[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Umrührung in einem Gießstrang gemäß dem
Oberbegriff des Anspruches 1 sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
[0002] Beim Stranggießen, bei dem ein Gießstrahl direkt oder durch ein Gießrohr aus einem
Gießkasten oder einem anderen Metallschmelzenbehälter mit einer gewissen kinetischen
Energie in eine Schmelze, d.h. in die nicht erstarrten Bereiche eines Gießstrangs
gelangt, dringt der Gießstrang einschließlich der mitgeführten Schlackenteilchen tief
in den Sumpf ein, was eine Abscheidung bzw. ein Hochfließen der Schlacke an die Oberfläche
unmöglich macht. Eine große Eindringtiefe des Gießstrahls erhöht die Gefahr, daß Schlackenteilchen
an den Seiten des Strangs hängen bleiben und somit ihre Abscheidung an der Oberfläche
erschweren.
[0003] Aufgrund des Impulses, den der Gießstrahl der Schmelze versetzt (wir sprechen hier
also nicht von dem freien Gießstrahl vor dem Auftreffen auf die Schmelze) wird auch
Schlacke an die Kokillenwand und dort in erstarrte und erstarrende Bereiche der Schmelze
geschoben, wo sich die Schlacke festsetzen und folglich nicht abgeschieden werden
kann.
[0004] Aufgrund einer starken Abkühlung und einer geringen Wärmezufuhr kann auch an der
Oberfläche am Gießrohr eine Erstarrung eintreten. Diese drei Faktoren tragen auf verschiedene
Art zu einer schlechteren Qualität des fertigen Rohlings bei.
[0005] Um u.a. die vorgenannten Probleme zu beheben, wäre es wünschenswert, das Strömungsbild
in der Kokille steuern zu können, um dadurch einen schlackenfreieren Stahl mit geringerer
Rohlingsbehandlung zu erhalten und um auch schwereren Stahl gießen zu können.
[0006] Bei der Umrührung der Schmelze in einer Kokille mit Wechselstromumrührern ist es
wegen der abschirmenden Wirkung der dicken Kokillenwände schwierig, mit dem magnetischen
Feld in die Schmelze einzudringen. Die Wände der Kokille bestehen aus bis zu 80 mm
dicken Kupferplatten, wodurch das Eindringen des magnetischen Feldes in die Schmelze
auch bei niedrigen Frequenzen sehr erschwert wird. Die Eindringtiefe in Kupfer -beträgt
bei beispielsweise 1,5 Hz 50 - 60 mm, und somit muß vom Feld mindestens diese Eindringtiefe
überwunden werden, bevor es die Schmelze erreicht. Die Schwierigkeit, mit üblichen
Umrührern in der Kokille die Eindringung des Gießstrahls zu unterbrechen oder zu verringern,
ist somit offensichtlich.
[0007] Es ist auch zu beachten, daß die Oberfläche der Schmelze in der Kokille nicht beunruhigt
werden darf, daß die Wärmezufuhr an die Oberfläche trotzdem jedoch am liebsten verbessert
werden soll.
[0008] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren nebst Durchführungsanordnung
zu entwickeln, durch welches die oben aufgezeigten Schwierigkeiten beseitigt werden.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruches 1
vorgeschlagen, welches erfindungsgemäß die im kennzeichnenden Teil des Anspruches
1 genannten Merkmale hat.
[0009] Vorteilhafte Weiterbildungen des Verfahrens sind in den Ansprüchen 2 bis 6 genannt.
[0010] Eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens ist durch die in Anspruch 7 genannten
Merkmale gekennzeichnet.
[0011] Vorteilhafte Weiterbildungen dieser Vorrichtung sind in den Ansprüchen 8 bis 12 genannt.
[0012] Gemäß der Erfindung wird also ein statisches Magnetfeld mit großer Eindringtiefe
erzeugt und die hohe Geschwindigkeit des Stahls im Gießstrahl beim Eindringen in die
Schmelze in der Kokille (Eindringgeschwindigkeit) ausgenutzt. Diese Eindringgeschwindigkeit
liegt in der Größenordnung von 1 bis 1,5 m/sec. Durch das Magnetfeld wird die Bewegung
des Stahls gebremst und der Gießstrahl zersplittert. Die Wirkungsweise ist vergleichbar
mit einer Wirbelstrombremse. Die Eindringtiefe wird vermindert und der größte Teil
der Schlacke wird auf der Oberfläche abgeschieden und bleibt nicht mehr an der Innenseite
der bereits erstarrten Strangschale hängen.
[0013] Das statische Magnetfeld kann auch durch einen oder mehrere Dauermagnete erzeugt
werden. Man erhält so eine einfache und wirksame Vorrichtung zum "Umrühren" in der
Kokille, wobei die Schlacke abgeschieden wird, ohne im Rohling hängenzubleiben.
[0014] Bei einer bevorzugten Ausführung des Verfahrens beim Gießen mit einem Gießrohr werden
die Pole (die Angriffsfläche des Feldes) derart in einem spitzen Winkel zu dem Gießstrahl
angeordnet, daß eine Zersplitterung des Gießstrahls im wesentlichen nach oben hin
erfolgt. Hierdurch wird vermieden, daß Schlacke in Gießrichtung nach unten gedrückt
wird, wo sie hängen bleiben kann. Zugleich wird hierdurch der Oberfläche in der Kokille,
insbesondere am Gießrohr, mehr Wärme zugeführt. Der vom Gießstrahl auf die Schmelze
in der Kokille ausgeübte Impuls wird vermindert und in seiner Wirkung vom Eintritt
in die Schmelze an derart in die Breite gezogen, daß der Strom des Gießstrahls nicht
die Schmalseite des Rohlings trifft, wodurch eine Schlackenansammlung am Rand des
Rohlings und eine Schalenerosion verringert werden. Durch die Erfindung ist es daher
möglich, auch Stahl mit einer hinsichtlich der Schlackenreinheit hohen Oberflächengüte
herzustellen.
[0015] Anhand der Figuren soll die Erfindung näher erläutert werden. Es zeigen
Figur 1 und 2 das Eindringen des Gießstrahls in die Schmelze für-verschiedene Arten
von Gießrohrm,
Figur 3 die Wirkungsweise des Verfahrens und der Vorrichtung nach der Erfindung,
Figur 4 und 5 Beispiele für die Anordnung und Ausbildung der Umrührer.
[0016] Figur 1 zeigt, wie ein Gießstrahl über ein Gießrohr 1 aus einem nicht gezeigten Gießkasten
oder einem anderen Schmelzenbehälter kommt. Das Gießrohr hat einen nach unten gerichteten
Doppelabfluß, und der Impuls wird auf die Schmalseite der Kokille 4 gerichtet, wo
sich Schlakke in der Strangschale absetzt. Auch besteht die Gefahr einer Schlackenpenetration
weiter unten in der Gießrichtung (Pfeile 5).
[0017] Figur 2 zeigt die Penetration mit nach oben gerichteten Gießstrahlen aus einem Gießrohr
8, angedeutet durch die Pfeile 9.
[0018] Figur 3 zeigt, wie die aus einem Gießrohr-11 kommenden Gießstrahlen 10 in der Schmelze
gerichtet sind und zersplittert werden, wobei Schlackenpartikel leichter an der Oberfläche
abgeschieden werden.
[0019] Ein oder mehrere statische Magnetfelder 19, die durch gleichstromgespeiste "Umrührer"
oder durch Dauermagnete erzeugt werden, liegen quer zur Gießrichtung mit der Angriffsfläche
(den Polen) 12 in einem spitzen Winkel zum Gießstrahl 10, wobei der Strahl im wesentlichen
in mehrere nach oben gerichtete Teilstrahlen 13 zersplittert wird und die Schlacke
an der Oberfläche abgeschieden werden kann. Nur kleinere (oder gar keine) Teile der
Schlackenpartikel bleiben an der Schmalseite oder im Rohling hängen. Man kann eine
steuerbare Stabilisierung des Gießstrahls erreichen, indem man unter dem Feld 12 ein
weiteres statisches Feld 14 anordnet.
[0020] Eventuell kann die Umrührung zusätzlich durch übliche mehrphasige, mit Wechselstrom
gespeiste Umrührer erfolgen, die in (an) oder in Gießrichtung gesehen hinter der Kokille
angebracht sind, um auch die üblichen Umrühreffekte beim kontinuierlichen Gießen zu
erhalten.
[0021] Man kann den Gießstrahl auch zersplittern und beeinflussen, wenn dieser nicht durch
ein Gießrohr, sondern in einem freien Strahl aus einem Gießkasten in die Schmelze
abgegossen wird.
[0022] Die Vorrichtung nach der Erfindung ist in den Figuren 4 und 5 veranschaulicht, wo
ein statisches Magnetfeld B von einem Umrührer in Form eines Eisenkerns 15, der gleichstromgespeiste
Spulen 16' trägt, gezeigt ist. Das Feld kann im Sinne der Zeichenebene links von dem
Gießrohr 18, welches einen doppelten Abfluß hat, nach innen und rechts vom Gießrohr
nach außen gerichtet sein. Die Zersplitterung der Gießstrahlen 16 und 17 geschieht
in der in Figur 3 durch Pfeile angedeuteten Weise, und die Schlacke setzt sich nur
in geringem Maße an den Schmalseiten der Kokille und weiter unten in Gießrichtung
ab. Die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens kann mit einem oder mehreren steuerbaren
Gleichstromumrührern ausgerüstet sein. Sie kann außerdem einen oder mehrere mehrphasige
Wechselstromumrührer enthalten, die an der Kokille oder in Gießrichtung hinter der
Kokille angeordnet sind, wobei sie mit ihrer Rührrichtung senkrecht oder in Längsrichtung
zur Gießrichtung orientiert sein können.
1. Verfahren zum Umrühren der nicht erstarrten Bereiche in einem Gießstrang, wobei
der Strang in einer Kokille geformt und ein Gießstrahl durch ein Gießrohr (11) oder
direkt in die Kokille strömt, dadurch gekennzeichnet, daß in der Kokille dort, wo
der Gießstrahl (10) in die in der Kokille bereits befindliche Schmelze eindringt,
mindestens ein in der Schmelze wirkendes statisches Magnetfeld (19) erzeugt wird,
welches die Bewegung des den Gießstrahl bildenden strömenden Metalls ausnutzt und
die Geschwindigkeit dieses Metalls in der Schmelze bremst und den Gießstrahl derart
zersplittert, daß sein Impuls geschwächt oder aufgezerrt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Angriffsfläche (die
Pöle) (12) des Feldes derart in einem spitzen Winkel zum Gießstrahl (10) in der Schmelze
zur Wirkung gebracht wird, daß die Zersplitterung im wesentlichen nach oben erfolgt
(13).
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere statische
Felder (12', 12, 14) zur Steuerung der Zersplitterung in Gießrichtung hintereinander
zur Wirkung gebracht werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere statische Felder (12', 12) hintereinander in Richtung des Gießstrahls (10)
oder in der neuen Richtung des bereits beeinflußten Gießstrahls zur Wirkung gebracht
werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Amplitude
des Magnetfeldes/ der Magnetfelder periodisch mit niedriger Frequenz derart variiert,
daß die eindringenden Strömungsbewegungen (5 und 9) periodisch auf ein größeres Volumen
werden verteiltfund somit die Eindringtiefe vermindert wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
neben dem statischen Feld/ den statischen Feldern ein magnetisches Wechselfeld zur
Einwirkung gebracht wird, welches von mindestens einem mehrphasigen, wechselstromgespeisten
Umrührer erzeugt wird, der an und/oder hinter der Kokille angeordnet ist.
7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche
mit einer unten offenen Kokille in einer Stranggießmaschine, wobei die Schmelze aus
einer Pfanne oder einem Zwischenbehälter über ein oder mehrere Gießrohre (18) oder
in freiem Strahl direkt in die Kokille abgießbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß
in, an oder neben der Kokille mindestens ein elektromagnetischer "Umrührer", der ein
statisches Magnetfeld erzeugt, derart angeordnet ist, daß das Feld (19) gegen den
Abfüllstrahl (16, 17) gerade nach dessen Eintritt in die in der Kokille bereits vorhandene
Schmelze wirkt und den Gießstrahl zersplittert und bremst.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Umrührer aus einem
oder mehreren Eisenkernen (15) mit gleichstromgespeisten Spulen (16) oder aus einem
oder mehreren Dauermagneten besteht.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß der "Umrührer"
so angeordnet ist, daß die Angriffsfläche (12) des Feldes einen spitzen Winkel zu
dem in die Schmelze eindringenden Gießstrahl (10, 16, 17) bildet und daß die Zersplitterung
des Gießstrahls im wesentlichen nach oben hin erfolgt.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß zwei
oder mehrere statische Felder erzeugende "Umrührer" (12, 14) vorhanden sind, die räumlich
derart angeordnet sind, daß ihre Felder zueinander parallel gerichtet sind und in
Gießrichtung hintereinander liegen.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens
zwei "Umrührer" (12', 12) vorhanden sind, die hintereinander in Richtung des Gießstrahls
(10) oder in der neuen Richtung des beeinflußten Gießstrahls angeordnet sind.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß an
oder in Gießrichtung hinter der Kokille mindestens ein mehrphasiger, mit Wechselstrom
gespeister Umrührer angeordnet ist.