[0001] Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem
elektrisch leitenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht,
einem photoleitfähigen Schichtsystem organischer Materialien aus einer gegebenenfalls
Bindemittel enthaltenden Schicht mit Ladungsträger erzeugender Verbindung und einer
Schicht mit Ladungen transportierender Verbindung sowie einer schützenden transparenten
Deckschicht.
[0002] Bei dem aus der US-A-2 297 691 bekannten und heute viel verwendeten elektrophotographischen
Verfahren zur Herstellung von Kopien ist nach der Übertragung des auf der Photoleiterschicht
auf trockenem Wege entwickelten Tonerbildes auf den Kopieträger stets eine gründliche
Reinigung der Photoleiterschicht erforderlich. Das Reinigen geschieht in der Regel
durch Abbürsten oder Abwischen der Schicht mit dafür geeigneten Bürsten bzw. Geweben.
Bei Kopiermaschinen, die mit Flüssigentwicklern arbeiten, wird die Wirkung der mechanischen
Reinigung häufig durch Mitverwendung einer Reinigungsflüssigkeit verstärkt. Neben
diesen Reinigungsoperationen ist die photoleitfähige Schicht auch noch anderen sie
schädigenden Einflüssen ausgesetzt. Zum Beispiel unterliegt sie der Einwirkung des
Trockenentwicklers sowie der Entwicklerstation (Gegenspannung) und bei der Flüssigentwicklung
darüber hinaus der Einwirkung der Entwicklerflüssigkeit.
[0003] Sie ist auch der in der Aufladestation erzeugten ionisierten Luft ausgesetzt. Es
ist bekannt, daß die erforderlichen Reinigungsvorgänge und die anderen erwähnten Einflüsse
zu einer Beeinträchtigung oder sogar mechanischen Beschädigung der Photoleiterschicht
führen und damit eine Verminderung ihrer Gebrauchsdauer zur Folge haben.
[0004] Aufzeichnungsmaterialien mit einer photoleitfähigen Schicht aus mindestens einer
Schicht mit Ladungsträger erzeugender Verbindung und Ladungen transportierender Verbindung
sind bekannt. So werden zum Beispiel hochempfindliche, organische Photoleiterschichten
(DE-B-2 314 051) aufgrund ihrer hohen Elastizität auf leitfähigen Trägerfolien bzw.
-bändern verwendet.
[0005] Insbesondere lassen sich sehr hochempfindliche Photoleitersysteme gemäß zum Beispiel
DE-A-2 734 288 wegen ihrer großen Flexibilität als Endlosbänder einsetzen, die über
Umlenkwalzen mit relativ kleinem Durchmesser geführt werden können.
[0006] Es ist auch bekannt (US-A-2 901 348, US-A-4148 637, DE-A-2 452 622), Photoleiterschichten
mit einer zusätzlichen Deckschicht aus anorganischen oder organischen Materialien
zu schützen. Nachteilig daran ist, daß sie entweder auf den weniger flexiblen aus
Selen bestehenden oder Selen enthaltenden Schichten oder auf generell weniger empfindlichen
organischen Photoleitersystemen angewandt werden. Außerdem müssen diese Deckschichten
zur besseren Haltbarkeit mit Zusätzen, wie Silankupplern, versetzt werden oder enthalten
die elektrische Leitfähigkeit erhöhende Substanzen.
[0007] Aus GB-A-918 234 ist ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial aus einer
elektrisch leitenden Unterlage mit einer Schicht aus photoleitfähigem, isolierendem
Material, wie Selen oder ähnlichem photoleitfähigem Material, bekannt, das mit einer
dünnen transparenten Schicht eines anorganischen Materials, wie Sulfid, Siliziumdioxid,
Titandioxid, Silikat und Erdalkalifluorid, bedeckt ist. Die Deckschicht hat eine Dicke,
die bei merklichem Schutz der Photoleiterschicht beginnen soll, bis zu einem Maximum
von 2,5 um (0,1 mil). Als Photoleiterschichtdicke wird ein Bereich von etwa 1,25 bis
25,4 um angegeben. Aus der dieser Patentschrift korrespondierenden DE-B-1 109 031
wird ein ganz anderes System als geeignet vorgestellt. Dort hat die Photoleiterschicht
eine Dicke im Bereich von 0,0008 bis 0,04 cm und die anorganische Deckschicht eine
Dicke von 0,0004 bis 0,004 cm. Es war deshalb für den nacharbeitenden Fachmann durchaus
nicht eindeutig, welche Dickenbereiche er nun anwenden sollte, geschweige, daß er
von diesem System anorganischer Photoleiter/anorganische Deckschicht abgehen sollte
auf ein organisches Material, wie dies erfindungsgemäß der Fall ist.
[0008] Es ist auch aus DE-A-2 220 270 eine xerographische Speicherfläche bekannt, die einen
Antireflexions- und Schutzüberzug aus Siliziumoxid besitzt. Aufgrund der physikalischen
Angaben ist die Offenbarung eindeutig auf Selenbeschichtungen als Photoleiterschicht
abgestellt. Von einer elektrisch leitenden Unterlage ist nicht die Rede. Die Dicke
der Aufdampfschicht wird nur insofern angegeben, daß sie optisch bestimmt wird und
die Bedampfung dann beendet wird, wenn die Reflexibilität durch ihr erstes Minimum
geht. Aus dieser Lehre geht ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial der
eingangs beschriebenen Art nicht hervor.
[0009] Aufgabe der Erfindung war es, die aus organischen Materialien bestehenden, in Photoleiterdoppelschichtanordnung
hochlichtempfindlichen Photoleitersysteme mit einer sie vor mechanischen oder gegebenenfalls
sonstigen nachteiligen Einflüssen schützenden Deckschicht aus gegen sichtbares Licht
transparenten Materialien zu versehen, die die Funktion der Photoleiterschicht nicht
wesentlich beeinträchtigen und allgemein die Gebrauchsdauer solcher Systeme erhöhen.
[0010] Die gestellte Aufgabe wird durch ein in Anspruch 1 genanntes elektrophotographisches
Aufzeichnungsmaterial gelöst, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß die Deckschicht
aus 1 bis 10-
3 Pa bei (10-
5 bis 10-
8 bar) aufgebrachtem Siliziummonoxid, Magnesiumfluorid oder Calciumfluorid besteht
und 0,5 bis 10 µm dick ist.
[0011] Hierdurch wird erreicht, daß ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial zur
Verfügung gestellt werden kann, bei dem bei nahezu gleichbleibender Photoempfindlichkeit
die Abriebfestigkeit und die Gebrauchsdauer deutlich verbessert sind.
[0012] Durch die Erhöhung der Abriebfestigkeit und damit der Gebrauchsdauer wird weiterhin
erreicht, daß die Mehrfachschichtanordnung nicht nur auf flexiblen leitenden Schichtträgern,
sondern auch auf Trommeln rentabler eingesetzt werden kann.
[0013] Schematisch wird das erfindungsgemäße elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial
durch die Fig. 1 bis 3 wiedergegeben. Die photoleitfähige Schicht liegt als Doppelschichtanordnung
vor, die aus einer Ladungsträger erzeugende Verbindungen enthaltenden Schicht 2, wie
dies in Fig. 1 und 2 zum Ausdruck kommt, und aus einer Ladungen transportierende Verbindungen
enthaltenden Schicht unter der jeweiligen Position 3 besteht. Der leitende Schichtträger
ist jeweils mit 1 angegeben. Unter Position 4 ist eine isolierende Zwischenschicht
angedeutet, Position 5 zeigt eine Schicht aus Ladungen erzeugender Verbindung in Dispersion.
Mit Position 7 ist die erfindungsgemäße schützende Deckschicht angezeigt.
[0014] Als leitende Schichtträger kommen zum Beispiel Aluminium-Folie, gegebenenfalls transparente,
mit Aluminium bedampfte oder kaschierte Polyesterfolie zum Einsatz, jedoch kann jeder
andere genügend leitfähig gemachte Schichtträger verwendet werden.
[0015] Die isolierende Zwischenschicht kann durch eine thermisch, anodisch oder chemisch
erzeugte Aluminiumoxid-Zwischenschicht hergestellt werden. Sie kann auch aus organischen
Materialien bestehen. So werden unterschiedliche Natur- bzw. Kunstharzbindemittel
verwendet, die gut auf einer Metall- bzw. Aluminium-Oberfläche haften und beim nachfolgenden
Anbringen der weiteren Schichten wenig angelöst werden, wie zum Beispiel Polyamidharze,
Polyvinylphosphonsäure, Polyurethane, Polyesterharze oder spezifisch alkalilösliche
Bindemittel, wie zum Beispiel Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate. Die Dicke
solcher organischen Zwischenschichten kann bis zu 5 gm betragen, die der Aluminiumoxidschicht
liegt größtenteils im Bereich von 0,01―1 µm.
[0016] Die Schicht 2 bzw. 5 besitzt die Funktion einer Ladungsträgererzeugungsschicht. Die
dabei eingesetzten Ladungsträger erzeugenden Verbindungen bestimmen in besonderem
Maße die spektrale Lichtempfindlichkeit des photoleitfähigen Systems. Als Ladungsträger
erzeugende Substanzen sind Farbstoffe unterschiedlichster Klassen vorhanden. Beispielsweise
seien genannt:
Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäureanhydrid bzw. Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäureimidderivate
nach DE-A-2 237 539;
oder gemäß DE-B-2 232 513 N,N'-Bis-(3-methoxy-propyl)-3,4,9,10-perylentetracarbonsäureimid;
polynukleare Chinone nach DE-A-2 237 678; cis- bzw. trans-Perione nach DE-A-2 239
923;
Thioindigo-Farbstoffe nach DE-A-2 237 680; Chinacridone nach DE-A- 2 237 679;
Kondensationsprodukte aus Benzo-4,10-thioxanthen-3,1'-dicarbonsäureanhydrid und Aminen
nach DE-A-2 355 075;
Phthalocyanin-Derivate nach DE-A-2 239 924 und Farbstoffe, die durch Kondensation
nach der Vorschrift Bull. Chem. Soc. Japan, 25, 411-413/1952, aus
Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäureanhydrid und o-Phenylendiamin oder 1,8-Diaminophthalin
hergestellt werden, gemäß DE-A-2 314 051.
[0017] Ferner können beispielsweise Farbstoffe nach den DE-A-2 246 255, 2 253 639 und 2
356 370 eingesetzt werden.
[0018] Das Aufbringen einer homogenen, dicht gepackten Schicht 2 wird bevorzugt durch Aufdampfen
im Vakuum erhalten. Ein vorteilhafter Schichtdickenbereich der Schicht 2 liegt zwischen
0,005 und 3 µm, da hier Haftfestigkeit und Homogenität der aufgedampften Verbindung
besonders günstig sind.
[0019] In Kombination mit der Zwischenschicht oder als Ersatz der Zwischenschicht können
homogene, gut abdeckende Farbstoffschichten mit Dicken von größenordnungsmäßig 0,1―3
µm auch durch Vermahlen des Farbstoffs mit einem Bindemittel, insbesondere mit hochviskosen
Cellulosenitraten und/oder vernetzenden Bindemittelsystemen, zum Beispiel polyisocyanatvernetzbaren
Acrylharzen, Lacken auf Basis von Polyisocyanaten und hydroxylgruppenhaltigem Polyester
oder -ether und durch anschließendes Aufbringen dieser Farbstoffdispersionen 5 auf
den Schichtträger hergestellt werden, wie dies aus Fig. 3 hervorgeht.
[0020] Als dem Ladungstransport dienendes Material in Schicht 3 sind vor allem organische
Verbindungen geeignet, die ein ausgedehntes z-Elektronensystem besitzen. Hierzu gehören
insbesondere monomere aromatische bzw. heterocyclische Verbindungen, die mindestens
eine Dialkylaminogruppe oder zwei Alkoxygruppen aufweisen. Bewährt haben sich besonders
Oxdiazol-Derivate, die in der deutschen Patentschrift 1 058 836 genannt sind. Hierzu
gehören insbesondere das 2,5-Bis-(p-diethylaminophenyl)-oxdiazol-1,3,4. Weitere geeignete
monomere Elektronendonatorverbindungen sind zum Beispiel Triphenylaminderivate, höher
kondensierte aromatische Verbindungen wie Pyren, benzokondensierte Heterocyclen, außerdem
Pyrazolin- oder Imidazolderivate (DE-B-1 060 714, 1 106 599), hierher gehören auch
Triazol-, Thiadiazol- sowie besonders Oxazolderivate, zum Beispiel 2-Phenyl-4-(2-chlorphenyl)-5-(4-diethylamino)-oxazol,
wie sie in den deutschen Patentschriften 1 060 260, 1 299 296, 120 875 offenbart sind.
[0021] Die Ladungstransportschicht 3 weist im sichtbaren Bereich (420-750 nm) praktisch
keine Photoempfindlichkeit auf. Sie besteht vorzugsweise aus einem Gemisch einer Elektronendonatorverbindung
mit einem Harzbindemittel, wenn negativ aufgeladen werden soll.
[0022] Die Schicht 3 ist vorzugsweise transparent. Es ist jedoch auch möglich, daß sie,
etwa bei transparentem, leitfähigem Schichtträger, nicht transparent zu sein braucht.
Sie besitzt einen hohen elektrischen Widerstand (≥10
12 Ω) und verhindert im Dunkeln das Abfließen der elektrostatischen Ladung. Bei Belichtung
transportiert sie die in der organischen Farbstoffschicht erzeugten Ladungen.
[0023] Neben den bisher beschriebenen Ladungsträger erzeugenden und den transportierenden
Verbindungen beeinflußt das zugesetzte Bindemittel sowohl das mechanische Verhalten
wie Abrieb, Flexibilität, Filmbildung usw. als auch in gewissem Umfang das elektrophotographische
Verhalten wie Photoempfindlichkeit, Restladung und zyklisches Verhalten.
[0024] Als Bindemittel werden filmbildende Verbindungen wie Polyesterharze, Polyvinylchlorid/Polyvinylacetat-Mischpolymerisate,
Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate, Polycarbonate, Silikonharze, Polyurethane,
Epoxidharze, Acrylate, Polyvinylacetale, Polystyrole, Cellulose-Derivate wie Celluloseacetobutyrate
usw. eingesetzt. Außerdem werden nachvernetzende Bindemittelsysteme wie DD-Lacke (zum
Beispiel Desmophen/Desmodur
®, Bayer AG), polyisocyanatvernetzbare Acrylatharze, Melaminharze, Harze aus ungesättigten
Polyestern usw. erfolgreich angewandt.
[0025] Wegen der kombinierten Vorteile (hohe Photoempfindlichkeit, Blitzempfindlichkeit,
hohe Flexibilität) ist der Einsatz von Cellulosenitraten, insbesondere der hochviskosen
Typen bevorzugt.
[0026] Das Mischungsverhältnis der ladungstransportierenden Verbindung zu dem Bindemittel
kann variieren. Jedoch sind durch die Forderung nach maximaler Photoempfindlichkeit,
d. h. möglichst großem Anteil an ladungstransportierender Verbindung und nach zu vermeidender
Auskristallisation sowie Erhöhung der Flexibilität, d. h. möglichst großem Anteil
an Bindemitteln, relativ bestimmte Grenzen gesetzt. Es hat sich allgemein ein Mischungsverhältnis
von etwa 1 : 1 Gewichtsteilen als bevorzugt erwiesen, jedoch sind auch Verhältnisse
zwischen 4 : 1 bis 1 : 2 geeignet.
[0027] Die Dicke der Schicht 3 liegt vorzugsweise zwischen etwa 3 und 20 gm.
[0028] Als übliche Zusätze werden der Schicht Verlaufmittel wie Silikonöle, Netzmittel,
insbesondere nichtionogene Substanzen, Weichmacher unterschiedlicher Zusammensetzung
wie zum Beispiel auf Basis chlorierter Kohlenwasserstoffe oder auf Basis von Phthalsäureester
zugegeben. Gegebenenfalls können der Ladungstransportschicht als Zusatz auch Sensibilisatoren
und/oder Akzeptoren zugefügt werden, jedoch nur in dem Maße, daß die optische Transparenz
der Ladungstransportschicht nicht wesentlich beeinträchtigt wird.
[0029] Die auf dem organischen Photoleitersystem erzeugte schützende Deckschicht besitzt
eine gleichmäßige Dicke von 0,5-10 um, vorzugsweise von 0,5-5 um. Dieser Dickenbereich
ist geeignet, weil dadurch einerseits beim Belichten und Entladungsvorgang der Ladungsdurchfluß
nicht wesentlich beeinflußt wird und weil andererseits ein deutlich verbessertes Abriebverhalten
erreicht wird.
[0030] Die Auswahl der anorganischen Aufdampfmaterialien richtet sich hauptsächlich nach
ihrer Verdampfungs-Temperatur und -rate, ihrer Beständigkeit bei der Verdampfung sowie
nach den Eigenschaften der aufgedampften Schutzschichten, wie zum Beispiel homogene
Filmbildung, Flexibilität, Oberflächenleitfähigkeit (auch in Abhängigkeit von der
Luftfeuchte) und der spektralen Lichtdurchlässigkeit.
[0031] Materialien wie Siliziummonoxid oder Magnesiumfluorid können das Antireflexverhalten
der Photoleiterschicht verbessern, was sich in einer besseren Ausnutzung des einfallenden
Lichtes anzeigt. Sie werden deshalb besonders bevorzugt eingesetzt.
[0032] Größtenteils lassen sich diese Stoffe aus elektrisch beheizten Wolfram-, Molybdän-
oder Tantal-Schiffchen bei einer Substrattemperatur ≤50°C im Vakuum aufdampfen. Für
bestimmte Materialien können auch Elektronenstrahl-Verdampfer notwendig sein.
[0033] Diese Verfahren haben den Vorteil, daß zum Aufbringen einer Deckschicht keine organischen
Lösungen wie bei einem Beschichtungsvorgang mit nachfolgender Trocknung benötigt werden,
also auch keine Anlösungsprobleme der zu schützenden photoleitfähigen Schicht bzw.
Schichten auftreten. Vielmehr sorgt die kinetische Energie der aufzudampfenden Moleküle
für eine homogene, haftende Deckschicht auf der Oberfläche; die Verträglichkeit mit
der photoleitfähigen Schicht ist praktisch immer gegeben. Im niedrigeren Deckschichtdickenbereich
bis ca. 3 um erweist sich das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
als weitgeehnd flexibel, bei bereits deutlich verbesserter Abriebfestigkeit.
[0034] Weiterhin ergeben die erfindungsgemäßen Deckschichten den Vorteil, daß sie bei der
Handhabung des Photoleiters entstehende Oberflächeneffekte wie zum Beispiel Auskristallisationseffekte
durch Handberührung verhindern.
[0035] Die erfindungsgemäßen Deckschichten werden bevorzugt auf Photoleitertrommeln als
Schichtträger eingesetzt.
[0036] Die Erfindung wird anhand der Beispiele näher erläutert, ohne sie hierauf zu beschränken.
Beispiel 1
[0037] Auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial, das in der angegebenen Reihenfolge
aus aluminiumbedampfter 75 um dicker Polyesterfolie als elektrisch leitendem Schichtträger,
einer Farbstoffschicht aus N,N'-Dimethylperylimid (C. I. 71 129) als Ladungsträger
erzeugender Verbindung sowie einer Ladungstransportschicht aus 2,5-Bis(4-diethylaminophenyl)-oxdiazol-1,3,4
(= To) und den Bindemitteln Polyester- sowie Polyvinylchlorid/Polyvinylacetat-Harz
aufgebaut ist, wird in einer Vakuumbedampfungsanlage bei 2,7×10
-7bar im Abstand Verdampferschiffchen―Substrat von 20-25 cm leichtkörniges Siliziummonoxid
homogen aufgedampft. Die Verdampfung erfolgt aus Wolfram-Schiffchen, die in direktem
Stromdurchgang erhitzt werden. Das zu Vergleichszwecken halbseitig zu bedampfende
Material wird auf eine rotierende Trommel aufgespannt und zur Herstellung unterschiedlicher
SiO-Schichtdicken durch verschiedene Aufdampfzeiten von 5 bis 15 Minuten variiert.
[0038] Die Messung der Photoempfindlichkeit wird wie folgt durchgeführt:
Zur Ermittlung der Hellentladungskurven bewegt sich die Meßprobe auf einem sich drehenden
Teller durch eine Aufladevorrichtung hindurch zur Belichtungsstation, wo sie mit einer
Xenonlampe kontinuierlich belichtet wird. Ein Wärmeabsorptionsglas und ein Neutralfilter
mit 15% Transparenz sind der Lampe vorgeschaltet. Die Lichtintensität in der Meßebene
liegt im Bereich von 50―100 µW/ cm2, sie wird unmittelbar nach Ermittlung der Hellabfallkurve mit einem Opto-Meter gemessen.
Die Aufladungshöhe (Uo) und die photoinduzierte Hellabfallkurve werden über ein Elektrometer durch eine
transparente Sonde oszillographisch aufgezeichnet. Die Photoleiterschicht wird durch
die Aufladungshöhe (U0) und diejenige Zeit (T1/2) charakterisiert, nach der die Hälfte der Aufladung (Uo/2) erreicht ist. Das Produkt
aus Ti/2 und der gemessenen Lichtintensität I (uW/cm2) ist die Halbwertsenergie Ei/2 (pJ/cm2). Gemäß dieser Charakterisierungsmethode wird die Photoempfindlichkeit
mit und ohne SiO-Schutzschicht bestimmt:

[0039] Die Restladung (U
R) nach 0,1 sec, ermittelt aus obigen Hellentladekurven, ist ein weiteres Maß für die
Entladung einer Photoleiterschicht.
[0040] Hieraus wird ersichtlich, daß durch die aufgebrachte Siliziummonoxidschicht unterschiedlicher
Dicke in diesem Bereich im wesentlichen keine Beeinträchtigung der Photoleitereigenschaften
hervorgerufen wird.
Beispiel 2
[0041] Ein gemäß Beispiel 1 halbseitig mit SiO zu 2 g/m
2 bedampftes Aufzeichnungsmaterial wird in einem Kopiergerät (25 Kopien/Min.) dem Kopierprozeß
ausgesetzt, um die verbesserten Oberflächeneigenschaften zu demonstrieren. Zur Entwicklung
dient eine Magnetbürsteneinrichtung mit einem Zweikomponententonergemisch. Zur Reinigung
von restlichem Toner wird das Material an einer rotierenden Bürste vorbeigeführt.
Dabei zeigt sich, daß durch Oberflächenverfilmung, herrührend von der Toner/Photoleiteroberflächen-Wechselwirkung,
die Gebrauchsdauer der nicht geschützten Oberfläche begrenzt ist. Nach 2000 Kopien
sind bereits deutliche Oberflächenverfilmungen sichtbar, dagegen überhaupt nicht auf
der geschützten Oberfläche.
[0042] Nach 10000 Kopien ist der Blendenspielraum (max. Öffnung) für die Herstellung einwandfreier
Kopien bei dem ungeschützten Material durch Oberflächenverfilmung ausgenutzt, während
sich das erfindungsgemäße Material in der Anfangsblendenstellung weiter kopieren läßt.
Beispiel 3
[0043] Wie in Beispiel 1 wird anstelle von Siliziummonoxid Magnesiumfluorid als Schutzschicht
aufgedampft. Auch hier zeigt sich, daß die Photoempfindlichkeit noch nicht vermindert
wird:

Beispiel 4
[0044] In gleicher Weise wie in Beispiel 3 wird Calciumfluorid als Deckschicht in 0,5 g/m
2 Dicke aufgedampft. In Kopierversuchen gemäß Beispiel 2 wird gleich gute Photoempfindlichkeit
nachgewiesen. Eine Oberflächenverfilmung war auf der Deckschicht praktisch nicht vorhanden.
Beispiel 5
[0045] Auf ein Aufzeichnungsmaterial, das in Reihenfolge aus aluminiumbedampfter 125 um
dicker Polyesterfolie, einer Schicht aus Ladungsträger erzeugender Verbindung (N,N'-Bis(3-methoxy-propyl)pery-
limid gemäß DE-B-2 451 781) sowie einer Ladungstransportschicht Dicke 8,6 g/m
2) aus To und hochviskosem Cellulosenitrat besteht, wird wie in Beispiel 1 angegeben,
eine Deckschicht aus Siliziummonoxid in etwa 3 g/m
2 Dicke aufgedampft. Zur Prüfung des Abriebverhaltens dieses Materials im Vergleich
zu einem ungeschützten Material werden an einem Norm-Abriebgerät (Taber Abraser Typ
352) der Abrieb beider Schichten unter folgenden Bedingungen gemessen:

[0046] Der Abrieb in g/m
2 ist der Quotient aus dem gravimetrisch ermittelten Abrieb und der Abriebfläche.
[0047] Der Abrieb des ungeschützten Materials ergibt sich zu ca. 2,5 g/m
2, das mit Deckschicht versehene Material hat einen Abrieb von 0,9 g/m
2. Der Abrieb vermindert sich demnach um den Faktor 3.