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EP 0 198 340 B1 |
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EUROPÄISCHE PATENTSCHRIFT |
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Hinweis auf die Patenterteilung: |
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25.07.1990 Patentblatt 1990/30 |
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Anmeldetag: 02.04.1986 |
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Internationale Patentklassifikation (IPC)5: C23G 1/00 |
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Reinigungsverfahren
Cleaning process
Procédé de nettoyage
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Benannte Vertragsstaaten: |
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BE CH DE FR IT LI NL SE |
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Priorität: |
16.04.1985 DE 3513676 23.09.1985 DE 3533886
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Veröffentlichungstag der Anmeldung: |
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22.10.1986 Patentblatt 1986/43 |
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Patentinhaber: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
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80333 München (DE) |
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Erfinder: |
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- Emmert, Hermann
D-8520 Erlangen (DE)
- Hehs, Herbert
D-7895 Klettgau 2 (DE)
- Coerlin, Detlev, Dipl.-Ing.
D-8520 Erlangen (DE)
- Kuhnke, Klaus
D-8520 Erlangen (DE)
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Entgegenhaltungen: :
EP-A- 0 073 494 DE-A- 2 000 209 FR-A- 1 130 066
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AU-B- 441 037 DE-B- 1 264 351 US-A- 3 000 767
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| Anmerkung: Innerhalb von neun Monaten nach der Bekanntmachung des Hinweises auf die
Erteilung des europäischen Patents kann jedermann beim Europäischen Patentamt gegen
das erteilte europäischen Patent Einspruch einlegen. Der Einspruch ist schriftlich
einzureichen und zu begründen. Er gilt erst als eingelegt, wenn die Einspruchsgebühr
entrichtet worden ist. (Art. 99(1) Europäisches Patentübereinkommen). |
[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von Behältern, insbesondere von
Dampferzeugern, bei dem Ablagerungen chemisch aufgelöst und mechanisch entfernt werden.
[0002] In Dampferzeugern wird durch abgelagerte Korrosionsprodukte der Wärmeübergang behindert.
Eine Anreicherung von Salzen und Kupferverbindungen führt darüber hinaus zur weiteren
Korrosion der Heizrohre im Dampferzeuger.
[0003] Bisher wurden unterschiedliche Reinigungsverfahren getrennt angewendet: Mit einem
mechanischen Reinigungsverfahren werden bei regelmäßiger Durchführung die meisten
Ablagerungen entfernt. In einem Dampferzeuger verbleiben aber harte Verkrustungen,
die mit Calziumsalzen und Kupfersalzen angereichert sind. Ein nur mechanisches Verfahren
reinigt also den Dampferzeuger unvollständig. Mit einem chemischen Reinigungsverfahren
werden sämtliche Ablagerungen chemisch aufgelöst und dann entweder durch Fällung,
durch Filtration oder durch lonenaustausch abgeschieden oder zusammen mit der Lösung
entfernt. Das erfordert einen hohen Zeitaufwand und es müssen relativ viele Abfallstoffe
beseitigt werden. Eine rein chemische Dampferzeugerreinigung ist also wegen des großen
Aufwandes nicht wirtschaftlich.
[0004] Aus der US-PS 3,000,767 ist ein Reinigungsverfahren bekannt, das geeignet ist Kupferverbindungen
zu entfernen. Dazu wird eine wäßrige Ammoniaklösung eingesetzt, so daß sich ein Kupferammoniumkomplex
bildet.
[0005] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein einfaches, kostengünstiges und trotzdem
zuverlässiges Reinigungsverfahren zu entwickeln. Da insbesondere Kupferverbindungen
sehr zur Korrosion beitragen und darüber hinaus andere Reinigungsprozesse behindern,
sollen mit dem Verfahren nach der Erfindung primär alle Kupferverbindungen aus einem
Behälter, insbesondere aus einem Dampferzeuger entfernt werden. Die weitere Reinigung
soll dann mit geringem Aufwand durchgeführt werden. Das Verfahren soll möglichst schnell
durchführbar sein und dabei Kupferverbindungen weitgehend vollständig entfernen.
[0006] Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß zum chemischen Auflösen von
in den Ablagerungen vorhandenen Kupferverbindungen durch Bilden von Kupferkomplexen
mit geeigneten Liganden in die Behälter Ammoniak und Ethylendiamin in wäßriger Lösung
gegeben werden, wodurch zunächst Ammoniumkomplexe und dann lösliche organische Ethylendiaminchelatkomplexe
der vorhandenen Kupferverbindungen gebildet werden, so daß dann lose Ablagerungen
und Flüssigkeiten mechanisch zu entfernen sind, und daß anschließend verbleibende
Verkrustungen chemisch aufweichbar und gelokkerte Ablagerungen sowie verbliebene Chemikalien
ausspülbar sind.
[0007] Das Reinigungsverfahren nach der Erfindung wird also in vier Schritten durchgeführt:
1. Auflösen der Kupferverbindungen;
2. mechanische Reinigung;
3. chemisches Auflösen bzw. Aufweichen der noch verbliebenen Verkrustungen;
4. Ausspülen der gelockerten Ablagerungen und der verbliebenen Chemikalien.
[0008] Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Reinigung von Behältern, insbesondere von
Dampferzeugern, wird der Vorteil erzielt, daß Reinigungserfolg und Aufwand optimiert
sind. Man erzielt also mit kleinem Aufwand einen möglichst großen Reinigungserfolg.
[0009] Die vorhandenen Kupferverbindungen werden dadurch chemisch aufgelöst, daß einer wäßrigen
Lösung geeignete Liganden zugegeben werden, wodurch lösliche Komplexe der Kupfersalze
gebildet werden. Um Kupfersalze selektiv aus Ablagerungen in Behältern herauszulösen,
wird zur Bildung leicht löslicher Kupferaminkomplexe einer wäßrigen Lösung beispielsweise
Ethylendiamin zugegeben. Dabei wird der pH-Wert durch Zugabe von NH
QOH auf einen Wert größer als pH 10 angehoben, und die Temperatur im Dampferzeuger
wird unter 80°C gehalten. Nach einer Einwirkdauer von mindestens 24 Stunden wird der
Behälter, der beispielsweise ein Dampferzeuger ist, für mindestens eine Stunde mit
Deionat gespült.
[0010] Durch den Einsatz von Ethylendiamin und Ammoniak wird das Auflösen der Kupferverbindungen
aus den Ablagerungen überhaupt erst ermöglicht. Es wird der Vorteil erzielt, daß die
Kupferverbindungen, die fast alle chemischen Reinigungsprozesse entscheidend stören,
auf einfache Weise vollständig entfernt werden. Die wäßrige Lösung, die die Kupferkomplexe
enthält, wird nach dem ersten chemischen Reinigungsschritt zusammen mit losen Ablagerungen
in einem ersten mechanischen Reinigungsschritt entfernt.
[0011] Beispielsweise wird der wäßrigen Lösung, die Ammoniak und Ethylendiamin enthält,
zusätzlich Ammoniumcarbonat zugegeben. Durch ein anorganisches Salz, wie Ammoniumcarbonat,
wird die elektrische Leitfähigkeit der Reinigungslösung erhöht, was die chemische
Reaktion vorteilhaft beschleunigt.
[0012] Nachdem die Kupferverbindungen entfernt sind, verbleiben im Dampferzeuger Verkrustungen,
die vorwiegend aus Eisenoxid bestehen, aber auch Nickel, Chrom, Zink und Calzium überwiegend
als Phosphate und Carbonate enthalten.
[0013] Diese schwer löslichen Stoffe werden beispielsweise durch Zugabe von Säuren aufgelockert
oder aufgelöst und dann durch eine zweite mechanische Reinigung weitgehend entfernt.
[0014] Durch eine Säure, z.B. Zitronensäure, die zum Auflösen von Verkrustungen in einem
Dampferzeuger 24 Stunden umgewälzt wird, werden die schwer löslichen Stoffe in lösliche
Salze überführt. Eine solche relativ starke Säure kann jedoch Metallteile des Dampferzeugers
angreifen. Daher ist es notwendig, daß alle Säurereste im Zuge der zweiten mechanischen
Reinigung gründlich ausgespült werden.
[0015] Nach einem anderen Beispiel werden die schwer löslichen Stoffe in wasserlösliche
Komplexe umgewandelt, indem geeignete Säuren zugeführt werden. Diese Umwandlung ist
möglich, da zuvor alle Kupferverbindungen entfernt wurden. Durch den Einsatz nur schwacher
Säuren ist die abschließende mechanische Reinigung vereinfacht durchführbar.
[0016] Eine Möglichkeit, Verkrustungen zu beseitigen, ist die Bildung wasserlöslicher Komplexe
durch Zugabe von EDTA oder DCTA sowie von NH,OH zum Anheben des pH-Wertes bis pH 10,5.
[0017] Abschließend wird stets der Behälter, beispielsweise der Dampferzeuger, solange gespült,
bis die Leitfähigkeit des Spülwassers einen vorgegebenen Wert unterschritten hat.
[0018] Ablagerungen aus metallischem Kupfer werden durch das Verfahren zur chemischen Auflösung
von Kupferverbindungen chemisch nicht verändert, da die zur Komplexbildung bei Kupferverbindungen
geeigneten Liganden mit metallischem Kupfer keine Komplexe bilden. Auch mit Säuren
sind mechanisch nicht angreifbare Ablagerungen aus metallischem Kupfer nicht zu entfernen.
[0019] Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren wird metallisches Kupfer beispielsweise dadurch
entfernt, daß als erster Verfahrensschritt in die verunreinigten Behälter Wasserstoffperoxid
eingeleitet wird. Dadurch wird das metallische Kupfer oxidiert. Danach folgen die
übrigen vier Schritte des Reinigungsverfahrens.
[0020] Das entstandene Kupferoxid wird zusammen mit vorhandenen Kupferverbindungen aufgelöst
und entfernt.
[0021] Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren wird insbesondere der Vorteil erzielt, daß Dampferzeuger
mit geringem Aufwand schnell und zuverlässig gereinigt und insbesondere Kupferverbindungen
restlos aufgelöst werden.
1. Verfahren zur Reinigung von Behältern, insbesondere von Dampferzeugern, bei dem
Ablagerungen chemisch aufgelöst und mechanisch entfernt werden, dadurch gekennzeichnet,
daß zum chemischen Auflösen von in den Ablagerungen vorhandenen Kupferverbindungen
durch Bilden von Kupferkomplexen mit geeigneten Liganden in die Behälter Ammoniak
und Ethylendiamin in wäßriger Lösung gegeben werden, wodurch zunächst Ammoniumkomplexe
und dann lösliche organische Ethylendiaminchelatkomplexe der vorhandenen Kupferverbindungen
gebildet werden, so daß dann lose Ablagerungen und Flüssigkeiten mechanisch zu entfernen
sind, und daß anschließend verbleibende Verkrustungen chemisch aufweichbar und gelockerte
Ablagerungen sowie verbliebene Chemikalien ausspülbar sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in die wäßrige Lösung zur
Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeiten Ammoniumcarbonat zugegeben wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß in die
Behälter, nachdem die Kupferverbindungen entfernt worden sind, eine starke Säure eingefüllt
wird, die schwer lösliche Stoffe auflöst.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß in die
Behälter, nachdem die Kupferverbindungen entfernt worden sind, schwache Säuren eingefüllt
werden, die mit vorhandenen schwer löslichen Stoffen leichter lösliche Komplexe bilden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in die
Behälter, bevor die Kupferverbindungen entfernt werden, zur Oxidation von Ablagerungen
aus metallischem Kupfer, Wasserstoffperoxid eingeleitet wird.
1. Procédé de nettoyage de cuves, notamment de générateurs de vapeur, dans lequel
on dissout chimiquement les dépôts et on les élimine mécaniquement, caractérisé en
ce qu'il consiste pour dissoudre chimiquement des composés de cuivre présents dans
les dépôts, par formation de complexes de cuivre avec des ligands convenables, à charger
dans la cuve de l'ammoniaque et de l'éthylènediamine en solution aqueuse, ce qui forme
d'abord des complexes d'ammonium puis des complexes chélatés organiques d'éthylène-
diamine solubles des composés de cuivre présents, de sorte que l'on peut ensuite enlever
mécaniquement des dépôts détachés et des liquides et qu'ensuite on peut ramollir chimiquement
des incrustations résiduelles et expulser par rinçage des dépôts détachés, ainsi que
des produits chimiques restants.
2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'il consiste à charger
dans la solution aqueuse du carbonate d'ammonium pour augmenter la conductivité électrique.
3. Procédé suivant l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il consiste
à introduire dans la cuve, après avoir éliminé les composés de cuivre, un acide fort
qui dissout les substances peu solubles.
4. Procédé suivant l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il consiste
à introduire dans la cuve, après avoir éliminé les composés de cuivre, des acides
faibles qui forment des complexes plus solubles avec les substances présentes peu
solubles.
5. Procédé suivant l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il consiste
à introduire dans la cuve, avant d'avoir éliminé les composés de cuivre, de l'eau
oxygénée pour l'oxydation des dépôts en cuivre métallique.
1. Method for cleaning vessels, more particularly steam generators, by which deposits
are chemically dissolved and mechanically removed, characterised in that, for the
purpose of chemically dissolving copper compounds present in the deposits by formation
of copper complexes with suitable ligands, ammonia and ethylenediamine in aqueous
solution are added to the vessels, whereby first ammonium complexes and then soluble
organic ethylenediamine chelate complexes of the present copper compounds are formed
so that then loose deposits and fluids can be removed mechanically, and in that subsequently
remaining incrustations of loosened deposits, which can be softened chemically, as
well as remaining chemicals can be flushed out.
2. Method according to claim 1, characterised in that ammonium carbonate is added
to the aqueous solution for the purpose of increasing the electrical conductivity.
3. Method according to one of the claims 1 and 2, characterised in that after the
copper compounds have been removed, a strong acid, which dissolves substances which
are difficult to dissolve, is fed into the vessels.
4. Method according to one of the claims 1 and 2, characterised in that after the
copper compounds have been removed, weak acids, which with substances, which are present
and which are difficult to dissolve, form complexes which are easier to dissolve,
are fed into the vessels.
5. Method according to one of the claims 1 to 4, characterised in that before the
copper compounds are removed, hydrogen peroxide is introduced into the vessels for
the purpose of oxidizing deposits of metallic copper.