[0001] Die Erfindung betrifft ein einstufiges Bebilderungs- und Entwicklungs- bzw. Entschichtungsverfahren
für Reproduktionsschichten in einer wäßrigen Elektrolytlösung.
[0002] Strahlungs(licht)empfindliche Reproduktionsschichten werden beispielsweise bei der
Herstellung von Offsetdruckformen oder von Photoresists (beides im weiteren Kopiermaterialien
genannt) verwendet, d. h. sie werden im allgemeinen vom Verbraucher oder vom industriellen
Hersteller auf einen Schichtträger aufgebracht. Als Schichtträger in diesen Kopiermaterialien
werden Metalle wie Zink, Magnesium, Chrom, Kupfer, Messing, Stahl, Silicium, Aluminium
oder Kombinationen dieser Metalle, Kunststoffolien, Papier oder ähnliche Materialien
eingesetzt. Diese Schichtträger können ohne eine modifizierende Vorbehandlung, bevorzugt
aber nach Durchführung einer Oberflächenmodifizierung wie einer mechanischen, chemischen
und/oder elektrochemischen Aufrauhung, einer Oxidation und/oder einer Behandlung mit
Hydrophilierungsmitteln (z. B. bei Trägern für Offsetdruckplatten) mit der strahlungsempfindlichen
Reproduktionsschicht beschichtet werden. Die üblichen strahlungsempfindlichen Reproduktionsschichten
enthalten neben mindestens einer strahlungsempfindlichen Verbindung meist noch ein
organisches Bindemittel (Harze o. ä.) und gegebenenfalls auch noch Weichmacher, Pigmente,
Farbstoffe, Netzmittel, Sensibilisatoren, Haftvermittler, Indikatoren und andere übliche
Hilfsmittel. Diese Reproduktionsschichten werden nach ihrer Bestrahlung (Belichtung)
entwickelt, um aus ihnen ein Bild zu erzeugen, beispielsweise wird so eine Druckform
oder ein Photoresist erhalten; bei elektrophotographisch-arbeitenden Schichten entspricht
dem Entwickeln das Entschichten. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung sind unter dem
Begriff "Reproduktionsschichten" jedoch auch solche zu verstehen, die keine strahlungsempfindliche
Verbindung, aber die übrigen der aufgeführten Komponenten enthalten, d. h. insbesondere
ein organisches Bindemittel.
[0003] In der EP-A 0 073 445 (= ZA-A 82/5879) wird ein Verfahren zum Entwickeln von bestrahlten
Reproduktionsschichten beschrieben, bei dem die Nichtbildstellen ergebenden Schichtteile
mit einer wäßrigen Elektrolytlösung durch elektrochemische Behandlung entfernt werden.
Insbesondere wird eine Lösung eingesetzt, die einen pH-Wert von 2,0 bis 10,0 aufweist
und mindestens ein Salz in einer Konzentration von 0,1 % bis zur Sättigungsgrenze
der Lösung an dem jeweiligen Salz enthält. Daneben kann der Elektrolyt auch noch ein
Tensid in einer Konzentration von 0,1 bis 5 % enthalten. Bei. diesem Verfahren ist
aber vor der Entwicklungsstufe noch eine separate Bestrahlung erforderlich.
[0004] Es sind aus dem Stand der Technik auch Verfahren bekannt, bei denen eine Druckform
auch ohne einen Bestrahlungs-und/oder Entwicklungsschritt und damit auch ohne einen
Einsatz der sonst üblichen Reproduktionsschichten mit einem Gehalt an einer strahlungsempfindlichen
Verbindung hergestellt werden, dazu zählen beispielsweise
- aus der DE-C 24 33 448 (= US-A 4 086 853) der Einsatz eines elektrisch-empfindlichen
Aufzeichnungsblattes mit a) einer hydrophoben Unterschicht (z. B. aus Polyester),
b) einer darauf angeordneten elektrisch-leitenden, durch Stromeinwirkung mittels eines
Stifts örtlich entfernbaren, hydrophilen Schicht (z. B. aus Aluminium) und c) einer
Schicht, die nach der Stromeinwirkung von der Schicht gemäß b) ablösbar ist (z. B.
aus einem Cellulosederivat, einem Weichmacher und einem Pigment),
- aus der DE-A 25 14 682 (= GB-A 1 490 732) der Einsatz eines elektrisch-empfindlichen
Aufzeichnungsmaterials mit a) einer elektrisch-leitenden, durch Stromeinwirkung nicht
entfernbaren, oleophilen Schicht (z. B. aus Aluminium) und b) einer darauf angeordneten,
durch Stromeinwirkung mittels eines Stifts örtlich entfernbaren, oleophoben Schicht
aus Silikonkautschuk und
- aus der EP-A 0 030 642 ein Verfahren zur Herstellung : einer Druckform aus einem
flächigen Material mit a) einer hydrophoben Trägerschicht (z. B. aus Polyester), b)
einer hydrophilen, elektrisch-leitenden Zwischenschicht (z. B. aus Aluminium) und
c) einer abschließenden, dielektrischen Schutzschicht (z. B. aus AI203) durch Elektroerosion, wobei durch Einwirkung von Elektroden sowohl die Schicht c)
als auch b) entfernt werden.
[0005] Diese Verfahren führen zwar bereits zu Druckformen, es lassen sich mit ihnen aber
keine hohen Druckauflagen erzielen; außerdem ergeben die jeweils als hydrophile oder
hydrophobe bzw. oleophobe oder oleophile Stellen der Druckform wirksamen Materialien
starke Praxisbeschränkungen, beispielsweise bezüglich der Druckmaschinen, der anzuwendenden
Chemikalien und Druckfarben und/oder des Papiers.
[0006] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, ein Verfahren zur elektrochemischen
Bilderzeugung auf einem flächigen Träger zu entwickeln, das mit handelsüblichen Reproduktionsschichten
einstufig auf üblichen Trägermaterialien durchgeführt werden kann. Außerdem soll das
Verfahren ermöglichen, daß digitalisiert vorliegende Informationen direkt ohne einen
Umweg über Bestrahlung (Bebilderung) auf ein späterhin als Druckform zu verwendendes
Material aufgebracht'werden können, so daß die sonst üblichen Bebilderungs- und Entwicklungsstufen
zusammenfallen.
[0007] Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur elektrochemischen Bilderzeugung auf
einem mehrschichtigen flächigen Material mit mindestens einer elektrisch-leitfähigen
Schicht durch Einwirkung von elektrischem Strom über mindestens eine nadelförmig ausgebildete
Elektrode. Das erfindungsgemäße Verfahren ist dann dadurch gekennzeichnet, daß a)
das mehrschichtige flächige Material eine gegebenenfalls mindestens eine strahlungsempfindliche
Verbindung enthaltende Reproduktionsschicht aufweist, b) mindestens eine nadelförmig
ausgebildete Elektrode von der Seite des mehrschichtigen flächigen Materials her einwirkt,
welche die Reproduktionsschicht trägt, und c) sowohl die Elektrode(n) als auch das
mehrschichtige flächige Material in Wechselwirkung mit einer wäßrigen Elektrolytlösung
angeordnet sind.
[0008] Bei diesem Verfahren werden die die Nichtbildstellen ergebenden Schichtteile durch
die elektrochemische Behandlung entfernt. Die wäßrige Elektrolytlösung weist im allgemeinen
einen pH-Wert im Bereich von 1 bis 14, insbesondere von 2,0 bis 10,0, auf und enthält
neben dem Hauptbestandteil Wasser als dissoziierte Verbindung, insbesondere mindestens
ein Salz einer organischen oder anorganischen Säure in einer Konzentration von 0,1
Gew.-% bis zur Sättigungsgrenze der Lösung an dem jeweiligen Salz. Diese Salzlösungen
können auch als Puffersystem vorliegen und dann neben dem Salzanteil zusätzlich noch
schwache Säuren (wie Essigsäure) oder schwache Basen (wie Ammoniak) enthalten; es
kann auch zweckmäßig sein, den pH-Wert der Salzlösungen durch Zugabe von Säuren oder
Basen zu verschieben, wobei jedoch die oben angegebenen pH-Werte nicht über- oder
unterschritten werden sollten. Der wäßrige Elektrolyt kann als dissoziierte Verbindung
anstelle der bevorzugt eingesetzten Salze auch Säuren (wie Essigsäure oder Borsäure)
im angegebenen pH-Wert-Bereich enthalten.
[0009] Zu den im erfindungsgemäßen Verfahren im wäßrigen Elektrolyten einsetzbaren Salzen.gehören
insbesondere solche, die als Kationen Li
+, Na
+, K
+, NH
4+, A1
3+, Fe
2+, Fe
3+, V
5+, Ca
2+, Mg
2+, Sr
2+ oder Ba
2+ und als Anionen SO
42-, S
2O
3 SCN
-, CO
32-, CH
3COO
-, NO
3‾ , NO
2‾ , PO
43-, BO
2-, Polyphosphate, Polyborate, F
-, C1
-, Br
-, BF
4-, N
3-, VO
3-, Anionen von Alkylsulfaten (Schwefelsäuremonoalkylesteranionen) von C
7 bis C
16 oder deren entsprechende Hydrogen alze enthalten.
[0010] Die wäBrige Elektrolytlösung kann zur Vergleichmäßigung und Beschleunigung des erfindungsgemäßen
Verfahrens noch ein Tensid enthalten, das von den oben aufgeführten dissozierten Verbindungen
verschieden ist und bevorzugt in einer Konzentration von 0,1 bis 5 Gew.-% zugegeben
wird. Es ionnen sowohl nichtionogene als auch anionogene oder kationogene Tenside
Verwendung finden; sie sollten jedoch, insbesondere bei Durchführung des erfindungsgemäßen
Verahrens in Verarbeitungsmaschinen, eher von schwachschmendem Typ sein. Als geeignete
Tenside haben sich beispielsweise herausgestellt: Alkali- oder Ammoniumsalze der Schwefelsäuremonoalkylester
mit Alkylgruppen von C7 is C
16, ethoxylierte Alkohole und Phenole, ethoxy- lierte Fettamine oder Blockpolymerisate
auf der Basis von Alkylenoxiden (insbesondere auf der Basis von Ethylen-und Propylenoxid).
[0011] Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es also möglich, in mäßrigen Lösungen, die
kein organisches Lösemittel oder andere größere Mengen an umweltbelastenden Hilfsstoffen
enthalten, verschiedenste Arten von unbestrahlten Reproduktionsschichten bildmäßig
zu differenzieren. Die dabei erreichbare Auflösung entspricht der konventioneller,
nicht-elektrochemisch anzuwendender Bestrahlungen und Entwicklungen.
[0012] Da der pH-Wert einer ungepufferten wäßrigen Elektrol
ytlö- sung sich aufgrund (elektro)chemischer Veränderungen an seinen Komponenten während
der Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verändern kann, empfiehlt sich bei
Mehrfachverwendung der wäßrigen Elektrolytlösung der Einsatz eines zusätzlichen Puffersystems.
[0013] Die Konzentration der wäßrigen Elektrolytlösung an dissoziierter Verbindung kann
zwischen 0,1 Gew.-%, insbesondere 1 Gew.-% und der jeweiligen Sättigungskonzentration
der dissoziierten Verbindung liegen, im allgemeinen sind bereits Konzentrationen bis
zu 5 Gew.-% ausreichend. Wenn die Konzentration des wäßrigen Elektrolyten unter 0,1
Gew.-% liegt, dann ist meistens die Leitfähigkeit der Lösung zu niedrig, so daß die
resultierende Stromdichte zu gering wird, um eine rasch ablaufende Entwicklung zu
erzielen. Die Temperatur des wäßrigen Elektrolyten kann von Raumtemperatur bis zum
Siedepunkt des Elektrolytsystems reichen, bevorzugt wird jedoch eine Temperatur von
20° bis 70
.C eingehalten. Ein Durchmischen des wäßrigen Elektrolyten während der Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens ist im allgemeinen nicht erforderlich.
[0014] Das erfindungsgemäße Verfahren wird mit Gleichstrom oder Wechselstrom verschiedener
Frequenz und Modulation durchgeführt, es kann auch gepulster Gleichstrom eingesetzt
werden. Dabei kann die Stromdichte grundsätzlich auch außerhalb eines Bereichs von
1 bis 100 A/dm
2 liegen, jedoch ist dieser Bereich bevorzugt, da sonst die Aufheizung der wäßrigen
Elektrolytlösung zu stark wird und/oder die Bilderzeugung hinsichtlich der Dauer oder
der Qualität negativ beeinflußt werden kann. Die Stromdichte steigt zu Beginn der
elektrochemischen Bebilderung an, verbleibt eine gewisse Zeit auf einer Höhe und steigt
gegen Ende der Behandlung wieder leicht an.
[0015] Während der elektrochemischen Bebilderung wird in der Regel an der Kathode Wasserstoff
durch Entladung von H
+(H
3O
+)-Ionen freigesetzt. Es wird angenommen, daß dadurch der pH-Wert lokal stark ansteigt
und die bildmäßig differenzierende Ablösung bewirkt. Durch den dabei gelegentlich
entstehenden hohen pH-Wert kann in einigen wäßrigen Elektrolytlösungen der Träger
der Reproduktionsschicht stellenweise angegriffen werden; die eigentliche Bilderzeugung
wird jedoch dadurch nicht beeinflußt, und dieser Angriff kann - sofern überhaupt erforderlich
- durch Zusatz von Korrosionsinhibitoren vermindert werden. Eine mangelnde Benetzung
der Reproduktionsschicht durch die wäßrige Elektrolytlösung kann gelegentlich zum
Auftreten von Schichtresten in den an sich schichtfreien Stellen (Nichtbildstellen)
führen, dies kann aber durch Einsatz eines für die betreffende Reproduktionsschicht
geeigneten Tensids oder kurzes "Einweichen" der Platte mit der wäßrigen Elektrolytlösung
vor der eigentlichen elektrochemischen Bilderzeugung vermieden werden.
[0016] Unter dem Begriff "nadelförmig ausgebildete Elektrode" ist ein länglicher Körper
aus einem möglichst inerten (d. h. sich nicht während des erfindungsgemäßen Verfahrens
abbauenden) Material wie Graphit, Gold oder Platin zu verstehen, der eine möglichst
kleine Spitze aufweist, um eine möglichst gute Auflösung und die Erzielung feinster
Bild- bzw. Nichtbildpunkte zu ermöglichen. Diese Elektrode bzw. diese Elektroden werden
in möglichst geringem Abstand über das zu bebildernde flächige Material geführt.
[0017] Zur Bebilderung größerer Flächen können auch mehrere nadelförmig ausgebildete Elektroden
zum Einsatz kommen, dies kann auch zur Beschleunigung des Verfahrens möglich sein.
Diese Elektroden werden ebenso wie nur eine Elektrode von einer Vorrichtung gesteuert,
welche die Bildinformationen in digitalisierter Form enthält (z. B. "computer-to-plate"-System).
Die Gegenelektrode ist die elektrisch-leitfähige Schicht des mehrschichtigen flächigen
Materials. Die wäßrige Elektrolytlösung muß im Verhältnis zum mehrschichtigen flächigen
Material und der oder den nadelförmig ausgebildeten Elektrode(n) so angeordnet sein,
daß sie in Wechselwirkung mit den beiden als Elektroden wirkenden Körpern eine bildmäßige
Differenzierung in der Reproduktionsschicht bewirken kann, beispielsweise durch Eintauchen
der Körper in die Lösung. Zu den Reproduktionsschichten zählen im erfindungsgemäßen
Verfahren nicht nur die üblichen (siehe weiter unten) bekannten strahlungsempfindlichen
Schichten, sondern auch solche vergleichbarer Zusammensetzung, die aber keine strahlungsempfindliche
Verbindung enthalten; d. h. unter Reproduktionsschichten sind solche Schichten zu
verstehen, die im erfindungsgemäßen Verfahren eine bildmäßige Differenzierung ermöglichen.
[0018] In einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die zu
behandelnde Reproduktionsschicht, die als Teil des mehrschichtigen flächigen Materials
mit mindestens einer elektrisch-leitfähigen Schicht vorliegt, durch Eintauchen mit
der wäßrigen Elektrolytlösung kontaktiert. Dabei sollte eine Kante des flächigen Materials
aus der Oberfläche des Elektrolytbades herausragen, an diesem Teil kann dann ein Stromanschluß
befestigt werden. Eine andere Möglichkeit der Stromzufuhr liegt in der Kontaktierung
über die keine Reproduktionsschicht aufweisende Materialrückseite. Die nadelförmig
ausgebildete Elektrode sollte gegenüber dem flächigen Material insbesondere in einem
gleichmäßigen Abstand angeordnet sein, damit eine gleichmäßige Stromdichte an jeder
Stelle des zu bebildernden flächigen Materials eingestellt werden kann. Der Vorteil
des Verfahrens liegt darin, daß durch die punktweise Erzeugung der Nichtbildstellen
deren Größe durch Variation von Stromdichte und Zeit gesteuert werden kann. Die Steuerimpulse
können z. B. direkt aus einem computer-to-plate-System kommen. Die unbeschichtete
Rückseite des zu behandelnden flächigen Materials sollte vorzugsweise an einem nicht
leitenden Material anliegen, um einen unnötigen Verbrauch an elektrischer Energie
zu vermeiden. Eine andere Möglichkeit liegt in der Abschottung der Materialrückseite,
wobei die Platte im Elektrolytbad-Behälter in dichten Nuten geführt wird. Ebenso sollte(n)
zweckmäßig die nadelförmig ausgebildete(n) Elektrode(n) größtenteils isoliert vorliegen.
[0019] Die zu behandelnde Reproduktionsschicht liegt insbesondere als Teil (strahlungsempfindliche
Schicht) einer Offsetdruckplatte oder als auf ein Trägermaterial aufgebrachter Resist
(Photoresistschicht) vor, sie enthält in der Regel ein polymeres Bindemittel, das
unter der Einwirkung des elektrischen Stroms aus der nadelförmig ausgebildeten Elektrode
in Lösung geht und den darunter liegenden Teil des flächigen Materials freigibt. Als
unter die Erfindung fallend werden aber auch solche Beschichtungen auf der Basis von
eines polymeren Bindemittels verstanden, die keine strahlungsempfindliche Verbindung
enthalten, bevorzugt werden sie jedoch als strahlungsempfindliche Schichten eingesetzt.
Als Trägermaterialien kommen elektrisch-leitfähige Trägermaterialien in Frage, wozu
beispielsweise solche auf der Basis von Zink, Chrom, Magnesium, Kupfer, Messing, Stahl,
Silicium, Aluminium oder Kombinationen dieser Metalle zählen. Diese können ohne eine
spezielle modifizierende Vorbehandlung mit einer geeigneten Reproduktionsschicht versehen
werden, bevorzugt wird diese Beschichtung jedoch erst nach einer Oberflächenmodifizierung
wie einer mechanischen, chemischen oder elektrochemischen Aufrauhung, einer Oxidation
und/oder einer Behandlung mit Hydrophilierungsmitteln (insbesondere bei Trägern für
Offsetdruckplatten) durchgeführt.
[0020] Zu den besonders geeigneten Substraten zur Herstellung von Offsetdruckplatten zählen
solche aus Aluminium oder einer seiner Legierungen, die beispielsweise einen Gehalt
von mehr als 98,0 Gew.-%, insbesondere von mehr als 98,5 Gew.-% an Al und Anteile
an Si, Fe, Ti, Cu, Zn, Mn und/oder Mg aufweisen.
[0021] Die in der Praxis sehr häufig anzutreffenden Aluminiumträgermaterialien für Druckplatten
werden im allgemeinen vor Aufbringen der Reproduktionsschicht noch mechanisch (z.
B. durch Bürsten und/oder mit Schleifmittel-Behandlungen), chemisch (z. B. durch Ätzmittel)
oder elektrochemisch (z. B. durch Wechselstrombehandlung in wäßrigen HCl- oder HN0
3-Lösungen) aufgerauht. Die mittlere Rauhtiefe R
z der aufgerauhten Oberfläche liegt dabei im Bereich von etwa 1 bis 15 um, insbesondere
im Bereich von 1,5 bis 10 µm. Die Rauhtiefe wird nach DIN 4768 in der Fassung vom
Oktober 1970 ermittelt, die Rauhtiefe R
z ist dann das arithmetische Mittel aus den Einzelrauhtiefen fünf aneinandergrenzender
Einzelmeßstrecken.
[0022] Vor der Aufrauhung kann eine Vorreinigung des Aluminiumbandes stattfinden; sie umfaßt
beispielsweise die Behandlung mit wäßriger NaOH-Lösung mit oder ohne Entfettungsmittel
und/oder Komplexbildnern, Trichlorethylen, Aceton, Methanol oder anderen handelsüblichen
sogenannten Aluminiumbeizen. Der Aufrauhung oder bei mehreren Aufrauhstufen auch noch
zwischen den einzelnen Stufen kann noch zusätzlich eine abtragende Behandlung nachgeschaltet
werden, wobei insbesondere maximal 2 g/m
2 abgetragen werden (zwischen den Stufen auch bis zu 5 g/m
2); als abtragend wirkende Lösungen werden im allgemeinen wäßrige Alkalihydroxidlösungen
bzw. wäßrige Lösungen von alkalisch reagierenden Salzen oder wäßrige Säurelösungen
auf der Basis von HN0
3, H
2S0
4 oder H
3P0
4 eingesetzt. Neben einer abtragenden Behandlungsstufe zwischen der Aufrauhstufe und
einer gegebenenfalls nachfolgenden Anodisierstufe sind auch solche nichtelektrochemischen
Behandlungen bekannt, die im wesentlichen lediglich eine spülende und/oder reinigende
Wirkung haben und beispielsweise zur Entfernung von bei der Aufrauhung gebildeten
Belägen ("Schmant") oder einfach zur Entfernung von Behandlungsresten dienen; im Einsatz
sind für diese Zwecke beispielsweise verdünnte wäßrige Alkalihydroxidlösungen oder
Wasser.
[0023] Nach dem oder den Aufrauhverfahren kann sich dann gegebenenfalls in einer weiteren
anzuwendenden Verfahrensstufe eine anodische Oxidation des Aluminiums anschließen,
um beispielsweise die Abrieb- und die Haftungseigenschaften der Oberfläche des Trägermaterials
zu verbessern. Zur anodischen Oxidation können die üblichen Elektrolyte wie H
2S0
4, H
3P0
4, H
2C
20
4, Amidosulfonsäure, Sulfobernsteinsäure, Sulfosalicylsäure oder deren Mischungen eingesetzt
werden; insbesondere werden H
2S0
4 und H
3P0
4 allein, in Mischung und/oder in einem mehrstufigen Anodisierprozeß verwendet. Die
Schichtgewichte an Aluminiumoxid bewegen sich im Bereich von 1 bis 10 g/m
2, entsprechend einer Schichtdicke von etwa 0,3 bis 3,0 µm.
[0024] Der Stufe einer anodischen Oxidation des Trägermaterials aus Aluminium können auch
eine oder mehrere Nachbehandlungsstufen nachgestellt werden. Dabei wird unter Nachbehandeln
insbesondere eine hydrophilierende chemische oder elektrochemische Behandlung der
Aluminiumoxidschicht verstanden, beispielsweise eine Tauchbehandlung des Materials
in einer wäßrigen Polyvinylphosphonsäure-Lösung nach der DE-C 16 21 478 (= GB-A 1
230 447), eine Tauchbehandlung in einer wäßrigen Alkalisilikat-Lösung nach der DE-B
14 71 707 (= US-A 3 181 461) oder eine elektrochemische Behandlung (Anodisierung)
in einer wäßrigen Alkalisilikat-Lösung nach der DE-A 25 32 769 (= US-A 3 902 976).
Diese Nachbehandlungsstufen dienen insbesondere dazu, die bereits oftmals ausreichende
Hydrophilie der Aluminiumoxidschicht noch zusätzlich zu steigern, wobei die übrigen
bekannten Eigenschaften dieser Schicht mindestens erhalten bleiben.
[0025] Als strahlungs(licht)empfindliche Reproduktionsschichten sind grundsätzlich solche
zu verstehen, die - in den sonst üblichen Methoden, die erfindungsgemäß jedoch nicht
erforderlich sind - nach dem Bestrahlen (Belichten), gegebenenfalls mit einer nachfolgenden
Entwicklung und/oder Fixierung eine bildmäßige Fläche liefern, von der gedruckt werden
kann.
[0026] Neben den auf vielen Gebieten verwendeten Silberhalogenide enthaltenden Schichten
sind auch verschiedene andere bekannt, wie sie z. B. in "Light-Sensitive Systems"
von Jaromir Kosar, John Wiley & Sons Verlag, New York 1965 beschrieben werden: die
Chromate und Dichromate enthaltenden Kolloidschichten (Kosar, Kapitel 2); die ungesättigte
Verbindungen enthaltenden Schichten, in denen diese Verbindungen beim Belichten isomerisiert,
umgelagert, cyclisiert oder vernetzt werden (Kosar, Kapitel 4); die photopolymerisierbare
Verbindungen enthaltenden Schichten, in denen Monomere oder Präpolymere gegebenenfalls
mittels eines Initiators beim Belichten polymerisieren (Kosar, Kapitel 5); und die
o-Diazo-chinone wie Naphthochinondiazide, p-Diazo-chinone oder Diazoniumsalz-Kondensate
enthaltenden Schichten (Kosar, Kapitel 7). Zu den geeigneten Schichten zählen auch
die elektrophotographischen Schichten, d. h. solche die einen anorganischen oder organischen
Photoleiter enthalten. Außer den strahlungsempfindlichen Substanzen können diese Schichten
selbstverständlich noch andere Bestandteile wie z. B. Harze, Farbstoffe oder Weichmacher
enthalten. Insbesondere können die folgenden strahlungsempfindlichen Massen oder Verbindungen
in den Reproduktionsschichten eingesetzt werden:
positiv-arbeitende, o-Chinondiazide, insbesondere o-Naphthochinondiazide wie Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäureester
oder -amide, die nieder- oder höhermolekular sein können, als lichtempfindliche Verbindung
enthaltende Reproduktionsschichten, die beispielsweise in den DE-C 854 890, 865 109,
879 203, 894 959, 938 233, 1 109 521, 1 144 705, 1 118 606, 1 120 273, 1 124 817 und
2 331 377 und den EP-A 0 021 428 und 0 055 814 beschrieben werden;
negativ-arbeitende Reproduktionsschichten mit Kondensationsprodukten aus aromatischen
Diazoniumsalzen und Verbindungen mit aktiven Carbonylgruppen, bevorzugt Kondensationsprodukte
aus Diphenylamindiazoniumsalzen und Formaldehyd, die beispielsweise in den DE-C 596
731, 1 138 399, 1 138 400, 1 138 401, 1 142 871, 1 154 123, den US-A 2 679 498 und
3 050 502 und der GB-A 712 606 beschrieben werden;
negativ-arbeitende, Mischkondensationsprodukte aromatischer Diazoniumverbindungen
enthaltende Reproduktionsschichten, beispielsweise nach der DE-C 20 65 732, die Produkte
mit mindestens je einer Einheit aus a) einer kondensationsfähigen aromatischen Diazoniumsalzverbindung
und b) einer kondensationsfähigen Verbindung wie einem Phenolether oder einem aromatischen
Thioether, verbunden durch ein zweibindiges, von einer kondensationsfähigen Carbonylverbindung
abgeleitetes Zwischenglied wie einer Methylengruppe aufweisen;
positiv-arbeitende Schichten nach der DE-A 26 10 842, der DE-C 27 18 254 oder der
DE-A 29 28 636, die eine bei Bestrahlung Säure abspaltende Verbindung, eine monomere
oder polymere Verbindung, die mindestens eine durch Säure abspaltbare C-0-C-Gruppe
aufweist (z. B. eine Orthocarbonsäureestergruppe oder eine Carbonsäureamidacetalgruppe)
und gegebenenfalls ein Bindemittel enthalten;
negativ-arbeitende Schichten aus photopolymerisierbaren
[0027] Monomeren, Photoinitiatoren, Bindemitteln und gegebenenfalls weiteren Zusätzen; als
Monomere werden dabei beispielsweise Acryl- und Methacrylsäureester oder Umsetzungsprodukte
von Diisocyanaten mit Partialestern mehrwertiger Alkohole eingesetzt, wie es beispielsweise
in den US-A 2 760 863 und 3 060 023 und den DE-A 20 64 079 und 23 61 041 beschrieben
wird;
negativ-arbeitende Schichten gemäß der DE-A 30 36 077, die als lichtempfindliche Verbindung
ein Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt oder eine organische Azidoverbindung und
als Bindemittel ein hochmolekulares Polymeres mit seitenständigen Alkenylsulfonyl-
oder Cycloalkenylsulfonylurethan-Gruppen enthalten.
[0028] Es können auch photohalbleitende Schichten, wie sie z. B. in den DE-C 11 17 391,
15 22 497, 15 72 312, 23 22 046 und 23 22 047 beschrieben werden, eingesetzt werden.
[0029] Die vorstehend beschriebenen, mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung enthaltenden
Schichten können im erfindungsgemäßen Verfahren auch - sofern sie mindestens ein Bindemittel
enthalten - ohne Anwesenheit der strahlungsempfindlichen Verbindung zum Einsatz kommen.
Insbesondere sind dann folgende in der wäßrigen Elektrolytlösung lösliche organische
Polymere geeignet: Polyamide, Polyester, Alkydharze, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,
Polyethylenoxid, Polyacetale, Gelatine und/oder Celluloseether.
[0030] Die Dicke der Reproduktionsschicht kann sich im Bereich von etwa 0, 1 µm bis etwa
1 mm oder darüber bewegen.
[0031] In den Fällen, in den die Reproduktionsschichten als strahlungsempfindliche Verbindungen
solche enthalten, die ein negativ-arbeitendes System ergeben, empfiehlt sich die vollflächige
Nachbelichtung oder Nacherhitzung des flächigen Materials von der Seite der Reproduktionsschicht
her; bei positiv-arbeitendem System wird keine spezielle Nachbelichtung durchgeführt.
Von den strahlungsempfindlichen Reproduktionsschichten sind die positiv-arbeitenden
im erfindungsgemäßen Verfahren bevorzugt. Um eine gegebenenfalls noch höhere Druckauflage
zu erzielen, ist nach Durchführung der erfindungsgemäßen Bilderzeugung unter Erhöhung
der mechanischen und/oder chemischen Stabilität der Bildstellen ein "Einbrennen" möglich,
d. h. eine thermische oder damit vergleichbare Nachbehandlung des flächigen Materials.
[0032] Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist also die Zusammenfassung des sonst zweistufig
durchgeführten Bebilderungs- und Entwicklungsverfahrens für Reproduktionsschichten
in einer Stufe möglich.
[0033] In den folgenden Beispielen und der vorstehenden Beschreibung sind die %-Angaben
- wenn nicht eine andere Angabe vorliegt - auf das Gewicht bezogen. Gew.-Teile verhalten
sich zu Vol.-Teilen wie g zu cm
3. Die zu behandelnden Reproduktionsschichten befinden sich auf leitfähigen Trägern
und werden - falls nicht anders beschrieben - als Kathode in einem Gleichstromkreis
geschaltet, die nadelförmig ausgebildete(n) Elektrode(n) dann als Anode(n). Die Elektrolyttemperatur
beträgt - wenn keine andere Angabe vorliegt - 25 bis 30 °C, der Abstand des zu behandelnden
Materials von der Gegenelektrode wird so gering wie möglich gehalten, ohne daß es
zu einem Kurzschluß kommt. Der Verlauf der Stromdichte kann in der Regel wie folgt
dargestellt werden: Die Stromdichte steigt während einiger msec zunächst auf einen
bestimm ten Wert an, verbleibt einige msec auf diesem Stand und kann gegen Ende der
elektrolytischen Entwicklung erneut leicht ansteigen. Wenn keine speziellen Bemerkungen
angegeben sind, sind die behandelten Materialien praxisgerecht.
Beispiel 1
[0034] Auf eine elektrochemisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumfolie wird durch
Fließbeschichtung mit einer Breitschlitzdüse die folgende positiv-arbeitende lichtempfindliche
Lösung aufgebracht:
6,6 Gew.-Teile Kresol-Formaldehyd-Novolak (mit dem Erweichungsbereich von 105 - 120
°C nach DIN 53 181)
1,1 Gew.-TeiJe des 4-(2-Phenyl-prop-2-yl)-phenylesters der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure-(4)
0,6 Gew.-Teile 2,2'-Bis-[naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonyloxy-(5)]-dinaphthyl-(1,1')-methan
0,24 Gew.-Teile Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfochlorid-(4)
0,08 Gew.-Teile Kristallviolett
91,36 Gew.-Teile Gemisch aus 4 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether, 5 Vol.-Teilen
Tetrahydrofuran und 1 Vol.-Teil Essigsäurebutylester
[0035] Nach dem Trocknen wird diese Platte in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an
3 % Lithiumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat (Natriumsalz des Schwefelsäuremonooctylesters)
bei einem pH-Wert von 3,5 mit einer Nadelelektrode mit abhängig von der Nichtbildstellen-Punktgröße
wechselnder Spannung bebildert.
Beispiel 2
[0036] Eine mit Stahlbürsten mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie wird mit folgender Lösung
beschichtet und anschließend im Trockenkanal bei Temperaturen bis 100
.C getrocknet:
1,15 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon und
2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid
7,15 Gew.-Teile eines Phenol-Formaldehyd-Novolaks (mit 14 % phenolischen OH-Gruppen
und einem Erweichungspunkt von 110 - 120 °C nach DIN 53 181)
0,64 Gew.-Teile 2,2'-Bis-fnaphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonyloxy-(5)1-dinaphthyl-(1,1')-methan
0,15 Gew.-Teile Kristallviolett
0,08 Gew.-Teile Sudangelb GGN (C. I. 11021)
92,25 Gew.-Teile Gemisch aus 40 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether und 50 Vol.-Teilen
Tetrahydrofuran
[0037] Diese Platte wird in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an 3 % Lithiumsulfat
und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert von 7,5 mit etwa 60 V abhängig von der
Punktgröße elektrochemisch mit einer Nadelelektrode bebildert.
Beispiel 3
[0038] Eine negativ-arbeitende lichtempfindliche Lösung, bestehend aus
14,00 Gew.-Teilen eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure
mit einem mittleren Molekulargewicht von 40000 und einer Säurezahl von 90 bis 115
14,00 Gew.-Teilen 1,1,1-Trimethylol-ethan-triacrylat
2,00 Gew.-Teilen 1,6-Dihydroxy-ethoxy-hexan
0,50 Gew.-Teilen 9-p-Hydroxyphenylacridin
130,00 Gew.-Teilen Ethylenglykolmonoethylether
wird auf eine elektrochemisch aufgerauhte, anodisch oxidierte und mit einer wäßrigen
Polyvinylphosphonsäure-Lösung hydrophilierte Aluminiumfolie aufgetragen, getrocknet
und in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an 3 % Lithiumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat
bei einem pH-Wert von 3,5 bei ca. 10 V abhängig von der Punktgröße elektrochemisch
mit einer Nadelelektrode bebildert und dann bei 220 °C während 5 min getrocknet.
Beispiel 4
[0039] Auf eine elektrochemisch aufgerauhte, anodisch oxidierte und mit einer wäßrigen Polyvinylphosphonsäure-Lösung
hydrophilierte Aluminiumfolie wird folgende negativ-arbeitende lichtempfindliche Schicht
aufgebracht:
26,75 Gew.-Teile einer 8 %igen Lösung des Umsetzungsproduktes eines Polyvinylbutyrals
(mit einem Molekulargewicht von 70000 bis 80000, bestehend aus 71 % Vinylbutyral-,
2 % Vinylacetat- und 27 % Vinylalkohol-Einheiten) mit Propenylsulfonylisocyanat
2,14 Gew.-Teile 2,6-Bis-(4-azido-benzol)-4-methylcyclohexanon
0,23 Gew.-Teile Rhodamin 6 GDN extra
0,21 Gew.-Teile 2-Benzoylmethylen-1-methyl-B-naphtho- thiazolin
100 Vol.-Teile Ethylenglykolmonomethylether
50 Vol.-Teile Tetrahydrofuran.
[0040] Die elektrochemische punktförmige Bebilderung erfolgt in einer wäßrigen Lösung mit
einem Gehalt an 1,5 % Lithiumcarbonat und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert
von 8 mit etwa 60 V. Nach dem Ausreiben und Trocknen bei 220 °C wird eine für die
Praxis ausreichende Druckform erhalten.
Beispiel 5
[0041] Eine elektrophotographisch-arbeitende Schicht bestehend aus:
10,00 Gew.-Teilen 2-Vinyl-5-(4'-diethylaminophenyl)-4-(2'-chlorphenyl)-oxazol
10,00 Gew.-Teilen eines Mischpolymerisats aus Styrol und Maleinsäureanhydrid (mit
einem Erweichungspunkt von 210°C)
0,02 Gew.-Teilen Rhodamin FB (C. I. 45 170)
300,00 Gew.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether
wird auf eine elektrochemisch aufgerauhte, anodisch oxidierte und mit einer wäßrigen
Polyvinylphosphonsäure-Lösung hydrophilierte Aluminiumfolie aufgetragen. Die getrocknete
Platte kann dann in einer 1,5 %igen wäßrigen Lithiumcarbonat-Lösung mit einem Gehalt
an 1 % Natriumoytylsulfat mit 60 V während 8 bis 12 sec bei einem pH-Wert von 8 und
einer Temperatur von 50°C nach einer vorhergehenden nichtelektrolytischen Standzeit
in der Lösung von 30 sec bildmäßig, rasterförmig mit der Nadelelektrode elektrochemisch
entschichtet werden.
Beispiel 6
[0042] Die elektrophotographisch-arbeitende Schicht aus Beispiel 5 wird auf einen durch
trockenes Bürsten mechanisch aufgerauhten Aluminiumträger aufgebracht und nach den
Angaben des Beispiels 5 weiterverarbeitet. Die bildmäßige Entschichtung erfolgt im
gleichen Elektrolyten unter gleichen Bedingungen, jedoch ohne eine vorhergehende nichtelektrochemische
Einwirkungsphase.
Beispiel 7
[0043] Ein elektrochemisch aufgerauhter, anodisch oxidierter und mit einer wäßrigen Lösung
von Polyvinylphosphonsäure hydrophilierter Aluminiumträger wird mit folgender negativ-arbeitenden
lichtempfindlichen Lösung beschichtet:
1,0 Gew.-Teile Polykondensationsprodukt aus 1 Mol 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsulfat
und 1 Mol 4,4'-Bis-methoxymethyl-diphenylether, ausgefällt als Salz der Mesitylensulfonsäure,
1,8 Gew.-Teile nichtplastifiziertes Harnstoffharz (mit einer Viskosität in 65 %iger
Lösung in Butanol/Xylol bei 20*C von ca. 6000 mPa.s und einer Säurezahl unterhalb 3)
0,4 Gew.-Teile Kristallviolett
98,0 Gew.-Teile Ethylenglykolmonomethylether
[0044] Die elektrochemische bildmäßige Behandlung erfolgt in einer wäßrigen Lösung mit einem
Gehalt an 3 % Natriumphosphat und 3 % eines ethoxylierten Isotridecylalkohols mit
8 Ethylenoxid-Einheiten bei einem pH-Wert von 7 durch Anlegen von etwa 20 V abhängig
von der Punktgröße (der pH-Wert wird mit H
3P0
4 eingestellt). Die Platte wird bebildert und danach bei 220° C getrocknet oder durch
Nachbelichten gehärtet. Die Druckauflage einer so behandelten Platte liegt bei 80.000
Drucken.
Beispiel 8
[0045] Eine positiv-arbeitende lichtempfindliche Lösung, bestehend aus:
25,0 Gew.-Teilen Bis-(5-ethyl-5-butyl-1,3-dioxan-2-yl)-ether des 2-Ethyl-2-butyl-1,3-propan-
diols
71,0 Gew.-Teilen eines Kresol-Formaldehyd-Novolaks
0,7 Gew.-Teilen Kristallviolett-Base
3,0 Gew.-Teilen 2-(Acenaphth-5-yl)-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin
900,0 Gew.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether
wird auf eine elektrochemisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumfolie aufgetragen.
Nach dem Trocknen kann die Folie in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an 3 %
Lithiumsulfat mit 1 % Natrium-octylsulfat mit etwa 15 bis 20 V Spannung bei einem
pH-Wert von 3,5 elektrochemisch bebildert werden.
Beispiel 9
[0046] Die Platte aus Beispiel 3 wird in 6 %iger wäßriger Natriumlaurylsulfat-Lösung bei
einem pH-Wert von 4 elektrochemisch behandelt.
Beispiel 10
[0047] Eine durch Trockenbürstung mechanisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumfolie
wird mit einer positivarbeitenden lichtempfindlichen Lösung aus folgenden Bestandteilen
beschichtet:
1,6 Gew.-Teile des Veresterungsproduktes aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und
2 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid
0,9 Gew.-Teile 2,2'-Bis-[naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonyloxy-(5) ]-dinaphthyl-
(1,1 )-methan
6,4 Gew.-Teile Kresol-Formaldehyd-Novolak (mit dem Erweichungspunkt von 105° - 120°C
nach DIN 53 181)
90,1 Gew.-Teile Gemisch aus 4 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether, 5 Vol.-Teilen
Tetrahydrofuran und 1 Vol.-Teil Essigsäurebutylester
[0048] Diese beschichtete Folie wird in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an 3 % Ammoniumphosphat
und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert von 7,5 (mit H
3PO
4 ein
ge-stellt) elektrochemisch behandelt.
Beispiel 11
[0049] Auf eine elektrochemisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumfolie wird durch
Fließbeschichtung mit einer Breitschlitzdüse die folgende keine strahlungsempfindliche
Verbindung enthaltende Lösung aufgebracht:
6,6 Gew.-Teile Kresol-Formaldehyd-Novolak (mit dem Erweichungsbereich von 105° - 120°C
nach DIN 53 181)
0,08 Gew.-Teile Kristallviolett
91,36 Gew.-Teile Gemisch aus 4 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether, 5 Vol.-Teilen
Tetrahydrofuran und 1 Vol.-Teil Essigsäurebutylester
[0050] Nach dem Trocknen wird diese Platte in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an
3 % Lithiumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat (Natriumsalz des Schwefelsäuremonoocytylesters)
bei einem pH-Wert von 3,5 mit einer Nadelelektrode mit abhängig von der Punktgröße
wechselnder Spannung bebildert.
Beispiel 12
[0051] Eine mit Stahlbürsten mechanisch aufgerauhte Aluminiumfolie wird mit folgender keine
strahlungsempfindliche Verbindung enthaltender Lösung beschichtet und anschließend
im Trockenkanal bei Temperaturen bis 100 °C getrocknet:
7,15 Gew.-Teile eines Phenol-Formaldehyd-Novolaks (mit 14 % phenolischen OH-Gruppen
und einem Erweichungspunkt von 110' - 120°C nach DIN 53 181)
0,15 Gew.-Teile Kristallviolett
0,08 Gew.-Teile Sudangelb GGN (C. I. 11021)
92,25 Gew.-Teile Gemisch aus 40 Vol.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether und 50 Vol.-Teilen
Tetrahydrofuran
[0052] Diese Platte wird in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt an 3 % Lithiumsulfat
und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert von 7,5 mit etwa 60 V abhängig von der
Punktgröße elektrochemisch mit einer Nadelelektrode bebildert.
Beispiel 13
[0053] Eine nicht elektrophotographisch-arbeitende Schicht bestehend aus:
10,00 Gew.-Teilen eines Mischpolymerisats aus Styrol und Maleinsäureanhydrid (mit
einem Erweichungspunkt von 210°C)
300,00 Gew.-Teilen Ethylenglykolmonomethylether
wird auf eine elektrochemisch aufgerauhte, anodisch oxidierte und mit einer wäßrigen
Polyvinylphosphonsäure-Lösung hydrophilierte Aluminiumfolie aufgetragen. Die getrocknete
Platte kann dann in einer 1,5 %igen wäßrigen Lithiumcarbonat-Lösung mit einem Gehalt
an 1 % Natriumoytylsulfat mit 60 V während 8 bis 12 sec bei einem pH-Wert von 8 und
einer Temperatur von 50°C nach einer vorhergehenden nichtelektrolytischen Standzeit
in der Lösung von 30 sec bildmäßig, rasterförmig mit der Nadelelektrode elektrochemisch
entschichtet werden.
Beispiel 14
[0054] Die Schicht aus Beispiel 13 wird auf einen durch trockenes Bürsten mechanisch aufgerauhten
Aluminiumträger aufgebracht und nach den Angaben des Beispiels 13 weiterverarbeitet.
Die bildmäßige Entschichtung erfolgt im gleichen Elektrolyten unter gleichen Bedingungen,
jedoch ohne eine vorhergehende nichtelektrochemische Einwirkungsphase.
Beispiele 15 bis 65
Beispiel 66
[0056] Eine elektrochemisch aufgerauhte, anodisch oxidierte und mit einer wäßrigen Polyvinylphosphonsäure-Lösung
hydrophilierte Aluminiumfolie wird mit folgender negativ-arbeitenden lichtempfindlichen
Lösung beschichtet:
2,00 Gew.-Teile eines Styrol/Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisates (1:1, Molekulargewicht
50000), welches mit Hydroxyethylmethacrylat umgesetzt ist
2,00 Gew.-Teile eines Diurethans aus 2 Mol Glycerindimethylacrylat und 1 Mol Hexamethylendiisocyanat
0,70 Gew.-Teile 9-Phenyl-acridin
0,07 Gew.-Teile Samaronmarineblau
32,00 Gew.-Teile Butanon
12,00 Gew.-Teile Essigsäurebutylester
12,00 Gew.-Teile Ethylenglykolmonomethylether
[0057] Nach der Trocknung erfolgt die elektrochemische Behandlung in einer wäßrigen Lösung
mit einem Gehalt an 3 % Ammoniumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert
von 4 und bei ca. 40 V.
Beispiel 67
[0058] Die Platte von Beispiel 66 wird in einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt von 3 %
Natriumnitrat und 3 % eines ethoxilierten Isotridecylalkohols mit 8 Ethylenoxid-Einheiten
bei einem pH-Wert von 4 elektrochemisch behandelt.
Beispiel 68
[0059] Eine elektrochemisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumfolie wird mit einer
elektrophotographisch-arbeitenden Lösung aus folgenden Bestandteilen beschichtet:
10,00 Gew.-Teile 2,5-Bis-(4'-diethylaminophenyl)-1,3,4- oxdiazol
10,00 Gew.-Teile eines Mischpolymerisats aus Styrol und Maleinsäureanhydrid (mit einem
Erweichungspunkt von 210°C)
0,02 Gew.-Teile Rhodamin FB (C. I. 45170)
300,00 Gew.-Teile Ethylenglykolmonomethylether.
[0060] Die bildmäßige Entschichtung erfolgt elektrochemisch in einer wäßrigen Lösung mit
einem Gehalt an 3 % Ammoniumphosphat und 3 % eines ethoxylierten Isotridecylalkohols
mit 8 Ethylenoxid-Einheiten bei einem pH-Wert von 8.
Beispiel 69
[0061] Eine verchromte Kupferfolie wird mit folgender negativarbeitenden, lichtempfindlichen
Lösung beschichtet:
0,25 Gew.-Teile Polyvinylacetat (Viskosität von 2200 mPa·s nach Höppler in 20 %iger
Essigsäureethylester-Lösung bei 20°C)
0,75 Gew.-Teile Polyvinylacetat (40 mPa·s)
4,00 Gew.-Teile Phenol-Formaldehyd-Novolak (Erweichungspunkt von 110° bis 120°C nach
DIN 53 181)
1,00 Gew.-Teile Kondensationsprodukt aus Cyclohexanon und Formaldehyd (Erweichungspunkt
von 75° bis 90°C)
3,00 Gew.-Teile 4-(2-Phenyl-prop-2-yl)-phenylester der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäure-(4)
0,20 Gew.-Teile Kristallviolett
88,80 Gew.-Teile Ethylenglykol
2,00 Gew.-Teile dest. H20
und kann in einer wäßriger Lösung mit einem Gehalt an 3 % Lithiumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat
bei einem pH-Wert von 3 elektrochemisch behandelt werden.
Beispiel 70
[0062] Eine trockengebürstete Aluminiumfolie wird mit einer flüssigen Photoresistschicht
aus folgenden Bestandteilen versehen:
4 Gew.-Teile eines Kresol-Formaldehyd-Novolaks (Schmelzbereich 105° - 120°C nach DIN
53 181)
1 Gew.-Teil Bis-naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäureester des 4,4'-Bishydroxyphenylvalerian-
säure-2-ethoxyethylesters
40 Gew.-Teile Methylethylketon
[0063] Nach der Trockung erfolgt die elektrochemische Behandlung in einer wäßrigen Lösung
mit einem Gehalt an 3 % Lithiumsulfat und 1 % Natrium-octylsulfat bei einem pH-Wert
von 3.
Beispiele 71 bis 102