[0001] Die Erfindung betrifft einen fälschungssicheren Träger nach dem Oberbegriff des Anspruchs
1, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines fälschungssicheren Trägers.
[0002] Als Fälschungsschutz für Produkte, Dokumente und Ausweise werden optisch variable
Elemente eingesetzt. Optisch variable Elemente enthalten Strukturen sehr hoher Auflösung,
die spezielle optische Effekte erzeugen. Solche Strukturen sind schwer zu kopieren
und können meist mit normaler Drucktechnik nicht dargestellt werden. Optisch variable
Elemente können Strukturen enthalten, die für das bloße Auge sichtbar und verifizierbar
sind sowie Strukturen, die entweder mit einfachen oder mit speziellen Lesegeräten
überprüfbar sind. Optisch variable Elemente sind weithin bekannt und werden vielfältig
eingesetzt. Zu den optisch variablen Elementen zählen z.B. Hologramme, Kinegramme
und Lithogramme. Die Strukturen, die in optisch variablen Elementen enthalten sind,
können Hologramme sein, speziell Regenbogenhologramme, Transmissionshologramme, Reflektionshologramme,
2D-Hologramme, 3D-Hologramme, Fourierhologramme, Fresnelhologramme, Volumenhologramme
und Kinoforms. Solche Hologramme können entweder direkt optisch erzeugt werden oder
im Computer berechnet werden. Weiterhin können diffraktive Strukturen enthalten sein,
insbesondere Beugungsgitter. Es können refraktive Strukturen enthalten sein, wie Fresnellinsen
oder geblazte Gitter. Es können streuende Elemente enthalten sein, wie Diffusoren.
In der Literatur sind noch zahlreiche weitere Strukturen beschrieben, die in optisch
variablen Elementen enthalten sein können. Die verschiedenen Strukturen können teilweise
überlagert werden, um in der gleichen Region des optisch variablen Elements zwei oder
mehr Effekte unterbringen zu können. Die verschiedenen Strukturen können verwendet
werden, um graphische Elemente zu gestalten, wie Guillochen, Logos, Bilder, Linien,
Flächen usw. Weiterhin können textuelle Elemente gestaltet werden, wie Schriftzüge,
numerische oder alphanumerische Seriennummern, Mikroschriften. Weiterhin können funktionale
Elemente gestaltet werden, wie Barcodes oder andere maschinenlesbare Strukturen. Die
verschiedenen Strukturen und Elemente werden auf geschickte Weise zu einem Gesamtdesign
für das variable optische Element verbunden, welches nach Möglichkeit alle Anforderungen
bezüglich Sicherheit, Funktionalität und ästhetischem Eindruck des variablen optischen
Elements erfüllt.
[0003] Optisch variable Elemente können in einem Replikationsprozess hergestellt werden.
Hierzu wird auf aufwändige Art und Weise ein Master-Prägestempel mit einem speziellen
Gesamtdesign erstellt. Solche Master-Prägestempel können in einem Elektronenstrahllithographie-Verfahren
oder in einem Dotmatrix-Verfahren hergestellt werden, wobei hohe Auflösungen erreicht
werden können. Im Fall der Elektronenstrahllithographie können Auflösungen von bis
hinunter zu wenigen Nanometern erreicht werden. Im Fall des Dotmatrix-Verfahrens oder
anderer Interferenzverfahren können Beugungsgitter mit einer Gitterkonstante von bis
hinunter zu wenigen 100 Nanometern erzeugt werden. Von dem Master-Prägestempel können
wiederum Tochterprägestempel erzeugt werden und von diesen weitere Tochterprägestempel.
Die Prägestempel dienen dann in einem Prägeprozess der Prägung einer größeren Menge
von optisch variablen Elementen. Bei einem solchen Prägeprozess sind die erzeugten
optisch variablen Elemente im Wesentlichen alle gleich.
[0004] Die als nächstkommender Stand der Technik angesehene
EP 0420 261 B1 offenbart ein Verfahren, in dem durch Änderungen an verschiedenen Stellen des Prägeprozesses
Individualisierungsmaßnahmen eingebracht werden, um optisch variable Elemente, die
in einem Prägeprozess hergestellt werden, noch sicherer zu machen und um zusätzliche
Daten in die optisch variablen Elemente einzubringen. Dadurch lassen sich dem optisch
variablen Element Batchinformationen oder Seriennummerninformationen hinzufügen. Die
beschriebenen Individualisierungsmaßnahmen sind jedoch beschränkt und beziehen sich
auf Zerstörung, Überdrucken oder Nichtbenutzung bestimmter Bereiche im ursprünglichen
Design, da das ursprüngliche Design durch die genannten Maßnahmen nicht umgestaltet
werden kann. Durch die beschriebenen Individualisierungsmaßnahmen lassen sich insbesondere
keine holographischen, diffraktiven oder anderweitig optisch variablen individuellen
Strukturen erzeugen.
[0005] WO 2010/028 758 A1 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements, bei dem ein Schichtverbund
mit einer Maskenschicht - das kann eine geprägte Metallschicht sein - und einem lasermodifizierbaren
Markierungsstoff mit Laserstrahlung beaufschlagt wird, um gleichzeitig und passergenau
Negativkennzeichnungen in der Maskenschicht und farbveränderte Kennzeichnungen in
dem Markierungsstoff zu erzeugen.
[0006] Aus
DE 10 2006 032 234 A1 ist eine Banknote bekannt, die eine Trägerschicht mit einer Aussparung und eine transparente
Fensterfolie umfasst, die die Aussparung abdeckt und mit der Trägerschicht verbunden
ist; durch ein individualisierendes Merkmal - das kann eine lithographische Mikrostruktur
sein - wird ein Sicherheitsmerkmal erzeugt, das im Bereich der Aussparung mit der
Fensterfolie verbunden ist.
[0007] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Träger noch fälschungssicherer zu machen
sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung zur Verfügung zu stellen.
[0008] Die Aufgabe wird hinsichtlich des Erzeugnisses durch einen fälschungssicheren Träger
mit den Merkmalen des Anspruchs 1 erfüllt. Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand
der abhängigen Erzeugnisansprüche.
[0009] Die erfindungsgemäßen fälschungssicheren Träger können vielfältige Gestalt annehmen.
Sie können insbesondere als selbstklebendes Etikett oder als Heißsiegelmaterial ausgelegt
sein. Die Etikettenform bzw. die Form des Heißsiegelstempels kann beliebig sein, z.B.
kreisförmig, oval, polygonal, polygonal mit abgerundeten Ecken usw. Im Falle des Heißsiegelmaterials
kann das Gesamtdesign auch als langer Streifen ausgelegt sein, der auf das Substrat
in gesamter Länge gesiegelt wird. Solche Streifen sind von Eintrittskarten, Fahrkarten
oder Banknoten her bekannt. Überraschend hat sich gezeigt, dass die Fälschungssicherheit
von Trägern von optisch variabler Elemente erhöht werden kann, wenn die optisch variablen
Elemente eine nicht-individuelle Prägestruktur aufweisen und das wenigstens eine optisch
variable Element zusätzlich eine individuelle laserlithographische Struktur mit einer
Auflösung von unter 20 µm aufweist. Der erfindungsgemäße fälschungssichere Träger
weist mindestens eine metallisierte Schicht auf, wobei vorzugsweise die nicht-individuelle
Prägestruktur wie auch die individuelle laserlithographische Struktur in dieselbe
metallisierte Schicht eingebracht sind. Durch das kombinierte Zusammenfügen von nicht-individueller
Prägestruktur und individueller laserlithographischer Struktur in demselben optisch
variablen Element wird dessen Nachbau erheblich erschwert.
[0010] Die lithographische Struktur weist dafür eine Auflösung von unter 20 µm, vorzugsweise
unter 5 µm auf. Dabei bedeutet Auflösung unter 20 µm bzw. 5 µm, dass die strukturbedingenden
Verkörperungen Ausdehnungen von unter 20 µm bzw. 5 µm und Abstände voneinander von
unter 20 µm bzw. 5 µm aufweisen. Diese Ausdehnungen und Abstände werden vorzugsweise
an jeder der Verkörperungen, zumindest jedoch von einer Mehrzahl der Verkörperungen
eingehalten. Bei durch einen Laser in die metallisierte Schicht eingebrachten Pixeln
bedeutet diese Auflösung, dass der einzelne Pixel einen Durchmesser von unter 20 µm
bzw. 5 µm aufweisen soll und der Abstand der Pixel voneinander unter 20 µm bzw. 5
µm liegen soll.
[0011] Der Begriff des Trägers ist hier sehr allgemein zu verstehen, es kann sich dabei
um verformbaren Streifen, insbesondere eine streifenartige mehrschichtige Folie, ein
Klebeband, aber auch um einen steifen Streifen handeln.
[0012] Entlang des Trägers sind ein variables optisches Element oder auch mehrere variable
optische Elemente, vorzugsweise entlang des Trägers angeordnet. Vorzugsweise ist der
Träger zwischen den optisch variablen Elementen trennbar, so dass jedes einzelne optisch
variable Element als klebbares oder heißsiegelbares Etikett, Holospot o.Ä. weiterverwendbar
ist.
[0013] Als Substratmaterial für den Träger werden unter anderem metallisierte Folien oder
metallisierte Lacke verwendet. Hierbei kann erst geprägt und dann metallisiert werden
oder umgekehrt. Das Relief der Prägung kann dabei in die Metallschicht eingeprägt
sein. Die Metallschicht wird durch die Prägung nicht zerstört und dient als Reflexionsschicht,
um das von der geprägten Struktur gebeugte Licht wieder in den Raum zurück zu spiegeln.
[0014] In manchen Anwendungen, z.B. um die Sicherheit zu erhöhen, kann es wünschenswert
sein, dass die Metallschicht teilweise demetallisiert wird. Dies wird im Falle der
geprägten optisch variablen Elemente in der Regel in einem zweiten, von der Prägung
unabhängigen Prozess bewerkstelligt.
[0015] DE 34 30 111 C1 beschreibt einen solchen Prozess. Es kann vor der Metallisierung eine Release-Schicht
partiell aufgebracht werden, die nach der Metallisierung mitsamt der Metallschicht
ausgewaschen wird. An den Stellen, an denen keine Release-Schicht aufgebracht wurde,
bleibt das Metall erhalten. Hier besteht die Schwierigkeit, die Prägung passgenau
zur partiell demetallisierten Metallschicht auszurichten. Weiterhin ist eine Individualisierung
solcher Demetallisierungen nicht beschrieben. Da in solchen Verfahren Druckprozesse
verwendet werden, um die Release Schicht aufzubringen, ist die Auflösung in diesen
Verfahren begrenzt. Typischerweise werden minimal 20 Mikrometer erreicht.
[0016] Eine Möglichkeit der individuellen Demetallisierung beschreibt
DE 41 31 964 A1. Hier wird ein Laserbeschriftungsverfahren verwendet, um die Metallschicht eines
Hologramms individuell zu demetallisieren. Allerdings lassen sich in diesem Verfahren
durch den Laserstrahl keine holographischen, diffraktiven oder anderweitig optisch
variablen individuellen Strukturen erzeugen. Weiterhin ist die Auflösung in der Demetallisierung
eines solchen Laserbeschriftungsverfahrens begrenzt. Typischerweise werden minimal
20 Mikrometer erreicht.
[0017] Keine Einschränkungen bei der Individualisierung sind bei der direkten Herstellung
von optisch variablen Elementen gegeben. Hierbei werden die optisch variablen Elemente
nicht über einen Replikationsprozess erzeugt, sondern direkt in das Zielsubstrat oder
in ein Zwischenprodukt eingebracht. Dies kann z.B. durch individuelles Belichten eines
photoempfindlichen Films mit anschließender Entwicklung geschehen. Ein anderes Beispiel
ist die hochauflösende Laserlithographie, bei der die gewünschten Strukturen mithilfe
eines Laserstrahls direkt in eine lasersensible Schicht eingebracht werden. Hierbei
gibt es Verfahren, die eine anschließende Entwicklung benötigen und solche, bei der
das optisch variable Element nicht mehr entwickelt werden muss. Hierbei ist die hochaufgelöste
Laserlithographie von der klassischen Laserbeschriftung abzugrenzen, da nur bei der
hochaufgelösten Laserlithographie so kleine Strukturgrößen erreicht werden, dass eine
Verwendung der belichteten Struktur als optisch variables Element möglich ist. Im
Folgenden wird ausschließlich auf die hochaufgelöste Laserlithographie Bezug genommen,
bei der die Basisauflösung und die Strukturgrößen kleiner als 20 µm sind, bevorzugt
kleiner als 5 µm.
[0018] Bei der Laserlithographie wird eine zu belichtende Struktur mittels eines Laserstrahls
in ein Substrat übertragen. Die zu belichtende Struktur wird vorgegeben oder mittels
eines Computers berechnet und liegt in Form von Bild- oder Vektordaten vor. Die Bild-
oder Vektordaten werden von dem Laserlithographen zur Steuerung von Position des Laserstrahls
relativ zum Substrat verwendet sowie zur Steuerung der Intensität und der Einwirkdauer
des auf das Substrat auftreffenden Laserstrahls. In der Laserlithographie haben sich
mehrere Verfahren etabliert. So kann ein Schreibstrahl fest im Raum stehen und das
Substrat relativ zu diesem bewegt werden. Es kann auch das Substrat fest im Raum stehen
und der Schreibstrahl relativ zu diesem bewegt werden. Weiterhin können sowohl Substrat
als auch Laserstrahl bewegt werden. Es ist auch möglich, den Schreibstrahl mittels
eines Flächenlichtmodulators zu modulieren und so eine größere Fläche des Substrats
auf einmal zu belichten. Auch bei diesem Prinzip können Schreibstrahl und Substrat
bewegt werden.
[0019] Bei der Laserlithographie ist die Auflösung durch die verwendete Wellenlänge und
durch die verwendete Optik begrenzt. Um möglichst hochauflösende Strukturen erzeugen
zu können, werden daher bevorzugt kleine Wellenlängen verwendet. Geeignete Wellenlängen
sind im Bereich von 0.2 µm bis 10 µm, bevorzugt im Bereich von 0.2 µm bis 1 µm. Kleinere
Wellenlängen sind ebenfalls möglich. Bei diesen Wellenlängen können Strukturen erzeugt
werden, die im Bereich des sichtbaren Lichts (Wellenlänge ca. 0.4 µm bis 0.7 µm) wirksam
sind. So können Beugungsgitter mit Gitterkonstanten in der Größenordnung des sichtbaren
Lichts erzeugt werden, die große Beugungswinkel besitzen und deswegen besonders gut
wahrgenommen werden können. Auch Hologramme haben entsprechend große Beugungswinkel.
Optisch variable Elemente können nur mit hochaufgelöster Laserlithographie erzeugt
werden, wobei die Basisauflösung kleiner als 20 µm sein muss, bevorzugt kleiner als
5 µm.
[0020] Mit Laserlithographie hergestellte optische Elemente können herstellungsbedingt im
Design voll individualisiert sein. Sämtliche Strukturen können individuell ausgeführt
sein. Dies kann mithilfe von numerischen oder alphanumerischen Seriennummern geschehen
oder durch individuelle graphische Elemente wie Bilder oder Guillochen.
[0021] Als Substratmaterial für die Laserlithographie werden wie bei den geprägten optisch
variablen Elementen unter anderem metallisierte Folien oder metallisierte Lacke verwendet.
In diesem Fall lässt sich der Laserstrahl in Wellenlänge, Intensität, Pulsdauer, Form
und Schreibenergie so einstellen, dass das Substratmaterial an bestimmten vordefinierten
Stellen demetallisiert und dadurch transparent oder semitransparent wird. Dies geschieht
entweder durch Ablation der Metallschicht, durch Verschiebung der Metallschicht zu
den Rändern der belichteten Stelle hin oder durch Umwandlung der Metallschicht in
eine transparente oder semitransparente Oxidschicht. Es kann auch eine Mischung der
drei genannten Effekte stattfinden. Die Demetallisierung kann passgenau zu den anderen
durch Laserlithographie erzeugbaren Strukturen ausgerichtet werden, da sie im selben
Belichtungsvorgang eingebracht werden kann. Da die Demetallisierung bei der Laserlithographie
prinzipiell mit der hohen Auflösung des laserlithographischen Prozesses erfolgt, können
damit hochaufgelöste demetallisierte Strukturen erzeugt werden. Dazu zählen Mikroschriften,
streuende Strukturen, Grauwerte oder Grauwertkeile. Solche Grauwerte können durch
geeignete Rasterung in einem Halbtonverfahren erzeugt werden, wobei in einer Fläche
nur ein gewisser Anteil der Fläche gerastert demetallisiert wird. Bei Grauwertkeilen
nimmt der demetallisierte Flächenanteil durch Anpassung der Rasterung in der Fläche
graduell zu.
[0022] Neben einer vollständigen Demetallisierung ist bei der Laserlithographie auch eine
Reduzierung der Dicke der Metallschicht möglich durch exaktes Einstellen der eingebrachten
Laserenergie während des Schreibprozesses. Durch die Reduzierung der Dicke der Metallschicht
steigt die Lichtdurchlässigkeit der Metallschicht. Auch dadurch lassen sich Grauwerte
und Graukeile erzeugen.
[0023] Die Herstellung optisch variabler Elemente mit hochauflösender Laserlithographie
ist gewissen Limitierungen unterworfen. So ist die Basisauflösung durch die verwendete
Wellenlänge des Schreiblasers und durch die verwendete Optik begrenzt. Da bei einer
Massenproduktion hohe Schreibgeschwindigkeiten und somit ein hoher Durchsatz erzielt
werden sollen, ist es erstrebenswert, die Auflösung weiter zu reduzieren, da dann
größere Flächen in kürzerer Zeit belichtet werden können. Typische verwendete Basisauflösungen
sind hier 0.5 µm bis 5 µm. Es ist also bei der Laserlithographie von einer begrenzten
Auflösung auszugehen. Bei der Herstellung von beugenden Strukturen, wie z.B. Gitter
oder Hologramme können durch die begrenzte Auflösung nicht alle Beugungswinkel erreicht
werden. Weiterhin ist die mit Laserlithographie zu erreichende Phasen- oder Amplitudenmodulation
im Material nicht ideal, so dass nicht die theoretisch maximal mögliche Beugungseffizienz
der beugenden Strukturen erzielt wird.
[0024] Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass die Einschränkungen, denen die geprägten optisch
variablen Elemente unterliegen und die Einschränkungen, denen die laserlithographisch
erzeugten optisch variablen Elementen unterliegen, teilweise komplementär sind. So
können geprägte optisch variable Elemente nicht auf einfache Weise voll individualisiert
werden, während dies bei laserlithographisch erzeugten optisch variablen Elementen
der Fall ist. Geprägte optisch variable Elemente können nur in einem zweiten Prozessschritt
demetallisiert werden, während laserlithographisch erzeugte optisch variable Elemente
in einem Prozess passgenau belichtet und demetallisiert werden können. Die Demetallisierung
der geprägten optisch variablen Elemente erfolgt mit niedriger Auflösung, während
die Demetallisierung im laserlithographischen Prozess mit voller Auflösung des Prozesses
vorgenommen werden kann. Laserlithographisch erzeugte optisch variable Elemente unterliegen
meist der Einschränkung einer begrenzten Auflösung, während eine solche Begrenzung
bei den geprägten optisch variablen Elementen nicht besteht. Weiterhin unterliegen
sie meist der Einschränkung einer begrenzten Beugungseffizienz, während mit optisch
variablen Elementen sehr hohe Beugungseffizienzen erzielt werden können.
[0025] Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass es Substratmaterial gibt, welches sowohl für
geprägte optisch variable Elemente geeignet ist als auch für laserlithographisch erzeugte
optisch variable Elemente geeignet ist. Bei solchen Materialien handelt es sich um
metallisierte Folien oder Lacke in einem Schichtverbund. Um eine effiziente laserlithographische
Belichtung zu ermöglichen, sollte die optische Dichte (OD) möglichst gering sein.
Andererseits wird der Verspiegelungsgrad der metallisierten Schicht umso geringer,
je geringer die OD ist. Als geeigneter Bereich für die OD hat sich der Bereich von
0.1 bis 10 herausgestellt, bevorzugt 0.8 bis 3.
[0026] Hinsichtlich des Verfahrens wird die Aufgabe durch ein Verfahren mit den Merkmalen
des Anspruchs 9 gelöst. Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen
Unteransprüche.
[0027] Erfindungsgemäß wird eine nicht-individuelle Prägestruktur in die Metallschicht eines
Trägers geprägt und zusätzlich eine laserlithographische Struktur in die metallisierte
Schicht mittels eines Lasers belichtet. Dabei wird die lithographische Struktur mit
einer Auflösung von unter 20 µm vorzugsweise unter 5 µm belichtet, und die Prägestruktur
und die lithographische Struktur bilden gemeinsam wenigstens ein optisch variables
Element aus. Es sind aber auch höhere Auflösungen von 1 µm oder weniger denkbar.
[0028] In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung werden die optisch variablen Elemente
in einem ersten Prozessschritt geprägt und in einem zweiten Prozessschritt laserlithographisch
belichtet. In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden die optisch variablen
Elemente in einem ersten Prozessschritt laserlithographisch belichtet und in einem
zweiten Prozessschritt geprägt. In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden
die optisch variablen Elemente zunächst geprägt, anschließend auf einen Gegenstand
aufgebracht, bevorzugt aufgeklebt oder aufgesiegelt und in einem weiteren Prozessschritt
anschießend laserlithographisch belichtet. In diesem Falle kann der Gegenstand z.B.
ein Produkt, eine Produktverpackung, ein Ausweis, eine Banknote, ein Dokument, eine
Plastikkarte, eine Folie oder ein Etikett sein.
[0029] Als Basismaterial für die die Erfindung betreffenden optisch variablen Elemente kommen
Materialien in Frage, die sowohl geprägt als auch laserlithographisch belichtet werden
können. Insbesondere sind dies metallisierte Lacke oder Folien, insbesondere Polymerfolien,
z.B. PET, PMMA, PVC, BoPP. Bevorzugt befinden sich die metallisierten Lacke oder Folien
in einem Schichtverbund, in dem auch weitere Schichten vorhanden sind, z.B. weitere
Lackschichten oder Folien, insbesondere Polymerfolien oder Kleberschichten, z.B. Acrylatklebemasse
oder Heißkleber. Bevorzugt handelt es sich bei dem Basismaterial um Etikettenmaterial
mit mindestens einer Kleberschicht. In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform
handelt es sich bei dem Basismaterial um Heißsiegelfolie, die eine metallisierte Schicht
und eine Heißkleberschicht enthält. In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform
handelt es sich bei dem Basismaterial um Kaltsiegelfolie, die eine metallisierte Schicht
enthält. Die Metallisierung der Lacke oder Folien kann durch Bedampfung, Sputtering
oder durch Bedruckung mit einer Metallpigmentfarbe erzeugt werden. Die Metallisierung
kann an der Oberfläche des Basismaterials sein, oder sie kann innenliegend sein.
[0030] Die erfindungsgemäße Prägung des optisch variablen Elements erfolgt mit einem nichtindividuellen
Gesamtdesign, welches massenhaft repliziert wird und welches unter anderem alle von
geprägten optisch variablen Elementen bekannten Strukturen enthalten kann. Dieses
nicht-individuelle Gesamtdesign wird Prägestruktur genannt.
[0031] Das Gesamtdesign der laserlithographischen Belichtung kann sowohl statische, sich
wiederholende Strukturen als auch serielle, sich ändernde Strukturen, wie z.B. numerische
oder alphanumerische Seriennummern, Hologramme von solchen Seriennummern oder individuelle
Grafiken enthalten. Das Gesamtdesign der laserlithographischen Belichtung kann auch
Bereiche enthalten, die demetallisiert werden oder die gerastert demetallisiert werden.
Das Gesamtdesign der laserlithographischen Belichtung wird laserlithographische Struktur
genannt.
[0032] Erfindungsgemäß bilden die nicht-individuelle Prägestruktur und die individuelle
laserlithographische Struktur gemeinsam wenigstens ein optisch variables Element aus.
Hierbei können die Prägestruktur und die laserlithographische Struktur oder einzelne
Bereiche daraus räumlich getrennt voneinander angeordnet sein. Weiterhin können die
Prägestruktur und die laserlithographische Struktur oder einzelne Bereiche daraus
teilweise oder ganz überlappend angeordnet sein. Weiterhin können die Prägestruktur
und die laserlithographische Struktur oder einzelne Bereiche daraus verkämmt oder
verschachtelt zueinander angeordnet sein.
[0033] Durch die Erfindung kann ein optisch variables Element hergestellt werden, welches
sowohl Strukturen enthält, die ausschließlich durch Prägung hergestellt werden können
als auch Strukturen, die ausschließlich durch Laserlithographie hergestellt werden
können. Durch die Verknüpfung der Prägestruktur mit der laserlithographischen Struktur
können die einzelnen Strukturen graphisch und logisch kombiniert werden. Die einzelnen
Strukturen können sich gegenseitig ergänzen. Durch die Möglichkeit der Demetallisierung,
die die Laserlithographie bietet, können einzelne Bereiche der Prägestruktur individuell
zerstört werden.
[0034] Durch die Verknüpfung der Prägestruktur mit der laserlithographischen Struktur können
neue Strukturen entstehen, die von herkömmlichen, nicht gemäß der Erfindung erzeugten
optisch variablen Elementen nicht bekannt sind. Beispielsweise können durch die bei
der Laserlithographie mögliche hochaufgelöste Demetallisierung Strukturen der Prägestruktur
partiell oder ganz zerstört werden. Diese Zerstörung kann individuell erfolgen. Da
die Demetallisierung hochaufgelöst ist, kann eine Rasterung bei der Demetallisierung
verwendet werden, wobei die Prägestruktur an diesen Stellen graduell zerstört wird.
Insbesondere kann durch die Rasterung ein Grauverlauf in der Demetallisierung und
somit ein Grauverlauf der Prägestruktur erzeugt werden, der vom menschlichen Auge
als gradueller Übergang aufgefasst wird. Solche Strukturen sind mit herkömmlichen
Methoden nicht herstellbar. Anstelle der Rasterung kann ein Grauwert oder ein Grauverlauf
in der Demetallisierung auch durch gezielte Modulation der verwendeten Laserleistung
während der laserlithographischen Belichtung erzielt werden. Ein weiteres Bespiel
für neue Strukturen sind feine diffraktive Strukturen, z.B. Linien oder Punkte, mit
hoher Beugungseffizienz und beliebigen Beugungswinkeln, die individuell sein können.
Hierbei wird eine vorgegebene diffraktive Fläche des geprägten Designs weitgehend
demetallisiert, so dass nur feine Strukturen übrig bleiben. Diese übrig gebliebenen
metallisierten feinen Strukturen können eine sehr hohe Beugungseffizienz und beliebige
Beugungswinkel haben, da diese beiden Faktoren von der Prägung bestimmt werden, und
sie können individuell und hochaufgelöst sein, da sie laserlithographisch erzeugt
werden. Die Feinheit der Strukturen ist durch die hohe Auflösung der Laserlithographie
gegeben, die wesentlich höher ist als die Auflösung anderer Methoden zur Demetallisierung.
[0035] In einer bevorzugten Ausführungsform kann die laserlithographische Belichtung passgenau
zur Prägung erfolgen. Dies kann geschehen, wenn in der Herstellung des optisch variablen
Elements zunächst die Prägung erfolgt und anschließend die Laserlithographie. Die
Passgenauigkeit kann durch spezielle Maßnahmen bei der Laserlithographie gewährleistet
werden, z.B. durch die Aufnahme von Merkmalen aus der vorgeprägten Struktur mittels
Triggersensoren oder Kameras. Solche Merkmale können als Triggermarken eigens zur
Erzielung der hohen Passgenauigkeit in das geprägte Design integriert werden. Da Laserlithographen
in der Regel eine hohe Genauigkeit und Führungstreue beim Materialtransport haben,
stellt die passgenaue Ausrichtung des laserlithographischen Designs zum geprägten
Design keine außergewöhnlichen Anforderungen an den Laserlithographen. Eine Passgenauigkeit
in der Größenordnung der Auflösung des Laserlithographen kann erzielt werden.
[0036] Erfolgt im Herstellungsprozess zunächst die Laserlithographie und anschließend die
Prägung, so kann die Prägung passgenau auf die durch Laserlithographie eingebrachten
Strukturen gesetzt werden. Hierzu muss die Position der laserlithographischen Struktur
zunächst mittels Triggersensoren oder Kameras aufgenommen werden und anschließend
die Prägeposition an diese Position angepasst werden. Dies kann durch laterales oder
zeitliches Versetzen des Prägeprozesses geschehen oder durch Dehnung des Substratmaterials.
[0037] Bei geschickter Wahl der vorgeprägten Struktur oder der laserlithographischen Struktur
kann in einer weiteren Ausführungsform der Erfindung auf eine passgenaue Ausrichtung
der beiden Strukturen verzichtet werden. Wenn z.B. eine der beiden Strukturen sich
ständig wiederholende graphische Elemente enthält, wie z.B. Guillochen, Sinuslinien,
Zickzacklinien, Streifen oder Punktmuster, ist aufgrund der Wiederholung der Strukturen
keine Passgenauigkeit notwendig. Bevorzugt würde man Prägestrukturen verwenden, die
keine Passgenauigkeit zur laserlithographischen Struktur erfordern.
[0038] Der fälschungssichere Träger kann mit dem optisch variablen Element auf einen Gegenstand,
z.B. ein Produkt, eine Produktverpackung, einen Ausweis, ein Dokument, eine Banknote,
eine Plastikkarte usw. aufgesiegelt oder aufgeklebt werden. Es gibt auch die Möglichkeit,
dass der Träger nach seiner Herstellung auf ein weiteres Etikett aufgesiegelt oder
aufgeklebt wird, welches wiederum selbst auf einen Gegenstand aufgeklebt wird. In
beiden Fällen hat man die Möglichkeit, das Design des Gegenstandes oder des weiteren
Etiketts an das Design des optisch variablen Elements anzupassen. Dies ist insbesondere
dann sinnvoll, wenn Teilbereiche des Trägers demetallisiert sind. Dann kann in den
demetallisierten Teilbereichen auf das darunter liegende Design gesehen werden, welches
sich auf dem Gegenstand oder auf dem weiteren Etikett befindet. Dies ist dadurch möglich,
dass die demetallisierten Teilbereiche transparent oder semitransparent werden. Auf
diese Weise hat man zur Gestaltung neben der Prägestruktur und der laserlithographischen
Struktur noch das Basisdesign des Gegenstandes oder des weiteren Etiketts zur Verfügung.
Dieses Basisdesign kann auf geschickte Weise mit den der Prägestruktur und der laserlithographischen
Struktur zugeordneten Prägedesigns und lithographischen Designs verknüpft sein. Hierbei
kann neben einer graphischen Verknüpfung auch eine logische Verknüpfung erfolgen.
Das Basisdesign kann sowohl statische Elemente enthalten als auch individuelle Elemente,
die z.B. mit einer individuellen Drucktechnik erzeugt werden können. Individuelle
Elemente können numerische oder alphanumerische Seriennummern, Barcodes oder individuelle
Graphiken sein. Die individuellen Anteile des Basisdesigns können logisch und graphisch
mit den individuellen Anteilen des laserlithographischen Designs verknüpft werden.
Beispielsweise kann das Basisdesign eine numerische oder alphanumerische Seriennummer
enthalten, welche ganz oder teilweise in dem laserlithographischen Design wiederholt
wird. Das Basisdesign und das laserlithographische Design können numerische oder alphanumerische
Nummern enthalten, die über eine Datenbank oder über mathematische Operationen miteinander
verknüpft sind. Es können aber auch statische Elemente des Basisdesigns mit individuellen
Elementen des laserlithographischen Designs verknüpft sein. Es können z.B. im laserlithographischen
Design individuell Teilbereiche demetallisiert werden, die es erlauben, auf gewisse
Bereiche des Basisdesigns zu sehen. Auf diese Weise können z.B. Nummern oder Farbfelder
des Basisdesigns individuell sichtbar gemacht werden.
[0039] Die Erfindung wird anhand von Ausführungsbeispielen in elf Figuren beschrieben, dabei
zeigen:
- Fig. 1
- einen erfindungsgemäßen streifenförmigen Träger mit geprägtem und lithographischem
Design ohne Passgenauigkeit,
- Fig. 2
- einen streifenförmigen Träger mit einem Prägedesign und einem lithographischen Design
mit Passgenauigkeit,
- Fig. 3
- den Träger gemäß Fig. 1 mit Stanzlinien für einzelne Etiketten,
- Fig. 4
- den Träger gemäß Fig. 2 mit Stanzlinien für einzelne Etiketten,
- Fig. 5
- fünf Einzelbeispiele für relative Anordnungen von Prägedesign und lithographischem
Design und Stanzlinien,
- Fig. 6
- ein geprägtes Design, ein lithographisches und ein kombiniertes Graukeildesign,
- Fig. 7
- ein aus einem geprägten Design und aus einem lithographischen Design gefertigtes feinstrukturiges
Design,
- Fig. 8
- ein aus einem geprägten Design und einem laserlithographischen Design kombiniertes
Design,
- Fig. 9
- ein weiteres Beispiel für ein aus einem geprägten Design und einem laserlithographischen
Design kombiniertes Design,
- Fig. 10
- ein geprägtes Design, ein laserlithograhisches Design, ein kombiniertes Design auf
einem Etikett, eine Verpackungsoberfläche und das auf die Verpackungsoberfläche aufgebrachte
Etikett,
- Fig. 11
- ein geprägtes Design, ein laserlithographisches Design, ein kombiniertes Design auf
einem Etikett, eine Verpackungsoberfläche und das auf die Verpackungsoberfläche aufgebrachte
Etikett.
[0040] Fig. 1 zeigt einen Träger 1 mit einer metallisierten Schicht 2, der sowohl ein geprägtes
Design A als auch ein laserlithographisches Design B aufweist.
[0041] Die Bezugszeichen bezeichnen in den Figuren zum einen das geprägte Design A bzw.
das laserlithographische Design B, gleichzeitig aber auch die den Designs A, B zugrundeliegende
Prägestruktur bzw. laserlithographische Struktur innerhalb der metallisierten Schicht
2.
[0042] Die durchgehenden Wellenlinien und die drei parallelen Linien stellen Platzhalter
für statische Strukturen des geprägten Designs A dar. Die Seriennummern und die Ovale
stellen Platzhalter für individuelle und statische Strukturen des laserlithographischen
Designs B dar. Die Platzhalter sind symbolisch zu verstehen und stellen jegliche Strukturen
dar, die mit Prägung bzw. mit Laserlithographie erzeugt werden können. Auch die Anordnung
und die Anzahl der Symbole sind nur beispielhaft zu verstehen.
[0043] Die Prägung und die laserlithographische Belichtung sind nicht passgenau zueinander
angeordnet. Dies erkennt man daran, dass die Seriennummer im Vergleich zur Wellenlinie
wandert. Trotzdem sind die beiden Designs miteinander verknüpft, da die Seriennummer
immer auf der Wellenlinie zu liegen kommt. Die Verknüpfung erfolgt durch eine feste
vertikale Beziehung der beiden Designs.
[0044] Figur 2 zeigt einen Träger mit passgenau zueinander angeordnetem geprägtem Design
A und laserlithographischem Design B. Die Prägung A und die laserlithographische Belichtung
B sind passgenau zueinander angeordnet. Dies erkennt man daran, dass die Seriennummer
im Vergleich zur Wellenlinie nicht wandert. Durch die Passgenauigkeit können beide
Designs vollständig miteinander verknüpft werden. Die Verknüpfung erfolgt durch eine
feste horizontale und vertikale Beziehung der beiden Designs A, B.
[0045] Fig. 3 zeigt den Träger 1 mit nicht zueinander passgenauem Prägedesign A und lithographischem
Design B gemäß Fig. 1, wobei um die einzelnen optischen Elemente 6 Stanzlinien 7 eingezeichnet
sind. Die gestrichelten Kreise stellen die Stanzlinien 7 für Etiketten bzw. Stempelformen
für Heißsiegelanwendungen dar und somit die Begrenzung des optisch variablen Elements
6 auf dem Gegenstand, auf den es aufgebracht wird. Die Stanzlinie 7 muss nicht kreisförmig
sein, sondern kann jede andere beliebige Form aufweisen, z.B. oval, polygonal, polygonal
mit abgerundeten Ecken usw.
[0046] Die Prägung A und die laserlithographische Belichtung B sind nicht passgenau zueinander
angeordnet. Die laserlithographische Belichtung B ist jedoch passgenau zu der Begrenzung
des optisch variablen Elementes 6 und des Trägers 1 angeordnet, so dass jedes optisch
variable Element 6 eine eindeutige Individualisierung trägt.
[0047] Fig. 4 zeigt einen Träger 1, bei dem die Prägung A und die laserlithographische Belichtung
B passgenau zueinander sind und zur Begrenzung des optisch variablen Elements 6 und
des Trägers 1 angeordnet sind.
[0048] In Fig. 5 zeigen die gestrichelten Kreise Stanzlinien 7 für Etiketten bzw. Stempelformen
für Heißsiegelanwendungen und somit die Begrenzung des optisch variablen Elements
6 im Endprodukt. Es sind verschiedene mögliche Anordnungen der Strukturen A, B dargestellt.
Der Bereich A stellt Strukturen des geprägten Designs dar, der Bereich B stellt Strukturen
des laserlithographischen Designs dar. Die einzelnen Strukturen A, B können entweder
getrennt voneinander auftreten, oder sie können sich teilweise oder ganz überlappen.
In einem Design können auch Teilbereiche sich überlappen und andere Teilbereiche sich
nicht überlappen. Neben den dargestellten Anordnungen sind auch verkämmte oder verschachtelte
Anordnungen möglich.
[0049] Gemäß Fig. 6 besteht das geprägte Design aus einer Fläche A, welche geprägte Strukturen
enthält. Das laserlithographische Design besteht aus einer Fläche B, die aus einem
hochaufgelösten gerasterten Graukeil 8 besteht. Der Graukeil 8 geht in diesem Beispiel
in einem graduellen Übergang von nicht demetallisiert bis zu demetallisiert. Dadurch
wird die geprägte Fläche A im Bereich B in einem graduellen Übergang zerstört, so
dass sich für den menschlichen Betrachter ein graduelles Auslaufen der geprägten Strukturen
ergibt. Handelt es sich bei den geprägten Strukturen um beugende Gitter, die in Regenbogenfarben
schillern, so würde das Schillern im Bereich B graduell auslaufen. Handelt es sich
bei den geprägten Strukturen um ein Hologramm, so würde die Sichtbarkeit des Hologramms
im Bereich B graduell auslaufen. Die Stanzline 7 begrenzt wiederum das optisch variable
Element 6.
[0050] Auf diese Weise wird eine Struktur erzeugt, die weder durch Prägung allein noch durch
Laserlithographie allein erzeugt werden könnte.
[0051] Gemäß Fig. 7 besteht das geprägte Design aus einer Fläche A, welche geprägte Strukturen
enthält. Das laserlithographische Design besteht aus einer Fläche B, in der große
Bereiche demetallisiert werden und feine hochaufgelöste Linien stehen gelassen werden.
Dadurch bleiben von der geprägten Fläche A im Bereich B nur noch feine geprägte Linien
übrig. Handelt es sich bei den geprägten Strukturen um beugende Gitter, die in Regenbogenfarben
schillern, so würden auch die feinen Linien in Regenbogenfarben schillern. Diese Gitter
könnten nun so ausgelegt sein, dass sie mit dem laserlithographischen Prozess nicht
erzeugt werden könnten.
[0052] Auf diese Weise wird eine Struktur erzeugt, die weder durch Prägung allein noch durch
Laserlithographie allein erzeugt werden könnte. Auch hier begrenzt die Stanzlinie
7 das optisch variable Element 6.
[0053] In Fig. 8 besteht das geprägte Design A aus einem Logo, aus feinen Guillochen und
aus einem vollflächigen Bereich (schraffiert). Die drei Bereiche könnten aus verschiedenen
Strukturen bestehen, beispielsweise könnte das Logo als Regenbogenhologramm ausgeführt
sein, die Guillochen als 2D Hologramm und der vollflächige Bereich als refraktive
oder diffraktive Struktur. Das laserlithographische Design B besteht aus einer quadratischen
Struktur, aus zwei feinen Linien, aus einer ersten Seriennummer und aus einer zweiten,
inversen Seriennummer. Die quadratische Struktur könnte ein computergeneriertes Fourierhologramm
mit individuellem Inhalt sein, die beiden feinen Linien könnten aus Beugungsgittern
bestehen, die obere Seriennummer könnte aus einem Fresnelhologramm bestehen. Bei der
unteren, inversen Seriennummer wird der äußere Bereich der Seriennummer demetallisiert.
[0054] Werden die beiden Designs erfindungsgemäß in die metallisierte Schicht 2 eingebracht,
ergibt sich das kombinierte Design als das optisch variable Element 6. Dieses besteht
zum einen aus getrennten Bereichen, die jeweils aus einem der beiden Designs kommen,
wie das Logo oder das Fourierhologramm. Zum anderen besteht es aus teilweise überlagerten
Strukturen, wie den Guillochen, den Linien und der ersten Seriennummer. Des Weiteren
besteht es aus kombinierten Strukturen, wie der invers laserlithographierten zweiten
Seriennummer, die nun in den Nummern die refraktive oder diffraktive Struktur aus
dem Prägeprozess trägt.
[0055] Auf diese Weise wird eine Struktur erzeugt, die weder durch Prägung allein noch durch
Laserlithographie allein erzeugt werden könnte.
[0056] Fig. 9 zeigt eine logische Verknüpfung zwischen dem geprägten Design A und dem laserlithographischen
Design B. Im geprägten Design A befinden sich die Nummern 1 bis 5. Entsprechend der
Endziffer der Seriennummer des laserlithographischen Designs B wird individuell ein
Feld stehen gelassen, welches die Endziffer der Seriennummer wiederholt. Das optisch
variable Element 6 stellt die logische Verknüpfung dar.
[0057] Fig. 10 zeigt zunächst das Prägedesign A, dann das lithographische Design B und in
der dritten Abbildung der Fig. 10 die Kombination aus Prägedesign A und lithographischem
Design B. Die dritte Abbildung stellt das optisch variable Element 6 in Form eines
Etiketts dar. Die untere Zahlenfolge des laserlithographischen Designs B ist durchsichtig.
Die vierte Abbildung zeigt die Oberfläche 11 eines Gegenstandes beispielsweise einer
Verpackung mit einer hier wellenartig dargestellten Struktur. Durch Aufbringen des
optisch variablen Elementes 6 auf die Oberfläche 11 des Gegenstandes kann die Struktur
des Gegenstandes, die sich unter dem durchsichtigen Bereich 10 des optisch variablen
Elementes 6 befindet, hindurch scheinen.
[0058] Fig. 11 zeigt, ähnlich wie Fig. 10, eine logische Verknüpfung zwischen der Struktur
der Oberfläche 11, die hier zusätzlich mit einer Seriennummer versehen ist. Entsprechend
der Endziffer der Seriennummer wird individuell ein Feld 10 demetallisiert. Auf der
Oberfläche 11 des Gegenstandes werden die Nummern 1 bis 5 statisch aufgedruckt; durch
das demetallisierte Feld 10 kann dann die entsprechende Nummer auf der Oberfläche
11 gesehen werden.
Bezugszeichenliste
[0059]
- 1
- Träger
- 2
- metallisierte Schicht
- 6
- optisches Element
- 7
- Stanzlinien
- 8
- Graukeil
- 10
- demetallisierter/durchsichtiger Bereich
- 11
- Oberfläche
- A
- geprägtes Design
- B
- laserlithographisches Design
1. Fälschungssicherer Träger (1) mit mindestens einer metallisierten Schicht (2), in
die wenigstens ein optisch variables Element (6) eingebracht ist, und
das wenigstens eine optisch variable Element (6) weist eine nicht-individuelle Prägestruktur
(A) auf,
dadurch gekennzeichnet, dass
das wenigstens eine optisch variable Element (6) eine individuelle laserlithographische
Struktur (B) mit einer Auflösung von unter 20 µm aufweist und dass die Prägestruktur
(A) und die laserlithographische Struktur (B) passgenau zueinander angeordnet sind.
2. Fälschungssicherer Träger (1) nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass die Auflösung unter 5 µm beträgt.
3. Fälschungssicherer Träger (1) nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass die Prägestruktur (A) und die laserlithographische Struktur (B) in dieselbe metallisierte
Schicht (2) eingebracht sind.
4. Fälschungssicherer Träger (1) nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, dass die laserlithographische Struktur (B) wenigstens in einem Teilbereich (10) zumindest
bereichsweise demetallisiert ist.
5. Fälschungssicherer Träger (1) nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, dass der Teilbereich (10) vollständig demetallisiert ist.
6. Fälschungssicherer Träger (1) nach Anspruch 4 oder 5,
dadurch gekennzeichnet, dass der Teilbereich (10) gerastert demetallisiert ist.
7. Fälschungssicherer Träger (1) nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterung der Demetallisierung in dem Teilbereich (10) graduell zunimmt.
8. Fälschungssicherer Träger (1) nach wenigstens einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optisch variable Element (6) in einem Teilbereich (10) durchsichtig ist.
9. Verfahren zur Herstellung eines fälschungssicheren Trägers (1) mit wenigstens einer
metallisierten Schicht (2), indem
eine nicht-individuelle Prägestruktur (A) in die metallisierte Schicht (2) geprägt
wird und eine individuelle laserlithographische Struktur (B) in die metallisierte
Schicht (2) lithographisch mittels eines Lasers belichtet wird,
die lithographische Struktur (B) mit einer Auflösung von unter 20 µm belichtet wird,
durch die Prägestruktur (A) und die lithographische Struktur (B) gemeinsam wenigstens
ein optisch variables Element (6) ausgebildet wird,
wobei die laserlithographischen Strukturen (B) und die Prägestrukturen (A) passgenau
zueinander in die metallisierte Schicht (2) eingebracht werden.
10. Verfahren nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, dass entlang des Trägers (1) zunächst nicht-individuelle Prägestrukturen (A) in die metallisierte
Schicht (2) geprägt werden und anschließend individuelle laserlithographische Strukturen
(B) in die metallisierte Schicht (2) belichtet werden.
11. Verfahren nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, dass entlang des Trägers (1) zunächst individuelle laserlithographische Strukturen (B)
in die metallisierte Schicht (2) belichtet werden und anschließend nicht-individuelle
Prägestrukturen (A) in die metallisierte Schicht (2) geprägt werden.
12. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 9 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, dass Teilbereiche (10) der lithographischen Struktur (B) bis zur Durchsichtigkeit demetallisiert
werden und Teilbereiche der Prägestrukturen (A) relativ zu den durchsichtigen Teilbereichen
(10) angeordnet werden, so dass sie durch die durchsichtigen Teilbereiche (10) hindurch
scheinen.
13. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 9 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (1) zwischen den optisch variablen
Elementen (6) getrennt wird und die optisch variablen Elemente (6) auf Gegenstände,
insbesondere Verpackungen, aufgebracht werden.
14. Verfahren nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, dass das optisch variable Element (6) mit durchsichtigen Teilbereichen (10) versehen wird
und eine Oberflächenkennzeichnung des Gegenstandes durch die durchsichtigen Teilbereiche
(10) hindurch scheint.
1. Forgery-proof carrier (1) having at least one metallized layer (2), into which at
least one optically variable element (6) is introduced, and
the at least one optically variable element (6) has a non-individual embossed structure
(A),
characterized in that
the at least one optically variable element (6) has an individual laser-lithographic
structure (B) with a resolution of less than 20 µm and in that the embossed structure (A) and the laser-lithographic structure (B) are arranged
with an accurate fit with respect to one another.
2. Forgery-proof carrier (1) according to Claim 1, characterized in that the resolution is less than 5 µm.
3. Forgery-proof carrier (1) according to Claim 1 or 2,
characterized in that the embossed structure (A) and the laser-lithographic structure (B) are introduced
into the same metallized layer (2).
4. Forgery-proof carrier (1) according to at least one of Claims 1 to 3,
characterized in that the laser-lithographic structure (B) is at least locally demetallized at least in
a subregion (10).
5. Forgery-proof carrier (1) according to Claim 4, characterized in that the subregion (10) is fully demetallized.
6. Forgery-proof carrier (1) according to Claim 4 or 5,
characterized in that the subregion (10) is demetallized as a raster.
7. Forgery-proof carrier (1) according to Claim 6, characterized in that the rastering of the demetallization increases gradually in the subregions (10).
8. Forgery-proof carrier (1) according to at least one of the preceding claims,
characterized in that the optically variable element (6) is transparent in a subregion (10).
9. Method for producing a forgery-proof carrier (1) having at least one metallized layer
(2), by a non-individual embossed structure (A) being embossed into the metallized
layer (2) and an individual laser-lithographic structure (B) being exposed into the
metallized layer (2) lithographically by means of a laser,
the lithographic structure (B) being exposed with a resolution of less than 20 µm,
at least one optically variable element (6) being formed together by the embossed
structure (A) and the lithographic structure (B),
wherein the laser-lithographic structures (B) and the embossed structures (A) are
introduced into the metallized layer (2) with an accurate fit with respect to one
another.
10. Method according to Claim 9,
characterized in that non-individual embossed structures (A) are initially embossed into the metallized
layer (2) along the carrier (1), and individual laser-lithographic structures (B)
are subsequently exposed into the metallized layer (2).
11. Method according to Claim 9,
characterized in that individual laser-lithographic structures (B) are initially exposed into the metallized
layer (2) along the carrier (1), and non-individual embossed structures (A) are subsequently
embossed into the metallized layer (2).
12. Method according to at least one of Claims 9 to 11,
characterized in that subregions (10) of the lithographic structure (B) are demetallized to the extent
of transparency and subregions of the embossed structures (A) are arranged relative
to the transparent subregions (10) so that they shine through the transparent subregions
(10).
13. Method according to at least one of Claims 9 to 12,
characterized in that the carrier (1) is separated between the optically variable elements (6), and the
optically variable elements (6) are applied onto articles, in particular packaging.
14. Method according to Claim 13,
characterized in that the optically variable element (6) is provided with transparent subregions (10),
and a surface marking of the article shines through the transparent subregions (10).
1. Support infalsifiable (1), comportant au moins une couche métallisée (2), dans laquelle
au moins un élément optiquement variable (6) est incorporé, et
le ou les éléments optiquement variables (6) présentent une structure gaufrée non-individuelle
(A),
caractérisé en ce qu'au moins un élément optiquement variable (6) comprend une structure de lithographie
laser individuelle (B) ayant une résolution inférieure à 20 µm, et
que la structure gaufrée (A) et la structure de lithographie laser (B) sont disposées
avec une concordance exacte l'une avec l'autre.
2. Support infalsifiable (1) selon la revendication 1,
caractérisé en ce que la résolution est inférieure à 5 µm.
3. Support infalsifiable (1) selon la revendication 1 ou 2,
caractérisé en ce que la structure gaufrée (A) et la structure de lithographie laser (B) sont incorporées
dans la même couche métallisée (2).
4. Support infalsifiable (1) selon au moins l'une des revendications 1 à 3,
caractérisé en ce que la structure de lithographie laser (B) est, au moins par zone, démétallisée dans
au moins une zone partielle (10).
5. Support infalsifiable (1) selon la revendication 4,
caractérisé en ce que la zone partielle (10) est entièrement démétallisée.
6. Support infalsifiable (1) selon la revendication 4 ou 5,
caractérisé en ce que la zone partielle (10) est démétallisée d'une manière tramée.
7. Support infalsifiable (1) selon la revendication 6,
caractérisé en ce que le tramage de la démétallisation augmente progressivement dans la zone partielle
(10).
8. Support infalsifiable (1) selon au moins l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'élément optiquement variable (6) est transparent dans une zone partielle (10).
9. Procédé de fabrication d'un support infalsifiable (1) comportant au moins une couche
métallisée (2), dans lequel
une structure gaufrée non individuelle (A) est estampée dans la couche métallisée
(2), et une structure de lithographie laser individuelle (B) est exposée par lithographie
à l'aide d'un laser dans la couche métallisée (2),
la structure lithographique (B) est exposée avec une résolution inférieure à 20 µm,
la structure gaufrée (A) et la structure lithographique (B) forment ensemble au moins
un élément optiquement variable (6),
les structures de lithographie laser (B) et les structures gaufrées (A) étant incorporée
dans la couche métallisée (2) avec une concordance exacte les unes avec les autres.
10. Procédé selon la revendication 9,
caractérisé en ce que, le long du support (1), d'abord des structures gaufrées non-individuelles (A) sont
estampées dans la couche métallisée (2),
puis des structures de lithographie laser individuelles (B) sont exposées dans la
couche métallisée (2).
11. Procédé selon la revendication 9,
caractérisé en ce que, le long du support (1), d'abord des structures de lithographie laser individuelles
(B) sont exposées dans la couche métallisée (2),
puis des structures gaufrées non-individuelles (A) sont estampées dans la couche métallisée
(2).
12. Procédé selon au moins l'une des revendications 9 à 11,
caractérisé en ce que des zones partielles (10) de la structure lithographique (B) sont démétallisées jusqu'à
transparence, et des zones partielles des structures gaufrées (A) sont disposées,
par rapport aux zones partielles transparentes (10), de façon à apparaître à travers
les zones partielles transparentes (10).
13. Procédé selon au moins l'une des revendications 9 à 12,
caractérisé en ce que le support (1) est séparé entre les éléments optiquement variables (6), et les éléments
optiques variables (6) sont appliqués sur des objets, en particulier des emballages.
14. Procédé selon la revendication 13,
caractérisé en ce que l'élément optiquement variable (6) est pourvu de zones partielles transparentes (10),
et une caractéristique de surface de l'objet apparaît à travers les zones partielles
transparentes (10).