[0001] La présente invention concerne un dispositif d'injection d'un faisceau d'électrons
pour générateurs d'ondes radioélectriques pour hyperfréquences.Elle concerne plus
particulièrement un dispositif d'injection d'un faisceau d'électrons se propageant
suivant un axe selon une trajectoire cycloïdale sous l'action d'un champ électrique
continu et soumis à un champ magnétique statique perpendiculaire à l'axe et au champ
électrique.
[0002] Ce type de dispositif d'injection peut être utilisé, en particulier, dans les nouveaux
masers à résonnance cyclotronique proposés par la demanderesse dans la nouvelle demande
de brevet déposée le même jour que la présente et ayant pour titre "générateur d'ondes
radioélectriques pour hyperfréquences". Dans ces générateurs basés sur une interaction
de type cyclotronique entre un faisceau d'électrons se propageant entre un canon à
électrons et un collecteur et un champ électromagnétique haute fréquence dans une
structure résonnante, générateurs dans lesquels le faisceau d'électrons se déplace
selon une trajectoire cycloïdale dans un champ magnétique transversal sous l'effet
d'une vitesse de dérive créée par un champ électrique continu, le dispositif d'injection
est constitué uniquement par un canon à électrons soumis à un champ magnétique élevé,
identique à celui régnant dans la structure résonnante.
[0003] Le canon à électrons utilisé dans ce générateur est constitué par deux électrodes
se faisant face dont l'une, l'anode, est portée à un potentiel positif et dont l'autre,
la sole, est portée à un potentiel négatif ou nul et par une cathode positionnée dans
le plan de la sole et portée au même potentiel que celle-ci, au moins une des électrodes
présentant un profil divergent tel que la distance entre électrodes soit croissante
de la cathode vers l'extérieur. Or avec ce type de canon à électrons, pour obtenir
un faisceau d'électrons se propageant selon une trajectoire cycloïdale avec un rayon
de rotation r L sensiblement constant, la tension à appliquer sur l'anode doit être
sensiblement plus élevée que la tension d'alimentation donnant l'énergie du faisceau
d'électrons.
[0004] La présente invention a pour but de remédier à cet inconvénient en proposant un nouveau
type de dispositif d'injection.
[0005] Elle permet en outre d'utiliser dans le canon un champ magnétique plus petit que
dans la structure résonnante.
[0006] Le dispositif d'injection conforme à la présente invention est un dispositif d'injection
d'un faisceau d'électrons suivant une trajectoire cycloïdale pour générateurs d'ondes
radioélectriques pour hyperfréquences utilisant un faisceau d'électrons se propageant
suivant un axe sous l'action d'un champ électrique continu et soumis à un champ magnétique
statique perpendiculaire à l'axe de propagation et au champ électrique, ainsi qu'au
champ électromagnétique d'au moins une structure résonnante disposée le long de l'axe.
Ce dispositif est caractérisé en ce qu'il comporte un canon à électrons placé dans
un champ magnétique faible et des moyens placés dans un champ magnétique croissant
progressivement pour créer entre le canon à électrons et la structure résonnante placée
dans un champ magnétique fort, un champ électrique continu présentant deux composantes
dans un plan perpendiculaire au champ magnétique.
[0007] D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention apparaîtront à la
lecture de la description de deux modes de réalisation de générateurs d'ondes radioélectriques
pour hyperfréquences munis d'un dispositif d'injection conforme à la présente invention.
[0008] Cette description est faite avec référence aux dessins ci- annexés dans lesquels
:
- la figure la est une vue en coupe schématique, dans un plan perpendiculaire au champ
magnétique, d'un générateur d'ondes radioélectriques pour hyperfréquences comportant
un dispositif d'injection conforme à la présente invention et la figure Ib est une
courbe représentant la variation du champ magnétique appliqué, selon l'axe de propagation
;
- la figure 2a est une vue semblable à celle de figure la d'un autre mode de réalisation
du générateur et la figure 2b est une courbe semblable à celle de figure lb.
[0009] Dans les dessins, les mêmes éléments portent les mêmes références.
[0010] Le générateur représenté à la figure la comporte essentiellement trois parties, à
savoir un dispositif d'injection 1, une structure résonnante 2 et un collecteur 3,
l'ensemble étant placé à l'intérieur d'une enceinte à vide 4 portée à un potentiel
nul. Conformément à la présente invention, le dispositif d'injection 1 est constitué
par un canon à électrons 5 produisant un faisceau d'électrons suivant lâ direction
x suivi de moyens 6 pour créer un champ électrique E sans composante dans la direction
z mais présentant deux composantes E
x et E y dans le plan de la figure. Le dispositif d'injection 1 est placé dans un champ
magnétique statique perpendiculaire au plan de la figure, c'est-à-dire de direction
z. Le champ magnétique appliqué dans la présente invention est tel que le canon à
électrons 5 soit soumis à un champ magnétique B
1 de faible valeur et les moyens 6 à un champ magnétique B
2 croissant progressivement de la valeur B
1 jusqu'à une valeur B
3 représentant le champ magnétique régnant au niveau de la structure résonnante 2,
comme représenté respectivement par les parties I, II, III sur la figure lb. De manière
plus précise, le canon à électrons 5 est constitué par deux électrodes planes 7, 8
se faisant face dont l'une 7 appelée anode est portée à un potentiel positif V et
l'autre appelée sole est formée de deux parties 8, 8' et est portée à un potentiel
négatif V
c et d'une cathode 9 chauffée par un filament 10 et portée au même potentiel V
c que la sole 8. Ce type de canon à électrons fournit de manière connue un faisceau
d'électrons suivant, selon la direction x, une trajectoire cycloïdale. Dans le mode
de réalisation représenté, les moyens 6 sont réalisés par quatre électrodes 11, 12,
13, 14 portées à des potentiels continus tels que, par exemple,
[0011] 
[0012] Dans cette partie, comme expliqué de manière plus détaillée ci-après, les électrons
se trouvant dans un champ électrique présentant deux composantes E
x et E y et étant soumis à un champ magnétique statique uniformément croissant de direction
z, sont amenés à suivre une trajectoire cycloïdale dont le rayon de rotation diminue
progressivement comme représenté sur la figure la.
[0013] Le faisceau d'électrons est alors injecté dans la structure résonnante 2 dans laquelle
il interagit avec un champ électromagnétique haute fréquence. Au niveau de la structure
résonnante 2, l'enceinte 4 présente la forme d'un cylindre d'axe z à l'intérieur duquel
le champ magnétique statique B
3 est à peu près uniforme. La structure résonnante 2 est constituée, de manière connue,
par deux miroirs sphériques 15, 16 se faisant face et positionnés de telle sorte que
la distance H verifie la relation

avec n un entier et >%la longueur d'onde de fonctionnement.
[0014] Dans ce cas, les deux miroirs 15, 16 constituent un résonnateur "quasi-optique".
L'un des miroirs, à savoir le miroir 15, est pourvu d'un orifice 17 relié à un guide
d'onde 18. Ce guide d'onde 18 est utilisé pour envoyer vers l'extérieur, l'énergie
électromagnétique cédée par le faisceau d'électrons au faisceau électromagnétique
qui se présente comme une onde stationnaire dans la direction y avec un champ électrique
haute fréquence polarisé dans la direction x. Pour assurer la propagation du faisceau
d'électrons suivant la direction x dans la partie cylindrique de l'enveloppe 4, les
deux miroirs 15, 16 sont précédés et suivis par des grilles 19, 20 non réfléchissantes
à la fréquence de fonctionnement du résonnateur et écartées d'une distance h telle
que

[0015] D'autre part, les deux miroirs 15 et 16 sont portés respectivement à la masse et
à un potentiel négatif de manière à créer entre eux un champ électrique continu Ec
de direction y qui assure la dérive du faisceau d'électrons suivant la direction x.
[0016] La partie cylindrique de l'enveloppe 4 est, de préférence, recouverte de substances
absorbantes 21 à la fréquence de fonctionnement pour éviter les résonnances parasites.
Ces substances sont, par exemple, en "carberlox".(marque)
[0017] Les électrons ayant cédé leur énergie sont alors évacués vers un collecteur 3 constitué
par une partie de l'enveloppe 4 présentant une section en coupe dans le plan x y en
forme de U.
[0018] La figure 2a représente une variante de réalisation du générateur de la figure la
qui constitue alors un amplificateur. Dans ce mode de réalisation, seule la structure
résonnante a été modifiée, les autres parties restant identiques.
[0019] La nouvelle structure est formée de deux plaques parallèles planes 22, 23 écartées
l'une de l'autre d'une distance H' telle que H' ≃n λ de manière à guider dans la direction
x une onde pro- gressive haute fréquence ayant au moins une composante de champ électrique
haute fréquence dans le plan x y. L'onde progressive est injectée dans la structure
par l'intermédiaire du guide d'onde d'entrée 24 et elle est évacuée, après avoir reçu
l'énergie cédée par le faiscau d'électrons, par l'intermédiaire du guide d'onde de
sortie 25. D'autre part, pour obtenir la dérive du faisceau d'électrons suivant la
direction x, les deux plaques sont polarisées αe manière à créer entre elles un champ
électrique continu de direction y.
[0020] On mentionnera, de plus, que tous les éléments représentés en coupe dans le plan
x y sont très allongés dans la direction z. Cette caractéristique des générateurs
de ce type constitue un avantage par rapport aux structures axiales du type gyrotron.
En effet, la dimension des divers éléments dans la direction z peut correspondre à
un grand nombre de longueurs d'onde, ce qui permet d'obtenir, pour une tension cathodique
donnée, un courant très important avec une densité de courant et une densité de puissance
au collecteur limitées.
[0021] En ce qui concerne la figure 2b elle est identique à la figure Ib et donne la variation
du champ magnétique statique B selon la direction x. Le champ magnétique est crée
de manière connue à l'aide de bobines supraconductrices, par exemple.
[0022] On expliquera maintenant le fonctionnement des deux modes de réalisation des figures
la et 2a, en particulier le fonctionnement du dispositif d'injection objet de la présente
invention.
[0023] Le fonctionnement du dispositif d'injection est basé sur des principes connus que
nous rappelerons brièvement ci-après.
[0024] Ainsi lorsqu'un électron est soumis à un champ magnétique axial lentement variable,
on montre que la trajectoire s'enroule sur des tubes de force et que l'on se trouve
dans un régime dit "adiabatique" pour lequel

r
L2 étant le rayon de gyration du faisceau.
[0025] On montré aussi qu'il existe une propriété analogue dans le cas d'une injection transversale
dans un champ magnétique non uniforme.
[0026] Ainsi, dans le plan x y, la composante B est une fonction de x et y, en principe
seulement de R =

. Toutefois, on démontre que pour un système de grandes dimensions devant le rayon
d'orbite des électrons, l'équation (1) reste valable.
[0027] D'autre part, dans le plan x y, le centre de l'orbite des électrons de coordonnées
X(t), Y(t) se déplace suivant les équations.


avec B correspondant à B
z.
[0028] Dans le dispositif d'injection 1 de la présente invention, le canon à électrons 5
placé dans une région de champ magnétique B
1 peu intense, produit un faisceau d'électrons progressant vers la région centrale
dudit champ, où il est maximum, en se déplaçant perpendiculairement à sa direction.
La progression suivant une trajectoire cycloïdale est assurée par les électrodes placées
au voisinage de sa trajectoire et portées à des potentiels appropriés, ce qui crée
entre les électrodes un champ électrique continu uniforme donnant aux électrons une
vitesse de dérive.
[0029] Le faisceau d'électrons est ensuite soumis dans la région des moyens 6 à un champ
magnétique de direction B croissant progressivement. De plus, les différents potentiels
des électrodes 11, 12, 13, 14 ont été choisis de manière à créer un champ électrique
présentant des composantes selon les directions x et y et à satisfaire les équations
ci-après.


avec

pour que le faisceau d'électrons se propage dans la direction x.
[0030] Dans ce cas, le faisceau d'électrons sera amené dans la zone du champ magnétique
croissant à suivre une trajectoire cycloïdale dont le rayon diminue progressivement
du fait de l'équation (1) selon la direction x avec une vitesse de dérive constante
si la composante E croit comme B dont la variation le long de x est donnée sur les
figures lb et 2b. En effet, la condition donnée par l'équation (5) évite une dérive
transversale et permet aux électrons d'entrer dans le champ magnétique croissant qui
tend normalement à repousser les électrons doués d'une vitesse de rotation vers les
régions où B est plus petit, à savoir vers le canon.
[0031] Avec le dispositif d'injection ci-dessus on obtient donc en entrée de la structure
résonnante, un faisceau d'électrons se déplacant selon une trajectoire hélicoïdale
suivant la direction x dans un champ magnétique transversal fort de manière à ce que
la vitesse de rotation des électrons soit égale à

avec e = charge de l'électron mo = masse au repos de l'électron = énergie relativiste
réduite de l'électron

pour pouvoir obtenir l'interaction souhaitée dans la structure résonnante 2.
[0032] Avec ce dispositif d'injection, on obtient les avantages suivants :
- possibilité de produire un faisceau d'électrons de grande section selon z donnant
un courant et une puissance plus élevés ;
- absence d'électrons réfléchis vers le canon ;
- vitesse de dérive des électrons réglée uniquement par la tension appliquée sur les
différentes plaques.