(19)
(11) EP 0 145 586 A3

(12) EUROPEAN PATENT APPLICATION

(88) Date of publication A3:
10.07.1985 Bulletin 1985/28

(43) Date of publication A2:
19.06.1985 Bulletin 1985/25

(21) Application number: 84402460

(22) Date of filing: 30.11.1984
(84) Designated Contracting States:
DE GB NL

(30) Priority: 07.12.1983 FR 8319572

(71) Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE Etablissement de Caractère Scientifique Technique et Industriel
 ()

(72) Inventor:
  • Jacquot, Bernard
     ()

   


(54) Multicharged ion source with several electron cyclotron resonance regions


(57) @ Sources d'ions multichargés à plusieurs résonances cyclotroniques électroniques.
La source comprend une enceinte fermée (2) contenant un gaz destiné à former un plasma confiné dans l'enceinte, des moyens (6) pour engendrer dans l'enceinte un champ électromagnétique de haute fréquence, des moyens (12, 20) pour créer dans l'enceinte un ensemble de champs magnétiques locaux, radiaux (22) et axiaux (16), définissant des nappes équimagnétiques (23) permettant le confinement du plasma, sur une de ces nappes, la condition de résonance cyclotronique électronique étant satisfaite, ledir ensemble présentant un axe de symétrie (18), des moyens (26) pour extraire les ions par un orifice (24) pratiqué dans la paroi de l'enceinte et situé sur l'axe de symétrie et des moyens (30a, 36) pour diminuer, en dehors du volume occupé par le plasma, l'amplitude des champs magnétiques axiaux locaux situés à proximité et légèrement en amont de l'orifice d'extraction (24) dans n zones (32) se trouvant en dehors de l'axe, de façon à faire apparaître dans ces zones, de nouvelles résonances cyclotroniques électroniques ionisantes.







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