[0001] Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abdichten eines ReLais
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
[0002] Ein derartiges Verfahren ist bekannt aus der DE-OS 26 18 492. Dort besitzt die Bodenplatte,
die vom DeckeLrand übergriffen wird, einennach außen weisenden Höcker. Letzterer ist
mit einer zentralen Lüftungsöffnung versehen. Die Abdichtung erfolgt durch ein auf
die BodenpLatte und den unteren DeckeLrand aufgelegtes; mit aushärtbarer Vergußmasse
getränktes Vlies, durch das der Höcker durch eine Aussparung im VLies hindurchragt.
Das LüftungsLoch sorgt während des Aushärtens für einen Druckausgleich im Bauelement.
Nach dem Aushärten kann das LüftungsLoch mit dickflüssigem Harz oder KLeber verschlossen
werden.
[0003] Ein ähnliches Verfahren ohne Verwendung eines VLieses ist aus der EP-AnmeLdung 0053
870 bekannt. In beiden FäLLen ist das dünne LüftungsLoch außen von einem erweiterten
Einfüllbereich umgeben.
[0004] Mit der vorliegenden Erfindung soll die Aufgabe gelöst werden, bei einem Abdichtverfahren
der genannten Art zu verhindern, daß Vergußmasse oder zuviel Vergußmasse beim Abdichten
nach innen fließt. Trotzdem soll die Atmosphäre des Innenraumes möglichst von schädlichen,
besonders beim Vergießen innen auftretenden Gasen frei sein.
[0005] Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen
MerkmaLe gelöst. Durch das Vergießen im geschlossenen Zustand verhindert der Innendruck
im ReLais, daß Vergußmasse nach innen Läuft und mit BauteiLen in Berührung kommen
kann, die die Gebrauchsfähigkeit des ReLais beeinträchtigen oder es funktionsunfähig
machen. Durch die nach dem Angelierenoder Aushärten der Vergußmasse vorgenommene öffnung
des ReLaisgehäuses können die schädlichen Gase entweichen. ZusätzLich kann der Innenraum
dann entgast und mit inertem Gas gespült oder gefüllt werden und dann das LüftungsLoch
verschlossen werden. Hierdurch erhält man ein ReLais mit optimalem SchaLtverhaLten.
[0006] Weitere vorteilhafte Einzelheiten der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben
und nachfolgend anhand eines in der Zeichnung veranschaulichten Ausführungsbeispieles
beschrieben. Dabei zeigen:
Fig. 1 eine Seitenansicht eines DeckeLs eines ReLais mit dem angedeuteten, das Magnetsystem
und das Kontaktsystem enthaltenden GehäuseteiL,
Fig. 2 den DeckeL von oben gemäß dem Schnitt A-B-C der Fig. 1,
Fig. 3 eine Seitenansicht des Deckels gemäß dem Schnitt D-E der Fig. 2,
Fig. 4 den Ausschnitt X der Fig. 3 in vergrößertem Maßstab und
Fig. 5 einen Verfahrensableufplan.
[0007] In Fig. 1 ist mit 1 ein becherförmiger DeckeL bezeichnet, in dessen Oberseite 2 eine
nach innen ragende trichterförmige, nach außen sich erweiternde EinfüLLöffnung 3 vorgesehen
ist. Der Boden 4 der EinfüLLöffnung 3 ist zunächst verschlossen. Der Deckel 1 ist
zweckmäßig ein Spritzguß- oder PreßteiL, insbesondere aus Kunststoff. Die Seitenwände
5 erstrecken sich nach unten und reichen mit ihrer Endkante
6 bis zur Unterseite 7 eines Gehäusebodens 8 oder stehen sogar geringfügig über diese
über. Der Gehäuseboden 8 ist TeiL eines inneren Gehäuseunterteils, das das andeutungsweise
gezeigte Magnetsystem 9 und das Kontaktsystem 10 (Fig. 5) sowie die AnschLußelemente
11 (Fig. 5) enthält.
[0008] An den DeckeLinnenseiten sind mehrere Rippen 12 vorgesehen, deren Enden 13 in zusammengebautem
Zustand auf der Oberkante des GehäuseunterteiLs oder dessen Seitenwänden etc. aufliegen.
Der Boden 4 der EinfüLLöffnung 3 kann durchstoßen werden, so daß durch das entstandene
LüftungsLoch 14 Vergußmasse 15 eingefüLLt werden kann (Fig. 3). Das Lüftungsloch 14
wird nur so groß gemacht, daß die Vergußmasse beispielsweise durch KapiLLarwirkung
und/oder Oberflächenspannung und/oder Viskosität der Vergußmasse 15 nicht nach unten
heruntertropfen kann. Vorzugsweise ist das LüftungsLoch 0,1 bis 0,8 mm im Durchmesser
oder als SchLitz mit einer SchLitzbreite von 0,1 bis 0,6 mm ausgebildet.
[0009] Zweckmäßig kann die innere Kante der unteren Endkanten 6 der DeckeL-Seitenwände 5
angefast sein (Fig. 4), damit von unten aufgebrachte Vergußmasse besser in den Trennschlitz
16 zwischen den DeckeL-Seitenwänden 5 und dem Gehäuseboden 8 verlaufen kann.
[0010] Erfindungsgemäß wird ein dichtes und auch bei sehr hoher Anzahl von SchaLtzykLen
noch einwandfrei arbeitendes ReLais dadurch erhalten, daß zunächst das ReLais zusammengebaut
und der Deckel 1 aufgeschoben wird (Fig. 5 Verfahrensabschnitt I). Hierauf wird das
ReLais so aufgestellt oder gehalten, daß die Oberseite 2 des DeckeLs 1 nach unten
zeigt (Fig. 5, Verfahrensabschnitt II). In dieser Lage wird auf die Unterseite 7 des
Gehäusebodens 8 eine selbsthärtende oder z.B. durch Energiezufuhr härtbare Vergußmasse
15 aufgebracht (Verfahrensabschnitt III) und dann die Vergußmasse durch Energiezufuhg
insbesondere durch eine Wärmevorrichtung 17 oder HeißLuft etc., angeLiert oder ganz
ausgehärtet. Darauf wird der Boden 4 der Einfülloffnung 3 des DeckeLs 1 beispielsweise
mittels einer feinen Nadel durchstoßen oder durchstochen und dadurch das LüftungsLoch
14 gebiLdet. Ggfs. kann das Lüftungsloch 14 auch an anderen SteLLen des Gehäuses,
beispielsweise in einer der Seitenwände 5 des DeckeLs 1 oder in einem Teil des GehäuseunterteiLs
vorgesehen sein. Durch das LüftungsLoch 14 kann der Innenraum des ReLais entgasen,
wonach das LüftungsLoch 14 ggfs. verschlossen wird oder der Innenraum wird in einem
besonderen Verfahrensabschnitt (Verfahrensabschnitt V) mit trockner Luft, Wasserstoff
und/oder Inertgas durchgespült oder beispielsweise bei einem Unterdruck von bis zu
10
-5 bar in einer Unterdruckkammer 18 entgast und ggfs. dann erst verschlossen. Letzteres
erfolgt vorzugsweise bei erhöhter Temperatur, z.B. zwischen 120 und 200 °C, insbesondere
zwischen 140 und 160 °C,und ggfs. in NormaLLage des ReLais. Hierbei entweichen aus
den verwendeten Kunststoffen für den späteren Betrieb schädliche BestandteiLe. Hierauf
wird zweckmäßig der Innenraum vorzugsweise nach AbkühLung auf NormaLtemperatur mit
einem inerten Gas, wie z.B. Helium, Argon oder Stickstoff,oder mit Wasserstoff oder
getrockneter Luft gefüllt und anschließend in Normallage des ReLais Vergußmasse 15
in die EinfüLLöffnung 3 gebracht und diese danach ausgehärtet.
[0011] Hierdurch erhält man ein vollkommen dichtes ReLais mit sehr reinen Kontaktoberflächen
und reiner, unschädLicher Innenatmosphäre, wodurch eine Lange Lebensdauer auch bei
hoher SchaLthäufigkeit und sehr vielen, z.B. 10
6, SchaLtzyklen erreicht wird.
[0012] Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann zum Durchstoßen der ReLaiswandung,
also insbesondere des Bodens 4 der EinfüLLöffnung 3, eine erhitzte NadeL verwendet
werden. Hierdurch muß kein großer Druck auf die Wanduna ausgeübt werden, wenn das
Wandungsmaterial, wie vorgesehen und üblicherweise verwendet, aus einem thermoplastischen
Kunststoff besteht.
1. Verfahren zum Abdichten eines elektromagnetischen ReLais mit Lüftbarem Innenraum
und mit einem bis zum Boden eines GehäuseunterteiLs reichenden becherartigen DekkeL
durch Aufbringen einer aushärtenden oder härtbaren Vergußmasse auf die Unterseite
des ReLaisbodens und anschließendes Härten der Vergußmasse in nach unten weisender
Lage der DeckeLoberseite des ReLais, dadurch gekennzeichnet, daß ein zum Lüften und/oder
Entgasen und/oder Füllen des Innenraums dienendes LüftungsLoch (14) erst nach dem
AngeLieren oder Aushärten der Vergußmasse (15) in einer ReLaiswandung gebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das LüftungsLoch (14) nach
dem öffnen wieder verschlossen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Innenraum des
ReLais nach dem öffnen bzw. nach BiLdung des LüftungsLoches (14) mit trockener Luft
und/ oder Wasserstoff und/oder Inertgas gespült wird.
4. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die DurchspüLung bei erhöhter
Temperatur vorgenommen wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Innenraum
des ReLais bei Unterdruck bis herunter zu 10-5 bar entgast und anschließend mit einem Inertgas und/oder getrockneter Luft und/oder
Wasserstoff gefüllt und anschließend das LüftungsLoch (14) geschlossen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Entgasung bei einer
Temperatur zwischen 130 und 180 C vorgenommen wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein becherartiger
DeckeL (1) mit einer trichterartigen EinfüLLöffnung (3), deren Boden (4) geschlossen
ist, nach dem Zusammenbau des ReLais auf dieses aufgeschoben wird, daß anschließend
der Gehäuseboden (8) des GehäuseunterteiLs vergossen und die Vergußmasse (15) angeliert
oder ausgehärtet wird, daß danach das ReLais um 180 0 in die NormaLLage gedreht wird und hierauf oder vor dem Umdrehen der Boden (4) des
LüfungsLoches (14) durchstoßen und dann der Innenraum des ReLais bei erhöhter Temperatur
und Unterdruck entgast und danach auf Raumtemperatur abgekühlt und mit inertem Gas
und/oder getrockneter Luft und/oder Wasserstoff gefüllt und hierauf oder nach dem
Umdrehen des ReLais das LüftungsLoch (14) verschlossen wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das LüftungsLoch
(14) durch Eingießen und anschließendes Aushärten einer Vergußmasse (15) verschlossen
wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das LüftungsLoch
(14) nur so groß gemacht wird, daß die eingefüllte Vergußmasse (15) infolge KapiLLarwirkung
und/oder der Oberflächenspannung der Vergußmasse (15) nicht nach innen tropft.
10. Verfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das LüftungsLoch
(14) dadurch gebildet wird, daß eine Relaiswandung mittels einer erhitzten NadeL durchstochen
wird.