[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
[0002] Feste Körper werden metallisiert, um deren funktionelle Eigenschaften, z.B. die elektrische
Leitfähigkeit, die Korrosionsbeständigkeit, die Verschleißfestigkeit und/oder auch
dekorative Eigenschaften zu verändern, zu verbessern und/oder zu erweitern. Bei derartigen
Metallisierungen ist im allgemeinen deren Haftfestigkeit von großer Bedeutung. Die
Schichthaftung kann z.B. durch relativ schwache Wechselwirkung zwischen Schicht- und
Substratmaterial (sogenannten Van der Waals-Kräfte), durch chemische Bindungen oder
durch mechanische Verankerungen und/oder durch eine Kombination dieser Beiträge bewirkt
werden.
[0003] Es sind Verfahren bekannt, mit deren Hilfe sich die Schichthaftung verbessern läßt.
So können z.B. haftvermittelnde Zwischenschichten in Form von Klebern oder Aufdampf-
und/oder Sputter-Schichten abgeschieden werden. Eine bessere Schichthaftung wird erreicht
durch eine Substrataufrauhung, z.B. durch einen Schleifprozeß, und/oder durch Anquellen
sowie Aufrauhen der Oberfläche durch chemisches Ätzen und/oder durch eine Einbettung
herauslösbarer Fremdstoffe in den Haftvermittler.
[0004] Diese bekannten Verfahren sind auf bestimmte Anwendungsfälle und spezielle Materialkombinationen
beschränkt. Haftvermittler bestehen aus einem Material, das vom Substrat und der gewünschten
Beschichtung verschieden ist, so daß unpassende Eigenschaften auftreten oder eine
Einschränkung der gewünschten Schichteigenschaften erfolgt. So verringern z.B. Haftvermittler
aus Klebeschichten die thermische Belastbarkeit des beschichteten Körpers. Für anorganische
Haftvermittler werden unwirtschaftliche Beschichtungsverfahren benötigt. Eine Aufrauhung
der Substratoberflächen stört überall dort, wo sehr feine Metallisierungsstrukturen
benötigt werden oder wo spezielle optische Eigenschaften (Reflexion, Glanz) verlangt
werden.
[0005] Aufgabe der Erfindung ist es ein gattungsgemäßes Verfahren anzugeben, das in kostengünstiger
Weise insbesondere eine sehr fein strukturierbare und haftfeste Metallisierung auf
glasigen und/oder glasartigen Körpern ermöglicht und bei dem eine Aufrahung der Oberfläche
des Körpers sowie die Abscheidung eines speziellen Haftvermittlers vermieden wird.
[0006] Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs
1 angegebenen Merkmale. Zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind den Unteransprüchen
entnehmbar.
[0007] Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Beispiel 1:
[0008] Ein scheibenförmiger Körper aus Natronkalkglas wird nach der Anwendung derzeit geläufiger
Reinigungs- und Entfettungsmethoden in einer Kathodenzerstäubungsanlage mit einer
ersten Schicht aus einer Indium-Zinn-Legierungsschicht mit einer Dicke von 120nm bedampft.
Durch eine Behandlung in einer Palladiumchloridlösung und anschliessendem gründlichem
Spülen in demineralisiertem Wasser wird eine katalytische Keimschicht erzeugt, auf
der sih in einem derzeit handelsüblichen chemischen Kupferbad eine sehr gleichmäßige
Kupferschicht abscheiden läßt. Nach einer Temperung wird diese galvanisch mit Kupfer
verstärkt. Mit Hilfe eines derzeit üblichen Fotolack- und Ätzverfahrens werden 1mm
breite Streifen präpariert, die zum senkrechten Abschälen eine Zugkraft von 0,2 N
erfordern.
Beispiel 2:
[0009] Eine Borsilikatglasscheibe wird wie in Beispiel 1 vorbehandelt und mit einer Indium-Zinn-Legierungsschicht
bedampft. Durch einen Temperprozeß in Luft wird die Schicht durch Oxidation in eine
lichtdurchlässige Schicht umgewandelt. Nach einer Gasphasenbeizung sowie nach einer
anschließenden Hydrolyse wird mit Palladiumchloridlösung eine katalytische Keimschicht
gebildet. Nach Abscheidung einer 0,3µm dicken Kupferschicht aus einem derzeit handelsüblichen
chemischen Kupferbad wird eine Temperung unter Ausschluß von Sauerstoff durchgeführt.
Nach einer galvanischen Verstärkung der Schicht und einer Schälstreifenpräperation
gemäß Beispiel 1, wird eine Schälfestigkeit von 0,45 N/mm gemessen.
1. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, der insbesondere eine Silikatwerkstoff
enthaltende glasige und/oder glasartige Oberfläche besitzt, gekennzeichnet durch folgende
Merkmale:
a) auf die gereinigte Oberfläche wird zunächst eine erste Schicht aufgebracht, die
mindestens eine Metall und/oder dessen Oxid enthält derart, daß eine nachfolgend aufgebrachte
Katalysatormetallverbindung zum Katalysatormetall reduziert wird durch das in der
ersten Schicht enthaltene Metall und/oder durch dessen Metallsalzschicht und/oder
durch die hydrolisierte Metallsalzschicht und/oder durch dessen Oxid
b) auf der durch das Katalysatormetall gebildeten katalytischen Keimschicht wird eine
stromlos-chemische und/oder galvanische Metallabscheidung durchgeführt.
2. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß in der ersten Schicht mindestens ein Metall aus den Gruppen IIb bis Vb des Periodensystems
der Elemente verwendet wird.
3. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach Anspruch 1 oder Anspruch
2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht durch eine chemische Reaktion in
eine lichtdurchlässige Schicht umgewandelt wird.
4. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikatwerkstoff als Natronkalkglas und/oder
Borsilikatglas ausgebildet wird.
5. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß für die erste Schicht als Metall und/oder dessen
Oxid eine Legierung aus Indium-Zinn und/oder dessen Oxid gewählt wird.
6. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Legierung aus Indium-Zinn ein Indium-Zinn-Verhältnis gewählt wird, das
im Bereich von 100 bis 0,01 liegt.
7. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht in einer Dicke aufgebracht
wird, die im Bereich von 10 nm bis 1000 nm liegt.
8. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormetall eine stromlos-chemische
Metallabscheidung in Gang setzt.
9. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Metallbeschichtung die Katalysatormetallverbindung
in einer chemischen Reaktion zum Katalysatormetall reduziert.
10. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Metallbeschichtung durch chemische
Reaktion mit einer Säure wenigstens teilweise in eine Metallsalzschicht umgewandelt
wird.
11. Verfahren zur Metallisierung eines festen Körpers, nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallsalz-haltige Schicht durch chemische
Reaktion mit Wasser in eine Hydroxid-haltige Schicht umgewandelt wird.