Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes auf einem Leuchtschirm für flache Bildanzeigegeräte

Abstract

 Bei einem Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes auf einem Leuchtschirm für flache Bildanzeigegeräte wird vorgeschlagen, daß zunächst im Randbereich der Innenoberfläche des Schirmglases (2) eine Schicht (1) aus einer Dickschicht-Metallpaste aufgebracht und getrocknet wird und daß anschließend die Leuchtschicht (3) so mit einer AI-Schicht (4) hinterlegt wird, daß durch Überlappung mit der im Randbereich des Schirmglases (2) aufgebrachten, den Kontaktrand Bildenden Dickschicht-Metallpaste ein elektrischer Kontakt entsteht.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei der Herstellung von flachen Plasmabildschirmen verwendet.

Beschreibung

[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes auf einem Leuchtschirm für flache Bildanzeigegeräte. Derartige Bildanzeigegeräte sind allgemein bekannt (vgl. hierzu DE-PS 24 12 869).

[0002] Für flache Bildschirmsysteme (Bildanzeigegeräte) ist eine vakuumdichte Kontaktierung des Bildschirmes durch eine Glaslotnaht hindurch mit guter elektrischer Leitfähigkeit erforderlich. Auf diese Weise soll eine Ableitung der Elektronen vom metallisierten, vorzugsweise aluminisierten Leuchtstoffschirm gewährleistet werden.

[0003] Bislang konnte das Problem nur mit direkt auf das Bildschirmglas aufgedampften Schichten, beispielsweise Ti/ Cu- oder Al203/ Ni-Schichten, gelöst werden.

[0004] Ein nach der Beschichtung mit Leuchtstoff aufgedampfter Aluminiumringkontakt scheiterte an der zu hohen notwendigen Dicke (≥ 1,5µm), wobei zu geringe Haftfestigkeit und auch hohe Kosten als Hauptprobleme anzusehen sind. Hinzu kommt eine mangelnde Vakuumdichtigkeit oder Unterbrechungen des Kontaktes, sobald die Dicke von 1,5um unterschritten wird. Das Aufdampfen anderer Materialien als Aluminium am Rand kommt nach der Leuchtstoffhinterlegung mit Al wegen Kontaminationsproblemen nicht in Betracht.

[0005] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die aufgezeigten Nachteile zu vermeiden und insbesondere ein Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes anzugeben, das eine vakuumdichte Kontaktierung des Bildschirmes gewährleistet und durch verfahrensökonomische Maßnahmen zudem kostengünstig durchführbar ist.

[0006] Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes auf einem Leuchtschirm für flache Bildanzeigegeräte mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.

[0007] Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen bzw. Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand zusätzlicher Ansprüche.

[0008] Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß vor Beginn der eigentlichen Leuchtstoffbeschichtung auf das insbesondere entspiegelte und gewaschene Schirmglas eine Ringmetallisierung einschließlich einer nach außen führenden Durchkontaktierung vorzugsweise mit Siebdruck von Dickschicht-Silber oder ähnlichen Dickschicht-Metallpasten, die für Weichglassubstrate geeignet sind (∝ = 90·10^-7/°C) aufgebracht wird. Wesentlich ist, daß das Einbrennen der Paste kein zusätzlicher Prozeß ist, sondern zusammen mit dem notwendigen Feinkühlprozeß für das Schirmglas zur Compaction-Ausschaltung bei ca. 510°C bis max. 530°C stattfinden kann. Die eingebrannte Schicht hat von Kontakt zu Kontakt einen Widerstandswert von < 1Ω.

[0009] Anhand eines Ausführungsbeispiels und der Figur wird die Erfindung weiter erläutert.

[0010] Die Figur zeigt rein schematisch eine Draufsicht auf den Leuchtschirm.

[0011] Als Schirmglas 2 für den Leuchtschirm wird eine Floatglasscheibe 306 x 216 x 12mm verwendet. Diese Scheibe wird an einer Oberfläche geläppt und poliergeätzt (Entspiegelung) sowie anschließend nach üblichen Verfahren gereinigt. Auf die entspiegelte Oberfläche des Schirmglases 2 wird als Randschicht 1 und deren Durchkontaktierung 5 eine ca. 5µm bis max. 10µm dicke Schicht aus Dickschicht-Silberpaste aufgebracht und anschließend bei ca. 100°C getrocknet. Danach wird das Schirmglas 2 bei ca. 510^oC an Luft für ca. 15min getempert und feingekühlt (ca.1,5°C/min), Die Feinkühlung dient zur Vermeidung von Compaction bei späteren Temperaturprozessen mit 440°C bis 450°C.

[0012] Anschließend wird als Leuchtschicht 3 z. B. in einem sogenannten "brushing"-Verfahren ganzflächig Phosphor (Leuchtstoff) in einer etwa 20um dicken Schicht aufgebracht. Ein solches Verfahren ist beispielsweise in der älteren, noch nicht veröffentlichten Patentanmeldung P 3431 064.9 bebeschrieben. Abschließend wird die Leuchtschicht 3 mit einer Aluminiumschicht 4 als Schutzschicht mit einer Dicke von ca. 10nm bis 500nm, vorzugsweise ca. 40nm, so hinterlegt, daß durch Überlappung ein guter Kontakt mit der Randschicht 1 (Kontaktrand) erzielt wird.

Ansprüche

1. Verfahren zum Herstellen eines Kontaktrandes auf einem Leuchtschirm für flache Bildanzeigegeräte, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst im Randbereich der Innenoberfläche des Schirmglases (2) eine ungefähr 5µm bis 10µm dicke Randschicht (1) aus einer für Weichglassubstrate geeigneten Dickschicht-Metallpaste aufgebracht und getrocknet wird, daß das Schirmglas (2) an Luft getempert und feingekühlt wird, daß die Leuchtschicht (3) in an sich bekannter Weise ganzflächig auf das Schirmglas (2) aufgebracht wird und daß anschließend die Leuchtschicht (3) so mit einer Aluminiumschicht (4) hinterlegt wird, daß durch Überlappung mit der im Randbereich des Schirmglases (2) aufgebrachten, den Kontaktrand bildenden Dickschicht-Metallpaste ein elektrischer Kontakt entsteht.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Randschicht (1) und deren Durchkontaktierung (5) durch ein Siebdruckverfahren auf das Schirmglas (2) aufgebracht werden.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Randschicht (1) eine Dickschicht-Silberpaste auf das Schirmglas (2) aufgebracht wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtschicht (3) in einer Dicke von ungefähr 20µm auf das Schirmglas (2) aufgebracht wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtschicht (3) mit einer ungefähr 10nm bis 500nm, vorzugsweise ungefähr 40nm dicken Aluminiumschicht (4) hinterlegt wird.

Zeichnung