(57) Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Metallen oder Metallegierungen beschrieben,
wobei aus einem wasserstoffhältigen Plasmagas und dampfförmigen Metallhalogeniden,
insbesondere Titantetrachlorid, eine bewegte Plasmastrahlreaktionszone hoher Temperatur
gebildet wird, in der die Metallhalogenide reduziert werden und in flüssiger Form
anfallen. Das flüssige Metall wird in eine unterhalb der Reaktionszone angeordnete
Kokille geleitet und aus dieser kontinuierlich abgezogen. Zusätzliche Wasserstoffströme,
die die Plasmastrahlreaktionszone umgeben, können vorgesehen werden, um das bei der
Reaktion entstehende HCI und nicht umgesetzte Metallhalogenide abzuleiten.
Die Vorrichtung für die Durchführung des Verfahrens besteht aus einem Reaktionsgefäß
(2). in welches von oben durch eine Plasmalanze (4) ein Gemisch des Plasmagases und
der dampfförmigen Metallhalogenide eingeleitet wird. Im unteren Teil des Reaktionsgefäßes
befindet sich das reduzierte Metall, der Metallsumpf (12), der die Gegenelektrode
bildet.
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