphonsäure hydrophilierte Aluminiumfolie aufgebracht. Nach 2 min
Trocknen bei 100 °C betrug die Schichtdicke 1,5 µm.
Mit den vordispergierten Rußtypen 3-1 bis 3-5 wurde eine einwandfreie Beschichtung
erhalten. Der vordispergierte Rußtyp 3-6* führte dagegen zu Defekten in der Beschichtung.
Die Druckplatten wurden in einem Innentrommelbelichter mit der Infrarotstrahlung eines
Nd-YAG-Lasers mit 6,5 W Leistung, einer Schreibgeschwindigkeit von 367 m/s und einer
Strahlbreite von 10 µm bestrahlt.
[0033] Die Entwicklung erfolgte in einem herkommlichen Prozessor bei 0,8 m/min bei einer
Entwicklertemperatur von 25 °C mit folgendem Entwickler: Na
2SiO
3 (Normalität 0,8 mol/l), Polyglykol-2000-dicarbonsäure: 0,1 Gew.-%, Caprylsäure: 0,4
Gew.-%. In allen Fällen war eine restschichtfreie Entwicklung möglich.
Beispiel 4
[0034] Beispiel 3 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, dass die Infrarotstrahlung
in einem Außentrommelbelichter vorgenommen wurde, der mit einer Laserdiodenleiste
mit einem Emissionsmaximum bei 830 nm ausgestattet war (Leistung jeder einzelnen Diode:
40 mW, Schreibgeschwindigkeit: 1,1 m/s, Strahlbreite 10 µm). Die Entwicklung erfolgte
wie in Beispiel 3, das Resultat bezüglich Restschichtschleier war das gleiche.
Beispiel 5
[0035] Beispiel 3 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, dass die Belichtung mit
UV-Licht in einem konventionellen Kopierrahmen erfolgte: 5kW-Metallhalogeniddotierte
Quecksilberdampflampe mit einem Emissionsbereich von 350-450 nm, Belichtungsdosis
700 mJ/cm
2. Die Entwicklung erfolgte wie in Beispiel 3; das Resultat bezüglich Restschichtschleier
war das gleiche.
1. Positiv oder negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, dadurch gekennzeichnet,
dass es als IR-absorbierende Komponente ein Rußpigment mit einer Primärteilchengröße
von weniger als 80 nm umfasst, wobei das Rußpigment vordispergiert ist in einem Polymer,
das acide Einheiten mit einem pKS-Wert von kleiner als 13 enthält.
2. Gemisch gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in den aciden Einheiten ein
saures Proton an ein Heteroatom gebunden ist, wobei Einheiten mit Gruppen der Formeln
-NH2 und -NH-, mit phenolischen Hydroxygruppen oder Carboxygruppen bevorzugt sind.
3. Gemisch gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymer je Gramm
mindestens 1 mmol, bevorzugt mindestens 1,5 mmol, an aciden Gruppen enthält.
4. Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass
das Rußpigment eine BET-Oberfläche von mindestens 30 m2 pro Gramm besitzt.
5. Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass
eine Dispersion des Rußpigments in Wasser einen pH-Wert von weniger als 7 aufweist.
6. Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass
das Rußpigment eine mittlere Primärteilchengröße von weniger als 60 nm, bevorzugt
weniger als 30 nm, besitzt.
7. Gemisch gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass
die strahlungsempfindliche Komponente in der Schicht ein Diazoniumsalz, eine Kombination
aus einem Photopolymerisationsinitiator und einem polymerisierbaren Monomer, eine
Kombination aus einer Verbindung, die bei Bestrahlung Säure bildet, und einer durch
die photochemisch erzeugte Säure spaltbaren Verbindung oder ein Ester aus einer 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-
oder -5-sulfonsäure und einer Verbindung mit mindestens einer phenolischen Hydroxygruppe
ist.
8. Gemisch gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die phenolische Hydroxygruppen
enthaltende Verbindung mindestens 3 , bevorzugt 3 bis 6, phenolische Hydroxygruppen
besitzt.
9. Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht,
dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht aus dem Gemisch gemäß einem oder mehreren
der Ansprüche 1 bis 8 besteht.
10. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger aus
einer Aluminiumfolie besteht.
11. Verfahren zur Herstellung einer Druckform, worin ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
gemäß den Ansprüchen 9 bis 10 mit Infrarotstrahlung bildmäßig bestrahlt und anschließend
mit einer wässrig-alkalischen Lösung bei einer Temperatur von 20 - 40°C entwickelt
wird.