[0001] Die Erfindung bezieht sich auf eine Anzeigevorrichtung gemäß dem Oberbegriff des
Anspruchs 1. Ein solches Plasmapanel gehört zum Gegenstand der älteren, noch nicht
veröffentlichten Patentanmeldung P 32 07 685.
[0002] Bei dem Flachbildschirm der zitierten Anmeldung werden Elektronen einer Gasentladung
durch selektiv geöffnete Löcher einer Steuereinheit in einen plasmafreien Raum geschickt,
in dem sie Energien von einigen kV aufnehmen und schließlich auf einem Leuchtschirm
Lichtpunkte erzeugen.
[0003] Mit dem Konzept der getrennten Elektronenerzeugung und -beschleunigung kann man bereits
farbige Videobilder in durchaus akzeptabler Qualität darstellen. Es ist allerdings
noch nicht gelungen, alle wichtigen Betriebsparameter auch über längere Betriebszeiten
hinweg stabil zu halten. So steigt vor allem die Brennspannung des Plasmas regelmäßig
an und kann, wenn der Bildschirm ständig hellgeschaltet ist, schon nach wenigen hundert
Betriebsstunden den zweifachen Wert annehmen. Eine derartige Spannungsdrift stellt
enorme Anforderungen an die Ansteuerschaltung und die Kathode und sollte unbedingt
vermieden werden.
[0004] In der DE-OS 29 29 270 wird deshalb auch schon diskutiert, das Display mit H2 zu
füllen, eine Al-Kathode zu verwenden und die Kathodenoberfläche während der Gasentladung
ständig unter einer dünnen Oxidschicht zu halten. Die Praxis hat jedoch gezeigt, daß
diese Maßnahmen vor allem in Fällen, in'denen das Display längere Zeit durchgehend
Les 1 Lk/2.8.1983 in Funktion ist, noch nicht ausreichen. Die Verhältnisse werden
auch nicht wesentlich besser, wenn man zu anderen Gasen oder Deckschichten übergeht,
etwa zu einer Ne-Ar-Mischung und einer MgO/Al
2O
3-Ta/Mo-Haut (IBM Techn.Discl. Bull.25 (1982) 658).
[0005] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Plasmapanel der eingangs genannten
Art so weiterzuentwickeln, daß die Brennspannung konstant bleibt, und zwar insbesondere
auch unter Dauerbelastungen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Anzeigevorrichtung
mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Dabei bedeutet die Angabe "hochschmelzend",
daß die (mittlere) S
chmelztem- peratur über 1730
0C liegt.
[0006] Der Lösungsvorschlag geht von der Beobachtung aus, daß die Hauptursache für den Störspannungsanstieg
ein allmähliches Absinken des Gasdrucks ist. Im Nachbeschleunigungsraum werden Ionen
erzeugt, die auf die Nachbeschleunigungskathode aufprallen und dort zu einem Teil
eingefangen werden. Dieser Implantationseffekt, der von der Beschaffenheit des Gases
und der Elektrode abhängt und bei Verwendung von Helium und Aluminium besonders ausgeprägt
ist, kann zu einer Gasaufzehrung bis 40% führen.
[0007] Die erfindungsgemäß vorgesehene Schutzschicht besteht aus Materialien, die für Ionen
der hier in Betracht kommenden Arten und Energien einen relativ hohen Reflexionsgrad
haben. Die auf die Schutzschicht treffenden Ionen geben zwar den größten Teil ihrer
kinetischen Energie ab, werden aber in den meisten Fällen wieder zurückgestreut. Dauerversuche
haben gezeigt, daß-man auf diesem Wege den Anstieg der Brennspannung ohne weiteres
um einen'Faktor >3 verlangsamen und die Spannung selbst auf einem deutlich niedrigeren
Niveau stabilisieren kann.
[0008] Die Tatsache, daß Metalle mit hoher Kernladungszahl leichte Ionen stark reflektieren,
ist an sich bekannt; vergleiche hierzu Nucl.Instr. and Meth. 132 (1976) 647. Diese
Arbeit liegt allerdings auf einem fremden Gebiet und hat eine andere Zielsetzung;
es geht dort - im Rahmen einer kontrollierten Kernfusion - vornehmlich darum, Aufschlüsse
über die Energie- und Dichteverteilung der reflektierten Ionen zu erhalten.
[0009] Die erfindungsgemäß vorgesehene Schutzschicht ist normalerweise zwischen 10-1m und
10
-1µm, vorzugsweise zwischen 5-10
-3µm und 4.10
-2µm, dick. Das Schichtmetall ist am besten ein Element aus der Untergruppe A der vierten
bis siebten Gruppe und sechsten Periode des Periodensystems. Die Schutzschicht braucht
übrigens, wie sich ergeben hat, durchaus nicht vollständig aus dem Metall zu bestehen;
man kommt auch dann zu einwandfreien Ergebnissen, wenn die S
chichtoberfläche durch einen chemischen Prozeß, etwa durch eine Oxidation, gehärtet
ist.
[0010] Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand
zusätzlicher Ansprüche.
[0011] Der Lösungsvorschlag soll nun anhand eines Ausführungsbeispiels, in Verbindung mit
der beigefügten Zeichnung, näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigen
Fig. 1 das Ausführungsbeispiel in einem schematischen Seitenschnitt;
Fig. 2 die Brennspannung in Abhängigkeit von der Betriebszeit, und zwar bei Verwendung
einer ungeschützten Nachbeschleunigungskathode; und
Fig. 3 den gleichen Parameter, mit einer Implantationsschutzschicht auf der Nachbeschleunigungskathode.
[0012] Das dargestellte Panel, das für ein Datensichtgerät gedacht ist, enthält eine Vakuumhülle
mit einer Frontplatte 1, einer Rückplatte 2 und einer Steuereinheit 3. Alle drei Teile
erstrecken sich in zueinander parallelen Ebenen. Die Steuereinheit teilt dabei das
Hülleninnere in einen Gasentladungsraum 4 und einen Nachbeschleunigungsraum 5.
[0013] Die Rückplatte 4 ist auf ihrer Vorderseite mit mehreren, zueinander parallelen Leiterstreifen
(Plasmakathoden 6) versehen. Die Frontplatte 1 trägt auf ihrer Rückseite eine kathodolumineszente
Schicht 7 und eine durchgehende Schichtelektrode (Nachbeschleunigungsanode 8). Die
Steuereinheit 3 umfaßt zwei Trägerplatten 9, 10, die beidseitig jeweils mit Elektroden
beschichtet sind. Die hintere Platte 9 trägt auf ihrer Rückseite Zeilenleiter 11 und
auf ihrer Vorderseite Spaltenleiter 12. Die Leiter beider Leiterscharen stehen senkrecht
zueinander, sind einzeln ansteuerbar und bilden zusammen die eigentliche Steuermatrix.
Die vordere Platte 10 ist rückseitig mit zeilenleiterparallelen Tetrodenleitern 13
und frontseitig mit einer ganzflächig aufgebrachten, ca. 2im starken Ni-Pen- . tode
(Nachbeschleunigungskathode 14) versehen. Die gesamte Steuereinheit hat im Bereich
jedes Matrixelements eine durchgehende Öffnung 15 und ist gegen die Rück- und Frontplatte
jeweils durch einen Abstandsrahmen 16 bzw. 17 distanziert. Alle Teile sind über Glaslotnähte
18, 19, 20,21 und 23 vakuumdicht miteinander verbunden.
[0014] Die Nachbeschleunigungskathode 14 ist, wie der Figur 1 zu entnehmen, mit einer weiteren
Metallschicht (Implantationsschutzschicht 22) bedeckt. Diese Schicht - sie hat eine
Dicke zwischen 10
-2µm und 2-10
-2µm und besteht aus Wo - ist in einer üblichen Vakuumtechnik aufgetragen.
[0015] Um den Stabilisierungseffekt der Implantationsschutzschicht zu demonstrieren, wurde
die Brennspannung U
b, gemessen in V, als Funktion der Betriebsdauer t, gemessen in h, aufgenommen, und
zwar mit einer 2um dicken Ni-Nachbeschleunigungskathode, die einmal ungeschützt war
(Fig. 2) und einmal eine 4.10
-2µm dicke Ti-Schicht trug (Fig. 3). In beiden Fällen wurde das Display dynamisch angesteuert.
Ein Vergleich der beiden Kurven zeigt, daß die Schutzschicht den Spannungsanstieg
erheblich verzögert, auf geringere Werte begrenzt und darüber hinaus sogar auch noch
die Einschaltspannung absenkt.
[0016] Im Betrieb des Displays brennt jeweils zwischen einer der Plasmakathoden und einem
der Zeilenleiter eine keilförmige Gasentladung. Dieses Plasma wird zeilenleiterweise
fortgeschaltet, und während der Tastzeit eines Zeilenleiters erhalten sämtliche Spaltenleiter
die zugehörige Zeileninformation. Die Elektronen werden entsprechend dieser Information
durch die Steueröffnungen geschleust, treten dann als punktförmige Elektronenstrahlen
in den Nachbeschleunigungsraum und werden dort - beschleunigt auf 4kV - auf die Phosphorschicht
gebracht. Weitere Betriebs- und Konstruktionseinzelheiten gehen aus der eingangs zitierten
Offenlegungsschrift oder aus dem in "Elektronik" 14 (1982) 79 erschienenen Artikel
hervor.
[0017] Die Erfindung beschränkt sich nicht nur auf die dargestellte Ausführungsform. So
ist es ohne Belang, wie die Gasentladung erzeugt wird und welche Form sie erhält;
in Frage kommt deshalb beispielsweise auch ein statisches Querplasma. Davon abgesehen
könnte man auch die Implantationsschutzschicht als eine Legierung auf der Basis eines
der beanspruchten Werkstoffe realisieren und ggf. ihre Oberfläche auf andere Weise
- etwa durch Umwandlung in ein Carbid, Borid oder Silicid - vergüten. Die Schutzschicht
braucht im übrigen auf ihrer Unterlage nicht sonderlich fest zu haften. Im Gegenteil:
Bei einer relativ lockeren Haftung können die - ohnehin nur zu einem geringen Teil
- in die Schicht eingedrungenen und zur Grundmetallisierung hin diffundierenden Ionen
durch eine relativ poröse Grenzfläche wieder in den Gasraum zurückkehren. Insofern
könnte sich auch eine mehrlagige Schutzschicht empfehlen. Schließlich bleibt es dem
Fachmann unbenommen, auch andere implantationsgefährdete Oberflächen mit der hier
vorgeschlagenen Schutzschicht zu überziehen.
1. Gasentladungsanzeigevorrichtung mit folgendem Aufbau:
1a) eine vakuumdichte Hülle mit zwei zueinander parallelen, in Betrachtungsrichtung
hintereinander liegenden Wandplatten (Frontplatte, Rückplatte) ist mit einem Gas gefüllt;
b) eine in der Hülle befindliche, regelmäßig gelochte Steuereinheit teilt das Hülleninnere
in einen hinteren und einen vorderen Raum (Gasentladungsraum bzw. Nachbeschleunigungsraum);
c) im Gasentladungsraum befindet sich mindestens eine Kathode (Plasmakathode) und
mindestens eine Anode (Plasmaanode);
d) die Frontplatte trägt auf ihrer Rückseite eine kathodolumineszente Schicht und
eine Schichtelektrode (Nachbeschleunigungsanode);
e) die Steuereinheit enthält mindestens eine parallel zu den Wandplatten erstreckte
Elektrodenebene mit wenigstens einem Leiter;
und folgender Betriebsweise:
2a) zwischen den Plasmaelektroden brennt eine Gasentladung;
b) zwischen der Nachbeschleunigungsanode und dem Leiter (Nachbeschleunigungskathode)
der vordersten Elektrodenebene liegt eine Hochspannung >1kV, wobei der Abstand zwischen
beiden Nachbeschleunigungselektroden so gering ist, daß im Nachbeschleunigungsraum
keine Gasentladung gezündet wird;
dadurch gekennzeichnet, daß 1f) die Nachbeschleunigungskathode (14) mit einer Schicht
(Implantationsschutzschicht 22) aus einem hochschmelzenden Metall überzogen ist, das
aus den Untergruppen A der vierten bis achten Gruppe und aus der fünften bis sechsten
Periode des periodischen Systems der Elemente stammt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn- zeichnet, daß das Schichtmetall aus
den Untergruppen A der vierten bis siebten Gruppe und der sechsten Periode stammt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekenn- zeichnet, daß das Schichtmetall Zr,
Nb, Mo, Ta, Wo oder Re ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da- durch gekennzeichnet, daß die
Implantationsschutzschicht (22) auf ihrer Oberfläche oxidiert oder carboriert ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da- durch gekennzeichnet, daß die
Implantationsschutzschicht (22) zwischen 10-3µm und 10-1µm, insbesondere zwischen 5·10-3µm und 4·10-2µm, dick ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da- durch gekennzeichnet, daß die
Nachbeschleunigungskathode (14) aus Nickel oder Aluminium besteht und zwischen 0,5µm
und 10µm dick ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da- durch gekennzeichnet, daß die
Gasfüllung zumindest teilweise aus He besteht.