(19)
(11) EP 0 046 960 A2

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(43) Veröffentlichungstag:
10.03.1982  Patentblatt  1982/10

(21) Anmeldenummer: 81106555.6

(22) Anmeldetag:  24.08.1981
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)3G03G 5/14
(84) Benannte Vertragsstaaten:
CH DE FR GB LI NL

(30) Priorität: 30.08.1980 DE 3032775

(71) Anmelder: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
65926 Frankfurt am Main (DE)

(72) Erfinder:
  • Wiedemann, Wolfgang, Dr.
    D-6222 Geisenheim-Johannisberg (DE)


(56) Entgegenhaltungen: : 
   
       


    (54) Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial


    (57) Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus elektrisch leitendem Schichtträger, isolierender Zwischenschicht und mindestens einer photoleitfähigen Schicht enthaltend Ladungsträger erzeugende Verbindung und Ladungen transportierende Verbindung sowie einer schützenden, transparenten Deckschicht aus einem im Vakuum aufgebrachten Metalloxid oder -halogenid wie zum Beispiel Siliziummonoxid oder Magnesiumfluorid.




    Beschreibung


    [0001] Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem elektrisch leitenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer photoleitfähigen Schicht aus mindestens einer Ladungsträger erzeugenden Verbindung und einer Ladungen transportierenden Verbindung und einer schützenden transparenten Deckschicht.

    [0002] Bei dem aus der US-PS 2,297,691 bekannten und heute viel verwendeten elektrophotographischen Verfahren zur Herstellung von Kopien ist nach der Übertragung des auf der Photoleiterschicht auf trockenem Wege entwickelten Tonerbildes auf den Kopieträger stets eine gründliche Reinigung der Photoleiterschicht erforderlich. Das Reinigen geschieht in der Regel durch Abbürsten oder Abwischen der Schicht mit dafür geeigneten Bürsten bzw. Geweben. Bei Kopiermaschinen, die mit Flüssigentwicklern arbeiten, wird die Wirkung der mechanischen Reinigung häufig durch Mitverwendung einer Reinigungsflüssigkeit verstärkt. Neben diesen Reinigungsoperationen ist die photoleitfähige Schicht auch noch anderen sie schädigenden Einflüssen ausgesetzt. Zum Beispiel unterliegt sie der Einwirkung des Trockenentwicklers sowie der Entwicklerstation (Gegenspannung) und bei der Flüssigentwicklung darüber hinaus der Einwirkung der Entwicklerflüssigkeit. Sie ist auch der in der Aufladestation erzeugten ionisierten Luft ausgesetzt. Es ist bekannt, daß die erforderlichen Reinigungsvorgänge und die anderen erwähnten Einflüsse zu einer Beeinträchtigung oder sogar mechanischen Beschädigung der Photoleiterschicht führen und damit eine Verminderung ihrer Gebrauchsdauer zur Folge haben.

    [0003] Aufzeichnungsmaterialien mit einer photoleitfähigen Schicht aus mindestens einer Schicht mit Ladungsträger erzeugender Verbindung und Ladungen transportierender Verbindung sind bekannt. So werden zum Beispiel hochempfindliche, organische Photoleiterschichten (DE-AS 23 14 051) aufgrund ihrer hohen Elastizität auf leitfähigen Trägerfolien bzw. -bändern verwendet.

    [0004] Insbesondere lassen sich sehr hochempfindliche Photoleitersysteme gemäß zum Beispiel DE-OS 27 34 288 wegen ihrer großen Flexibilität als Endlosbänder einsetzen, die über Umlenkwalzen mit relativ kleinem Durchmesser geführt werden können.

    [0005] Es ist auch bekannt (US-PS 2,901,348, US-PS 4,148,637, DE-OS 24 52 622), Photoleiterschichten mit einer zusätzlichen Deckschicht aus anorganischen oder organischen Materialien zu schützen. Nachteilig daran ist, daß sie entweder auf den weniger flexiblen aus Selen bestehenden oder Selen enthaltenden Schichten oder auf generell weniger empfindlichen organischen Photoleitersystemen angewandt werden. Außerdem müssen diese Deckschichten zur besseren Haltbarkeit mit Zusätzen, wie Silankupplern, versetzt werden oder enthalten die elektrische Leitfähigkeit erhöhende Substanzen.

    [0006] Aufgabe der Erfindung ist es daher, die aus organischen Materialien bestehenden, zum Beispiel in Photoleiterdoppelschichtanordnung hochlichtempfindlichen Photoleitersysteme mit einer sie vor mechanischen oder gegebenenfalls sonstigen nachteiligen Einflüssen schützenden Deckschicht aus gegen sichtbares Licht transparenten Materialien zu versehen, die die Funktion der Photoleiterschicht nicht wesentlich beeinträchtigen und allgemein die Gebrauchsdauer solcher Systeme erhöhen.

    [0007] Die gestellte Aufgabe wird durch ein in den Ansprüchen 1 und 2 genanntes elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial gelöst, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß die Deckschicht aus einem im Vakuum aufgebrachten Metalloxid oder -halogenid besteht. Als Metalloxide kommen vorzugsweise solche in Betracht, die ohne die organischen Materialien zu beschädigen im Vakuum im Bereich von 10 - 10 bar aufgebracht werden können. Hierzu gehören Oxide wie Siliziummonoxid, Cerdioxid, Titanmonoxid, Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Tantaloxid oder Mischoxide wie Bariumtitanat. Als Halogenide sind einsetzbar Calciumfluorid, Certrifluorid, Lanthantrifluorid, Magnesiumfluorid oder Natriumaluminiumfluorid.

    [0008] Hierdurch wird erreicht, daß elektrophotographische Aufzeichnungsmaterialien zur Verfügung gestellt werden können, die bei nahezu gleichbleibender Photoempfindlichkeit die Abriebfestigkeit und die Gebrauchsdauer deutlich verbessern.

    [0009] Durch die Erhöhung der Abriebfestigkeit und damit der Gebrauchsdauer wird weiterhin erreicht, daß die Mehrfachschichtanordnungen nicht nur auf flexiblen leitenden Schichtträgern, sondern auch auf Trommeln rentabler eingesetzt werden können.

    [0010] Schematisch wird das erfindungsgemäße elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial durch die beigefügten Figuren 1 bis 4 wiedergegeben. So kann die photoleitfähige Schicht als Einfachschicht vorliegen wie dies unter Position 6 in Figur 1 angedeutet ist. Sie kann auch als Doppelschichtanordnung vorliegen, die aus einer Ladungsträger erzeugende Verbindungen enthaltenden Schicht 2, wie dies in Figuren 2 und 3 zum Ausdruck kommt, und aus einer Ladungen transportierende Verbindungen enthaltenden Schicht unter der jeweiligen Position 3 besteht, was im allgemeinen bevorzugt ist. Der leitende Schichtträger ist jeweils mit 1 angegeben. Unter Position 4 ist eine isolierende Zwischenschicht angedeutet, Position 5 zeigt eine Schicht aus Ladungen erzeugender Verbindung in Dispersion. Mit Position 7 ist die erfindungsgemäße schützende Deckschicht angezeigt.

    [0011] Als leitende Schichtträger kommen zum Beispiel AluminiumFolie, gegebenenfalls transparente, mit Aluminium bedampfte oder kaschierte Polyester-Folie zum Einsatz, jedoch kann jeder andere genügend leitfähig gemachte Schichtträger verwendet werden.

    [0012] Die isolierende Zwischenschicht kann durch eine thermisch, anodisch oder chemisch erzeugte Aluminiumoxid-Zwischenschicht hergestellt werden. Sie kann auch aus organischen Materialien bestehen. So werden unterschiedliche Natur- bzw. Kunstharzbindemittel verwendet, die gut auf einer Metall- bzw. Aluminium-Oberfläche haften und beim nachfolgenden Anbringen der weiteren Schichten wenig angelöst werden, wie zum Beispiel Polyamidharze, Polyvinylphosphonsäure, Polyurethane, Polyesterharze oder spezifisch alkalilösliche Bindemittel, wie zum Beispiel Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate. Die Dicke solcher organischen Zwischenschichten kann bis zu 5 um betragen, die der Aluminiumoxidschicht liegt größtenteils im Bereich von 0,01 - 1 pm.

    [0013] Die Schicht 2 bzw. 5 besitzt die Funktion einer Ladungsträgererzeugungsschicht. Die dabei eingesetzten Ladungsträger erzeugenden Verbindungen bestimmen in besonderem Maße die spektrale Lichtempfindlichkeit des photoleitfähigen Systems. Als Ladungsträger erzeugende Substanzen können Farbstoffe unterschiedlichster Klassen eingesetzt werden. Beispielsweise seien genannt:

    Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäureanhydrid bzw. Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäureimidderivate nach DE-OS 22 37 539; oder gemäß DE-PS 22 32 513 N,N'-Bis-(3-methoxypropyl)-3,4,9,10-perylentetracarbonsäureimid; polynukleare Chinone nach DE-OS 22 37 678; cis- bzw. trans-Perinone nach DE-OS 22 39 923; Thioindigo-Farbstoffe nach DE-OS 22 37 680; Chinacridone nach DE-OS 22 37 679; Kondensationsprodukte aus Benzo-4,10-thioxanthen-3,1'-dicarbonsäureanhydrid und Aminen nach DE-OS 23 55 075; Phthalocyanin-Derivate nach DE-OS 22 39 924 und Farbstoffe, die durch Kondensation nach der Vorschrift Bull. Chem. Soc. Japan 25, 411 - 413 / 1952 aus Perylen-3, 4, 9, 10-tetracarbonsäureanhydrid und o-Phenylendiamin oder 1,8-Diaminophthalin hergestellt werden, gemäß DE-OS 23 14 051.



    [0014] Ferner können beispielsweise Farbstoffe nach den DE-OS 22 46 255, 23 53 639 und 23 56 370 eingesetzt werden.

    [0015] Wie erwähnt, sind auch dünne Ladungsträger erzeugende Schichten aus anorganischen Stoffen, wie sie durch Aufdampfen von Selen, dotiertem Selen, Cadmiumsulfid usw. hergestellt werden, geeignet.

    [0016] Das Aufbringen einer homogenen, dicht gepackten Schicht 2 wird bevorzugt durch Aufdampfen im Vakuum erhalten. Ein vorteilhafter Schichtdickenbereich der Schicht 2 liegt zwischen 0,005 und 3 µm, da hier Haftfestigkeit und Homogenität der aufgedampften Verbindung besonders günstig sind.

    [0017] In Kombination mit der Zwischenschicht oder als Ersatz der Zwischenschicht können homogene, gut abdeckende Farbstoffschichten mit Dicken von größenordnungsmäßig 0,1 - 3 pm auch durch Vermahlen des Farbstoffs mit einem Bindemittel, insbesondere mit hochviskosen Cellulosenitraten und/oder vernetzenden Bindemittelsystemen, zum Beispiel Polyisocyanat-vernetzbaren Acrylharzen, Lacken auf Basis von Polyisocyanaten und Hydroxylgruppen-haltigem Poly-ester oder -ether und durch anschließendes Aufbringen dieser Farbstoffdispersionen 5 auf den Schichtträger hergestellt werden, wie dies aus Figur 4 hervorgeht.

    [0018] Als dem Ladungstransport dienendes Material in Schicht 3 bzw. 6 sind vor allem organische Verbindungen geeignet, die ein ausgedehntes π-Elektronensystem besitzen. Hierzu gehören insbesondere monomere aromatische bzw. heterocyclische Verbindungen, wie solche, die mindestens eine Dialkylaminogruppe oder zwei Alkoxygruppen aufweisen. Bewährt haben sich besonders Oxdiazol-Derivate, die in der deutschen Patentschrift 10 58 836 genannt sind. Hierzu gehören insbesondere das 2,5-Bis-(p-diethylaminophenyl)-oxdiazol-1,3,4. Weitere geeignete monomere Elektronendonatorverbindungen sind zum Beispiel Triphenylaminderivate, höher kondensierte aromatische Verbindungen wie Pyren, benzokondensierte Heterocyclen, außerdem Pyrazolin- oder Imidazolderivate (DE-PSen 10 60 714, 11 06 599), hierher gehören auch Triazol-, Thiadiazolsowie besonders Oxazolderivate, zum Beispiel 2-Phenyl-4-(2-chlorphenyl)-5-(4-diethylamino)-oxazol, wie sie in den deutschen Patentschriften 10 60 260, 12 99 296, 11 20 875 offenbart sind.

    [0019] Die Ladungstransportschicht 3 weist im sichtbaren Bereich (420 -750 nm) praktisch keine Photoempfindlichkeit auf. Sie besteht vorzugsweise aus einem Gemisch einer Elektronendonatorverbindung mit einem Harzbindemittel, wenn negativ aufgeladen werden soll.

    [0020] Die Schicht 3 ist vorzugsweise transparent. Es ist jedoch auch möglich, daß sie, etwa bei transparentem, leitfähigem Schichtträger, nicht transparent zu sein braucht. Sie besitzt einen hohen elektrischen Widerstand (≥1012 Ω) und verhindert im Dunkeln das Abfließen der elektrostatischen Ladung. Bei Belichtung transportiert sie die in der organischen Farbstoffschicht erzeugten Ladungen.

    [0021] Neben den bisher beschriebenen Ladungsträger erzeugenden und den transportierenden Verbindungen beeinflußt das zugesetzte Bindemittel sowohl das mechanische Verhalten wie Abrieb, Flexibilität, Filmbildung etc. als auch in gewissem Umfang das elektrophotographische Verhalten wie Photoempfindlichkeit, Restladung und zyklisches Verhalten.

    [0022] Als Bindemittel werden filmbildende Verbindungen wie Polyesterharze, Polyvinylchlorid/Polyvinylacetat-Mischpolymerisate, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate, Polycarbonate, Silikonharze, Polyurethane, Epoxidharze, Acrylate, Polyvinylacetale, Polystyrole, CelluloseDerivate wie Celluloseacetobutyrate etc. eingesetzt. Außerdem werden nachvernetzende Bindemittelsysteme wie DD-Lacke (zum Beispiel Desmophen/Desmodur(R), Bayer AG), polyisocyanatvernetzbare Acrylatharze, Melaminharze, Harze aus ungesättigten Polyestern etc. erfolgreich angewandt.

    [0023] Wegen der kombinierten Vorteile (hohe Photoempfindlichkeit, Blitzempfindlichkeit, hohe Flexibilität) ist der Einsatz von Cellulosenitraten, insbesondere der hochviskosen Typen bevorzugt.

    [0024] Das Mischungsverhältnis der ladungstransportierenden Verbindung zu dem Bindemittel kann variieren. Jedoch sind durch die Forderung nach maximaler Photoempfindlichkeit, d.h. möglichst großem Anteil an ladungstransportierender Verbindung und nach zu vermeidender Auskristallisation sowie Erhöhung der Flexibilität, d.h. möglichst großem Anteil an Bindemitteln, relativ bestimmte Grenzen gesetzt. Es hat sich allgemein ein Mischungsverhältnis von etwa 1 : 1 Gewichtsteilen als bevorzugt erwiesen, jedoch sind auch Verhältnisse zwischen 4 : 1 bis 1 : 2 geeignet.

    [0025] Die Dicken der Schichten 3 bzw. 6 liegen vorzugsweise zwischen etwa 3 und 20 pm.

    [0026] Als übliche Zusätze werden der Schicht Verlaufmittel wie Silikonöle, Netzmittel, insbesondere nicht-ionogene Substanzen, Weichmacher unterschiedlicher Zusammensetzung wie zum Beispiel auf Basis chlorierter Kohlenwasserstoffe oder auf Basis von Phthalsäureester zugegeben. Gegebenenfalls können der Ladungstransportschicht als Zusatz auch Sensibilisatoren und/oder Akzeptoren zugefügt werden, jedoch nur in dem Maße, daß die optische Transparenz der Ladungstransportschicht nicht wesentlich beeinträchtigt wird.

    [0027] Die auf dem organischen Photoleitersystem erzeugte schützende Deckschicht besitzt eine gleichmäßige Dicke von 0,5 - 10 um, vorzugsweise von 0,5 - 5 pm. Dieser Dickenbereich ist geeignet, weil dadurch einerseits beim Belichten und Entladungsvorgang der Ladungsdurchfluß nicht wesentlich beeinflußt wird und weil andererseits ein deutlich verbessertes Abriebverhalten erreicht wird.

    [0028] Die Auswahl der anorganischen Aufdampfmaterialien richtet sich hauptsächlich nach ihrer Verdampfungs-Temperatur und -rate, ihrer Beständigkeit bei der Verdampfung sowie nach den Eigenschaften der aufgedampften Schutzschichten, wie zum Beispiel homogene Filmbildung, Flexibilität, Oberflächenleitfähigkeit (auch in Abhängigkeit von der Luftfeuchte) und der spektralen Lichtdurchlässigkeit.

    [0029] Materialien wie Siliziummonoxid oder Magnesiumfluorid können das Antireflexverhalten der Photoleiterschicht verbessern, was sich in einer besseren Ausnutzung des einfallenden Lichtes anzeigt. Sie werden deshalb bevorzugt eingesetzt.

    [0030] Größtenteils lassen sich diese Stoffe aus elektrisch beheizten Wolfram-, Molybdän- oder Tantal-Schiffchen bei einer Substrattemperatur i 50°C im Vakuum aufdampfen. Für bestimmte Materialien können auch ElektronenstrahlVerdampfer notwendig sein.

    [0031] Diese Verfahren haben den Vorteil, daß zum Aufbringen einer Deckschicht keine organischen Lösungen wie bei einem Beschichtungsvorgang mit nachfolgender Trocknung benötigt werden, also auch keine Anlösungsprobleme der zu schützenden photoleitfähigen Schicht bzw. Schichten auftreten. Vielmehr sorgt die kinetische Energie der aufzudampfenden Moleküle für eine homogene, haftende Deckschicht auf der Oberfläche; die Verträglichkeit mit der photoleitfähigen Schicht ist praktisch immer gegeben. Im niedrigeren Deckschichtdickenbereich bis ca. 3 µm erweist sich das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht als weitgehend flexibel, bei bereits deutlich verbesserter Abriebfestigkeit.

    [0032] Weiterhin ergeben die erfindungsgemäßen Deckschichten den Vorteil, daß sie bei der Handhabung des Photoleiters entstehende Oberflächeneffekte wie zum Beispiel Auskristallisationseffekte durch Handberührung verhindern.

    [0033] Die erfindungsgemäßen Deckschichten werden bevorzugt auf Photoleitertrommeln als Schichtträger eingesetzt.

    [0034] Die Erfindung wird anhand der Beispiele näher erläutert, ohne sie hierauf zu beschränken.

    Beispiel 1



    [0035] Auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial, das in der angegebenen Reihenfolge aus Aluminium-bedampfter 75 um dicker Polyesterfolie als elektrisch leitendem Schichtträger, einer Farbstoffschicht aus N,N'-Dimethyl- perylimid (C. I. 71 129) als Ladungsträger erzeugender Verbindung sowie einer Ladungstransportschicht aus 2,5-Bis(4-diethylaminophenyl)-oxdiazol-l,3,4 (= To) und den Bindemitteln Polyester- sowie Polyvinylchlorid/Polyvinylacetat-Harz aufgebaut ist, wird in einer Vakuumbedampfungsanlage bei 2,7 x 10-7 bar im Abstand Verdampferschiffchen-Substrat von 20 - 25 cm leichtkörniges Siliziummonoxid homogen aufgedampft. Die Verdampfung erfolgt aus Wolfram-Schiffchen, die in direktem Stromdurchgang erhitzt werden. Das zu Vergleichszwecken halbseitig zu bedampfende Material wird auf eine rotierende Trommel aufgespannt und zur Herstellung unterschiedlicher SiO-Schichtdicken durch verschiedene Aufdampfzeiten von 5 bis 15 Minuten variiert.

    [0036] Die Messung der Photoempfindlichkeit wird wie folgt durchgeführt:

    Zur Ermittlung der Hellentladungskurven bewegt sich die Meßprobe auf einem sich drehenden Teller durch eine Aufladevorrichtung hindurch zur Belichtungsstation, wo sie mit einer Xenonlampe kontinuierlich belichtet wird. Ein Wärmeabsorptionsglas und ein Neutralfilter mit 15 % Transparenz sind der Lampe vorgeschaltet. Die Lichtintensität in der Meßebene liegt im Bereich von 50 - 100 pw/cm2, sie wird unmittelbar nach Ermittlung der Hellabfallkurve mit einem Opto-Meter gemessen. Die Aufladungshöhe (Uo) und die photoinduzierte Hellabfallkurve werden über ein Elektrometer durch eine transparente Sonde oszillographisch aufgezeichnet. Die Photoleiterschicht wird durch die Aufladungshöhe (U ) und diejenige Zeit (T1/2) charakterisiert, nach der die Hälfte der Aufladung (Uo/2) erreicht ist. Das Produkt aus Tl/2 und der gemessenen Lichtintensität I (µW/cm2) ist die Halbwertsenergie E1/2 (µJ/cm2). Gemäß dieser Charakterisierungsmethode wird die Photoempfindlichkeit mit und ohne SiO-Schutzschicht bestimmt:



    [0037] Die Restladung (UR) nach 0,1 sec., ermittelt aus obigen Hellentladekurven, ist ein weiteres Maß für die Entladung einer Photoleiterschicht.

    [0038] Hieraus wird ersichtlich, daß durch die aufgebrachte Siliziummonoxidschicht unterschiedlicher Dicke in diesem Bereich im wesentlichen keine Beeinträchtigung der Photoleitereigenschaften hervorgerufen wird.

    Beispiel 2



    [0039] Ein gemäß Beispiel 1 halbseitig mit SiO zu 2 g/m2 bedampftes Aufzeichnungsmaterial wird in einem Kopiergerät (25 Kopien/Min.) dem Kopierprozeß ausgesetzt, um die verbesserten Oberflächeneigenschaften zu demonstrieren. Zur Entwicklung dient eine Magnetbürsteneinrichtung mit einem Zweikomponententonergemisch. Zur Reinigung von restlichem Toner wird das Material an einer rotierenden Bürste vorbeigeführt. Dabei zeigt sich, daß durch Oberflächenverfilmung, herrührend von der Toner/Photoleiteroberflächen-Wechselwirkung, die Gebrauchsdauer der nicht geschützten Oberfläche begrenzt ist. Nach 2.000 Kopien sind bereits deutliche Oberflächenverfilmungen sichtbar, dagegen überhaupt nicht auf der geschützten Oberfläche.

    [0040] Nach 10.000 Kopien ist der Blendenspielraum (max. Öffnung) für die Herstellung einwandfreier Kopien bei dem ungeschützten Material durch Oberflächenverfilmung ausgenutzt, während sich das erfindungsgemäße Material in der Anfangsblendenstellung weiter kopieren läßt.

    Beispiel 3



    [0041] Wie in Beispiel 1 wird anstelle von Siliziummonoxid Magnesiumfluorid als Schutzschicht aufgedampft. Auch hier zeigt sich, daß die Photoempfindlichkeit noch nicht vermindert wird:


    Beispiel 4



    [0042] In gleicher Weise wie in Beispiel 3 wird Calciumfluorid als Deckschicht in 0,5 g/m2 Dicke aufgedampft. In Kopierversuchen gemäß Beispiel 2 wird gleich gute Photoempfindlichkeit nachgewiesen. Eine Oberflächenverfilmung war auf der Deckschicht praktisch nicht vorhanden.

    Beispiel 5



    [0043] Auf ein Aufzeichnungsmaterial, das in Reihenfolge aus Aluminium-bedampfter 125 pm dicker Polyesterfolie, einer Schicht aus Ladungsträger erzeugender Verbindung (N,N'-Bis(3-methoxy-propyl)perylimid gemäß DE-PS 24 51 781) sowie einer Ladungstransportschicht (Dicke 8,6 g/m2) aus To und hochviskosem Cellulosenitrat besteht, wird wie in Beispiel 1 angegeben, eine Deckschicht aus Siliziummonoxid in etwa 3 g/m2 Dicke aufgedampft. Zur Prüfung des Abriebverhaltens dieses Materials im Vergleich zu einem ungeschützten Material werden an einem Norm-Abriebgerät (Taber Abraser Typ 352) der Abrieb beider Schichten unter folgenden Bedingungen gemessen:

    [0044] 

    Der Abrieb in g/m2 ist der Quotient aus dem gravimetrisch ermittelten Abrieb und der Abriebfläche.

    [0045] Der Abrieb des ungeschützten Materials ergibt sich zu ca. 2,5 g/m2, das mit Deckschicht versehene Material hat einen Abrieb von 0,9 g/m2. Der Abrieb vermindert sich demnach um den Faktor 3.


    Ansprüche

    1. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem elektrisch leitenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer photoleitfähigen Schicht mit mindestens einer Ladungsträger erzeugenden Verbindung und mindestens einer Ladungen transportierenden Verbindung und einer schützenden, transparenten Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus einem im Vakuum aufgebrachten Metalloxid oder -halogenid besteht.
     
    2. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem elektrisch leitenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer photoleitfähigen Schicht aus einer gegebenenfalls Bindemittel enthaltenden Schicht mit Ladungsträger erzeugender Verbindung und einer Schicht mit Ladungen transportierender Verbindung sowie einer schützenden transparenten Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus einem im Vakuum aufgebrachten Metalloxid oder -halogenid besteht.
     
    3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus einem bei 10-5 - 10-8 bar aufgebrachten Metalloxid oder -halogenid besteht.
     
    4. Aufzeichnungsmaterial nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus Siliziummonoxid besteht.
     
    5. Aufzeichnungsmaterial nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus Magnesiumfluorid besteht.
     
    6. Aufzeichnungsmaterial nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht 0,5 - 10 µm dick ist.
     




    Zeichnung