(19)
(11) EP 0 006 442 A3

(12) EUROPEAN PATENT APPLICATION

(88) Date of publication A3:
23.01.1980 Bulletin 1980/02

(43) Date of publication A2:
09.01.1980 Bulletin 1980/01

(21) Application number: 79101562

(22) Date of filing: 22.05.1979
(84) Designated Contracting States:
DE FR GB

(30) Priority: 03.07.1978 US 921291

(71) Applicant: International Business Machines Corporation
 ()

(72) Inventors:
  • Gow 3rd, John
     ()
  • Hoffman, Herman Sol
     ()
  • Stephans, Earl
     ()

   


(54) Adjustable thin-film resistor


(57) Bei einem abgleichbaren Dünnschicht-Widerstand ist die auf ein Substrat aufgebrachte Dünnschicht (10) in einer durch ein niedriges Verhältnis von Länge zu Breite bestimmten Flächengeometrie angeordnet. Dabei entspricht die Länge dem Stromweg zwischen den Elektroden (12, 13) des Widerstandes. Der Abgleich erfolgt durch Laserschnitt (15), durch die die Dünnschicht (10) in Teilflächenquadrate unterteilt wird. Die zum Stromfluß beitragenden Teilflächenquadrate, die die Elektroden (12, 13) in serieller oder paralleler Anordnung verbinden, bestimmen den jeweiligen Widerstandswert.
Auf diese Weise kann bei möglichst geringem Flächenbedarf eine möglichst hohe Variationsbreite hinsichtlich der Widerstandswerte erreicht werden.






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