[0001] Die Erfindung bezieht sich auf ein Synchrotron zur Beschleunigung von geladenen
Teilchen auf einer Bahn mit geraden Bereichen, denen Mittel zur Elektroneninjektion
und -beschleunigung sowie -fokussierung zugeordnet sind. Die Bahn enthält ferner
gekrümmte Bereiche, denen supraleitende gekrümmte Flachspulen zugeordnet sind, die
in einem Kryogefäß angeordnet sind. In den gekrümmten Bereichen ist die Bahn jeweils
von einer Kammer umgeben, die radial nach außen mit wenigstens einer Austrittsöffnung
versehen ist.
[0002] In einem Synchrotron können bekanntlich Elektronen oder auch Protonen dadurch auf
hohe Energie beschleunigt werden, daß sie auf einer gekrümmten Bahn in Umlauf gebracht
und wiederholt durch einen Hochfrequenz-Beschleunigungshohlraum hindurchgeführt
werden. Das Teilchen passiert immer dann die Beschleunigungsstrecke, wenn die anliegende
Wechselspannung das zur Beschleunigung richtige Vorzeichen hat; das Teilchen läuft
somit synchron zur Wechselspannung, d.h. phasenrichtig um. Beim Elektronen-Synchrotron
werden die Elektronen bereits nahezu mit Lichtgeschwindigkeit in die Beschleunigungsstrecke
eingeleitet; es ändert sich somit bei fester Umlauffrequenz nur noch ihre Energie.
Die Synchrotronstrahlung, d.h. die relativistische Strahlungsemission der Elektronen,
die nahezu mit Lichtgeschwindigkeit umlaufen und durch Ablenkung in einem magnetischen
Feld supraleitender Spulen auf einer Kreisbahn gehalten werden, liefert eine Röntgenstrahlung
mit paralleler Strahlungscharakteristik und großer Intensität. Diese Synchrotronstrahlung
kann bekanntlich für die Röntgenstrahl-Lithographie verwendet werden, die bei der
Herstellung von integrierten Schaltkreisen zur Erzeugung von Strukturen, die kleiner
sind als 0,5 µm, geeignet ist. Dabei trifft die parallele Röntgenstrahlung im nutzbaren
Wellenlängenbereich von etwa λ = 0,2 bis 2 nm auf eine abzubildende Maske, hinter
der im Proximityabstand die zu belichtende Halbleiterscheibe angeordnet ist.
[0003] Eine bekannte Ausführungsform eines Elektronen-Synchrotrons enthält eine Umlaufbahn
in der Rennbahn-Form mit abwechselnd geraden und gekrümmten Bahnbereichen. Der Krümmungsradius
ergibt sich durch das Gleichgewicht zwischen Zentrifugalkraft und Lorentzkraft eines
Magnetfeldes von Dipolmagneten, die als supraleitende gekrümmte Flachspulen ausgebildet
sind. Diese Feldspulen sind mit einer Gradientenspule in einem Kryogefäß angeordnet,
das auch die evakuierte Kammer im gekrümmten Bahnbereich, in welcher die Elektronen
umlaufen, auf Kryotemperatur hält. Den geraden Bereichen der Beschleunigungsstrecke
ist ein Elektroneninjektor, mit dem die Elektronen in die Beschleunigungsstrecke eingeleitet
werden, sowie Mittel zur Elektronenbeschleunigung zugeordnet (deutsche Offenlegungsschrift
35 30 446).
[0004] Bei dieser Ausführungsform eines Synchrotrons ist die Kammer im gesamten gekrümmten
Bahnbereich der Umlaufbahn jeweils mit einer schlitzförmigen Austrittsöffnung versehen.
Die Lorentzkräfte der supraleitenden Flachspulen müssen deshalb von den Schenkeln
einer C-förmigen oder U-förmigen Tragkonstruktion aufgenommen werden. Da eine Lageveränderung
dieser Flachspulen unter der Einwirkung der Lorentzkräfte mit einer entsprechenden
Feldverzerrung praktisch ausgeschlossen werden muß, ist eine entsprechend aufwendige
Stützkonstruktion erforderlich.
[0005] Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, die Tragkonstruktion für die Feldspulen
im gekrümmten Bereich der Bahn zu vereinfachen und zu verbessern, insbesondere sollen
Biegespannungen in den Schenkeln der C-förmigen Tragkonstruktion verhindert werden.
[0006] Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst mit den kennzeichnenden Merkmalen des
Anspruchs 1. Der Absorber läßt wenigstens eine, gegebenenfalls mehrere Austrittsöffnungen,
die vorzugsweise als Austrittsrohre ausgebildet sein können, für die Synchrotronstrahlung
frei. Der Raum zwischen diesen Rohren in der Richtung der tangential abgeleiteten
Synchrotronstrahlung hinter dem Absorber kann nun mit einer Stützstruktur, beispielsweise
aus Stützelementen, ausgefüllt werden, die vorzugsweise aus glasfaserverstärktem
Kunststoff GFK bestehen kann. Durch diese praktisch nur als einfache Abstandhalter
wirkende Stützstruktur können auch große magnetische Kräfte der supraleitenden Spulen
aufgenommen werden, so daß eine besondere Tragkonstruktion nicht mehr erforderlich
ist.
[0007] Zur Begrenzung der Erwärmung der auf Kryotemperatur gehaltenen Wände der Elektronenstrahlkammer
sowie zur Verminderung der Desorption von Teilchen aus dem Material des Absorbers
kann für den Absorber zweckmäßig eine zusätzliche Kühlung vorgesehen sein.
[0008] Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die Zeichnung Bezug genommen, in
der ein Ausführungsbeispiel eines Synchrotrons gemäß der Erfindung schematisch veranschaulicht
ist. Figur 1 zeigt ein Synchrotron als Draufsicht und in Figur 2 ist ein Schnitt durch
einen der gekrümmten Bereiche der Elektronenbahn gemäß Figur 1 veranschaulicht. In
den Figuren 3 und 4 ist jeweils ein Schnitt durch einen Absorber mit einer Austrittsöffnung
veranschaulicht.
[0009] In der schematischen Übersicht eines Elektronen-Synchrotrons gemäß Figur 1 besteht
eine Elektronenbahn 2 aus gekrümmten Bahnbereichen 3 und 4 sowie geraden Bahnbereichen
5 und 6. Der Bahnbereich 5 enthält einen Hohlraumresonator 8 für eine Frequenz von
beispielsweise 500 MHz zur Elektronenbeschleunigung und zwei Quadrupol-Magnete 10
und 11, von denen einer zur Fokussierung und der andere zur Defokussierung dient.
Der andere gerade Bahnbereich 6 ist ebenfalls mit zwei Quadrupol-Magneten 12 und
13, von denen einer zur Fokussierung und der andere zur Defokussierung dient, und
außerdem mit einer Injektionseinrichtung 14 für Elektronen versehen.
[0010] Die gekrümmten Bereiche 3 und 4 sind in gleicher Weise aufgebaut und deshalb mit
den gleichen Bezugszeichen versehen. Die beiden gekrümmten Bahnbereiche sind als Schnitt
schematisch dargestellt. Die jeweils einem der gekrümmten Bahnbereiche 3 oder 4
umgebenden evakuierten Kammern 16 sind radial nach außen etwas erweitert und enthalten
in Richtung der Synchrotronstrahlung 18 jeweils einen Absorber 20, dem gegebenenfalls
noch eine Schlitzblende 21 vorgelagert sein kann. Zur Durchleitung der Synchrotronstrahlung
18 ist im Absorber 20 ein Strahlrohr 19 oder gegebenenfalls eine Bohrung vorgesehen.
Zur Ablenkung der Elektronen in den gekrümmten Bahnbereichen 3 und 4 dienen supraleitende
Dipolmagnete, die als supraleitende gekrümmte Flachspulen ausgeführt sind und von
denen in der Figur nur einer angedeutet und mit 22 bezeichnet ist. Den Dipolmagneten
sind in der Figur zur Vereinfachung nicht dargestellte Gradientenspulen und Korrekturspulen
zugeordnet.
[0011] In der Ausführungsform gemäß Figur 2 ist dem gekrümmten Bahnbereich 3 der Bahn 2
die oberhalb der Kammer 16 angeordnete Gruppe von Dipolmagneten 22, von denen in der
Figur zur Vereinfachung lediglich einer angedeutet ist, und eine unterhalb der Kammer
16 angeordnete Gruppe von Dipolmagneten 23 zugeordnet. Die Kammer 16 umgibt den gekrümmten
Bahnbereich 3 der Elektronenbahn 2 und ist mit dem Strahlrohr 19 zur Ableitung der
Synchrotronstrahlung 18 versehen. Das Strahlrohr 19 ist durch die Wand eines Heliumbehälters
17 hochvakuumdicht hindurchgeführt. Dem gekrümmten Bahnbereich 3 der Elektronenbahn
2 sind ferner Korrekturspulen 25 und eine Gradientenspule 24 zugeordnet. Oberhalb
und unterhalb der Gruppen von Dipolmagneten 22 und 23 ist jeweils eine Abdeckvorrichtung
26 bzw. 28 vorgesehen, die im Falle einer Kunststoffausführung als Abdeckplatten
und im Falle einer Metallausführung als Abdeckrippen gestaltet sein können. Die Abdeckvorrichtung
26 ist mit einer oberen Tragstruktur 32 und die untere Abdeckvorrichtung 28 ist mit
einer unteren Tragstruktur 33 lösbar verbunden. Zur Aufnahme der Kräfte der Gruppen
von Dipolmagneten 22 und 23 in senkrechter Richtung sind einfache durchgehende Verschraubungen
34 und 35 vorgesehen, die in der Figur lediglich schematisch angedeutet sind. Zur
Aufnahme der Lorentzkräfte in radialer Richtung ist für die Gruppen von Dipolmagneten
22 und 23 jeweils eine Halterung 36 und 37 vorgesehen, die im wesentlichen aus einem
Schraubbolzen 38 bzw. 39 sowie einem Lagerbolzen 40 bzw. 41 bestehen, der in je zwei
Zugankern 42 und 43 bzw. 44 und 45 gelagert ist. Die Zuganker 42 und 43 sind an der
Tragstruktur 32 und die Halteplatten 44 und 45 sind an der unteren Tragstruktur 33
befestigt.
[0012] Der gekrümmte Bahnbereich 3 der Elektronenbahn 2 ist von der Kammer 16 umgeben, die
mit wenigstens einer Austrittsöffnung für die Synchrotronstrahlung 18 versehen ist.
Zweckmäßig kann für den gesamten gekrümmten Bahnbereich 3 ein gemeinsamer Absorber
20 vorgesehen sein, dem die Schlitzblende 21 vorgelegt ist und dessen Krümmung dem
Verlauf der Elektronenbahn 2 im Bereich 3 angepaßt ist. Der Absorber 20 ist lediglich
mit einer entsprechenden Öffnung für die Synchrotron-Strahlung 18 versehen.
[0013] Für den Absorber 20 kann vorzugsweise eine Flüssigkeitskühlung vorgesehen sein,
deren Kühlmedium durch Kühlkanäle 51 und 52 strömt, die mit einem in der Figur nicht
dargestellten Kühlmittelreservoir in Verbindung stehen und für die eine Umlaufkühlung
vorgesehen ist. Der Absorber 20 schützt eine äußere Wand 29 der Elektronenstrahlkammer
16, die in der Richtung der Synchrotronstrahlung 18 hinter dem Absorber 20 angeordnet
ist, vor der Einwirkung der Synchrotronstrahlung 18. Eine Tragstruktur 60 kann in
einfacher Weise lediglich als Füllmaterial für den Raum zwischen dem radial außenliegenden
Teil der Windungen der Dipolmagneten 22 und dem entsprechenden Teil der Windungen
der Dipolmagneten 23 ausfüllen. Diese Tragstruktur 60 kann zweckmäßig aus glasfaserverstärktem
Kunststoff bestehen und allein durch die Druckkräfte der Verschraubungen 34 und 35
in ihrer Lage fixiert werden. Die Stützstruktur 60 kann jedoch auch aus einzelnen
in der Figur nicht dargestellten Stützelementen oder Abstandhaltern bestehen.
[0014] In der Ausführungsform gemäß Figur 3 besteht der Absorber 20 aus einem gekrümmten
metallischen Gehäuse 53, beispielsweise aus rostfreiem Stahl, dessen Krümmung der
Elektronenbahn 2 im gekrümmten Bahnbereich 3 angepaßt ist und dessen der Elektronenbahn
zugewandte Gehäusewand von dieser Bahn immer den gleichen Abstand hat. Der Absorber
20 ist von einem Kühlmittel, vorzugsweise flüssigem Stückstoff LN₂, durchströmt.
In einer entsprechenden Öffnung des Gehäuses 53 ist ein Strahldurchtrittsrohr 48
derart angeordnet, daß die im Bahnbereich 3 tangential abgestrahlte und in der Figur
strichpunktiert angedeutete Synchrotronstrahlung 18 hindurchtreten kann. Das Durchtrittsrohr
48 ist mit dem Gehäuse 53 des Absorbers 20 unlösbar verbunden, vorzugsweise ultrahochvakuumdicht
verschweißt.
[0015] In einer besonders einfachen Ausführungsform gemäß Figur 4 besteht der Absorber 20
beispielsweise aus einem Metallprofil, vorzugsweise aus Kupfer oder auch aus Messing,
mit Kühlkanälen 51 und 52, das mit einer Öffnung 54 zur Durchleitung des Synchrotronstrahls
versehen ist.
1. Synchrotron zur Beschleunigung von geladenen Teilchen auf einer Bahn mit
a) geraden Bahnbereichen, denen Mittel zur Elektroneninjektion und -beschleunigung
zugeordnet sind und mit
b) gekrümmten Bahnbereichen, denen supraleitende gekrümmte Dipolmagnete zugeordnet
sind, die in einem Kryogefäß angeordnet sind, und bei dem
c) die Elektronenbahn von einer Kammer umgeben ist, die in den gekrümmten Bahnbereichen
radial nach außen mit wenigstens einer Austrittsöffnung versehen ist,
dadurch gekennzeichnet, daß
d) in den Kammern (16) der gekrümmten Bahnbereiche (3, 4) jeweils ein Absorber (20)
angeordnet ist, und daß
e) die Kammer (16) mit mindestens einem Strahlrohr (19) für die Synchrotronstrahlung
(18) versehen ist, das durch den Absorber (20) hindurchgeführt ist, und daß
f) in Richtung der Synchrotronstrahlung hinter dem Absorber (20) zwischen den Dipolmagneten
(22, 23) jeweils eine Stützstruktur (60) vorgesehen ist.
2. Synchrotron nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß für den Absorber (20) eine zusätzliche Kühlung vorgesehen ist.
3. Synchrotron nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Kühlung mit flüssigem Stickstoff LN₂.