[0001] La présente invention concerne un bain d'électrolyse à base de chrome trivalent.
[0002] Pour réaliser un dépôt élctrolytique de chrome ou chromage, on utilise couramment
une solution aqueuse d'acide chromique concentré (chrome hexavalent) en présence d'ions
catalyseurs (du type sulfates ou fluorures), ou bien encore une solution organique
ou mi-aqueuse mi-organique de chrome trivalent. L'utilisation d'un bain d'électrolyse
à base de chrome trivalent est préférable car elle présente de nombreux avantages.
[0003] En effet, pour les bains au chrome hexavalent le rendement en courant obtenu est
moyen, les pertes en élément chrome sont très élevées et la haute toxicité de l'acide
chromique pose un certain nombre de problèmes. Au cours des dernières années, de nombreux
procédés ont tenté de remplacer le chrome hexavalent par du chrome trivalent. Le sel
de chrome trivalent employé est de nature très variable, et beaucoup de procédés précisent
sa méthode particulière de fabrication. Les méthodes de réduction du chrome hexavalent
-en chrome trivalent, par des agents réducteurs organiques ou inorganiques, connues
depuis fort longtemps constituent un des moyens de fabrication intéressant des sels
de chrome trivalent. Cependant jusqu'à présent les sels de chrome trivalent obtenus
à partir de ces différentes réductions ne peuvent être utilisés directement pour un
chromage par électrodéposition : il est indispensable de transformer le sel de chrome
trivalent issu de la réduction en un nouveau composé (en particulier en un complexe
organique ou inorganique le plus souvent) ,et, pour que le chromage soit possible,
d'accompagner le nouveau composé de chrome trivalent de produits jugés indispensables.
Ainsi en est-il en particulier des brevets GB N° 1 144 913 et 2 086 939,FR 2 254 657,
657, 2 305 510, 2 319 721, 2 322 217, 2 335 624, 2 362 948, 2 382 521 et 2 441 003.
Ceux-ci imposent la complexation du sel de chrome trivalent, l'adjonction de divers
produits ou l'utilisation de bain d'électrolyse mi-aqueux mi-organiques.
[0004] Par ailleurs, pour que, industriellement, un bain à base de chrome trivalent puisse,
avec profit, se substituer aux bains habituels, à base de chrome hexavalent, il lui
faudrait pouvoir permettre d'effectuer :
- un chromage décoratif avec une couleur de dépôt identique à celle d'un chrome hexavalent,
- un chromage dur avec une épaisseur suffisante pour se prêter à une comparaison avec
le chromage dur produit avec les bains au chrome hexavalent.
[0005] Des procédés décrivent l'obtention de chrome épais à partir de composés de chrome
trivalent, mais, en règle générale ils imposent la séparation rigoureuse des compartiments
anodique et cathodique, ce qui impose de difficiles contraintes techniques d'exploitation.
[0006] A première vue, seuls les brevets de chromage à base de chrome trivalent FR 2 441
003, FR 2 460 344, FR 2474 538 paraissent apporter une réponse valable, le premier
pour obtenir un chrome décoratif, le deuxième un chrome épais et le troisième à la
fois un chrome décoratif et un chrome -épais. Cependant, dans les deux premiers brevets,
le chrome libéré dans le chromage provient d'un complexe de chrome trivalent et :
- dans le brevet FR 2 441 003 la concentration en chrome dans la solution d'électrodéposition
doit être inférieure à 0,03 M
- dans le deuxième brevet FR 2 460 344 il est nécessaire d'effectuer un chromage en
plusieurs étapes pour arriver à avoir un chrome d'une épaisseur de cinq microns.
[0007] Seul le brevet FR 2 474 538 apporte une réponse simple et complète aux problèmes
soulevés ci-dessus.
[0008] Pour l'essentiel il porte :
1°) Sur l'utilisation d'un sulfate de chrome trivalent, non introduit dans un complexe,
dans un milieu réactionnel simple, en particulier dépourvu de la présence indispensable
de solvant particulier, organique ou inorganique.
2°) Sur des caractéristiques particlières de fonctionnement du bain, réalisé avec
ce sel de chrome trivalent, permettant d'obtenir, simplement, des résultats commercialement
intéressants, car, vis-à-vis de la couleur et de l'épaisseur du chrome déposé, très
proches de ceux obtenus avec les bains habituels, au chrome hexavalent.
[0009] Si un tel procédé s'est révélé donner des résultats satisfaisants, on a constaté
qu'il était possible, tout en conservant l'intérêt commercial décrit au paragrpahe
2°) ci-dessus, d'étendre le domaine d'aplication à des bains utilisant un halogénure
de chrome trivalent et, par le choix judicieux des constituants de ces bains, d'améliorer
les performances obtenues.
[0010] Suivant l'invention ce bain d'électrolyse à base de chrome trivalent est constitué
par une solution obtenue par réduction ménagée, par un agent réducteur tel qu'alcool,
eau oxygénée, hyposulfite, anhydride sulfureux, de trioxyde de chrome en milieu chlorhydrique.
[0011] Le sel de chrome trivalent obtenu :
- n'est pas inclus dans un complexe (en particulier dans tout complexe entre chrome
trivalent et ions à base OH- ou chrome hexavalent et molécule organique).
- est utilisable directement pour une opération de chromage,dès la fin de la réduction
du trioxyde de chrome, sans adjonction indispensable de produits supplémentaires,
en particulier d'agent complexant du chrome trivalent ou de solvant organique pour
que puisse démarrer l'opération de chromage ; et que le bon fonctionnement de ce bain
n'est lié qu'à la présence d'ions Cr3+, d'ions halogénures, de molécules d'eau et d'ions H+.
[0012] La solution de trioxyde de chrome peut contenir éventuellement des ions sulfuriques
ou bromhydriques mais aucun adjuvant supplémentaire n'est indispensable à la bonne
marche du bain.
[0013] Le bain d'électrolyse suivant l'invention peut être utilisé sans séparation des compartiments
anodique et catho- dioue.
[0014] L'anode utilisée pour l'opération de chromage est constituée en un matériau pouvant
résister à un dégagement de chlore et permettant le moins possible la formation de
chrome hexavalent par oxydation anodique. De préférence on utilise avec le bain, suivant
l'invention, des anodes en carbone qui permettent d'obtenir d'excellents résultats.
[0015] Les conditions générales d'utilisation du bain sont les suivantes :

[0016] L'utilisation d'un bain d'électrolyse suivant l'invention offre de nombreux avantages.
Le bain est très simple à réaliser et son prix de revient est réduit. La concentration
du bain en chrome étant faible, les pertes en chrome par entrainement mécanique sont
limitées. L'absence de séparation des compartiments anodique et cathodique permet
le chromage de pièces complexes. Du fait que l'on utilise du chrome trivalent les
problèmes de toxicité et de traitement des effluents sont réduits. Le bain d'électrolyse
tolère l'interruption de courant électrique et il peut s'appliquer à différents matériaux.
[0017] Ce bain d'électrolyse permet de déposer sur des substances conductrices un dépôt
de chrome décoratif de couleur identique à celle obtenue par les procédés de chromage
avec du chrome hexavalent, avec une concentration de la solution en chrome trivalent
qui est comprise entre 0,1 et 1 ion-g/1 (5,2 à 51,99 g/1 de Cr
3+).
[0018] De même, en ce qui concerne le chrome épais, le bain, selon l'invention, permet de
déposer sur des substances conductrices un revêtement de chrome d'épaisseur supérieure
à plusieurs dizaines de microns et même dépassant la centaine de microns, dépôt, dense,
adhérent et brillant, de dureté supérieure à mille Vickers.
[0019] Ces dépôts de chrome épais sont réalisés en une seule opération d'électrolyse sans
avoir, comme indiqué ci-dessus, à séparer les compartiments anodique et cathodique,
et sanss avoir à changer la composition du bain au cours du chromage.
[0020] Le bain selon l'invention outre l'adjonction possible de sels conducteurs, tels que
NaCl, KC1, NH
4Cl tolère les produits utilisés couramment en chromage pour l'amélioration des performances
des bains.
[0021] On donnera ci-dessous, à titre d'exemples non limitatifs, les résultats d'essais
qui ont été effectués avec divers bains d'électrolyse suivant l'invention.
1)- Concentration en CrIII: 0,2 ion g/1

2)- Concentration en CrIII: 0,3 ion g/1, avec addition de KC1: 70 g/1

[0022] Aspect du dépôt: adhérent, brillant, couleur identique à celle du chrome déposé à
partir des bains au chrome hexavalent.
[0023] 3)- Concentration en Cr
III: 0,35 ion g/1

[0024] Aspect du dépôt: adhérent, dense, légèrement mat, couleur identique à celle du chrome
déposé à partir des bains au chrome hexavalent.
[0025] 4)- Concentration en Cr
III: 0,4 ion g/1

[0026] Aspect du dépôt: adhérent, rugueux, couleur identique à celle du chrome déposé à
partir des bains au chrome hexavalent.
[0027] Comme on peut le voir d'après les exemples précités, le bain d'électrolyse permet
d'utiliser une différence de potentiel de l'ordre de 5 volts (exemple 2) et les dépôts
obtenus sont toujours d'excellente qualité, même lorsque l'épaisseur moyenne du dépôt
obtenu est bien supérieure à 100 micron (exemple 4).
1.- 3ain d'électrolyse à base de chrome trivalent constitué par une solution aqueuse
d'halogénure de chrome trivalent ,caractérisé en ce que le chrome trivalent n'est
pas inclus dans un complexe (en particulier dans tout complexe entre chrome trivalent
et ions à base de OH-, ou chrome trivalent et molécules organiques), et que le bon
fonctionnement de ce bain n'est lié qu'à la présence d'ions Cr3+, d'ions halogénures, de molécules d'eau et d'ions H+.
2.- Bain d'électrolyse suivant la revendication 1, obtenu par la réduction du trioxyde
de chrome (Cr03) par un agent réducteur tel que l'alcool, eau oxygénée, hyposulfite, anhydride sulfureux,
en milieu chlorhydrique pouvant contenir éventuellement des ions bromhydriques ou
sulfuriques, caractérisé en ce qu'il permet de réaliser l'électrolyse et le dépôt
de chrome immédiatement après la réduction du trioxyde de chrome, sans adjonction
indispensable de produits supplémentaires en particulier d'agent complexant.
3.- Bain d'électrolyse suivant la revendication 1 , permettant de déposer sur des
substances conductrices, un revêtement de chrome d'épaisseur supérieure à plusieurs
dizaines de microns, caractérisé en ce qu'on peut réaliser directement un dépôt de
chrome dense et adhérent en une seule opération d'électrolyse, sans avoir à séparer
les compartiments anodique et cathodique et sans avoir à changer la composition du
bain en cours de revêtement.
4.- Bain d'électrolyse selon la revendication 1 permettant d'obtenir une vitesse de
déposition supérieure à 1 µm.mn-1 avec des densités de courant de 25 et 30 A.dm-2 caractérisé en ce que la densité de courant cathodique pour obtenir un dépôt adhérent
et brillant est supérieure à 10 A.dm-2.
5.- Bain d'électrolyse selon la revendication 1, destiné à réaliser un dépôt de chrome
décoratif de couleur identique à celle obtenue par les procédés de chromage avec du
chrome hexavalent, caractérisé en ce que la concentration en chrome trivalent de la
solution est comprise entre D,1 et 1 ion-g/1.
6.- Bain d'électrolyse selon la revendication 1 caractérisé en ce qu'il peut comporter
en outre des quantités quelconques d'au moins un produit (sels conducteurs par exemple,
...) utilisé couramment en chromage pour l'amélioration des performances des bains.