(19)
(11) EP 0 291 878 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
07.06.1989  Patentblatt  1989/23

(43) Veröffentlichungstag A2:
23.11.1988  Patentblatt  1988/47

(21) Anmeldenummer: 88107718.4

(22) Anmeldetag:  13.05.1988
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)4G03F 7/031, G03C 1/73
(84) Benannte Vertragsstaaten:
BE CH DE FR GB IT LI NL SE

(30) Priorität: 21.05.1987 DE 3717038

(71) Anmelder: BASF Aktiengesellschaft
67063 Ludwigshafen (DE)

(72) Erfinder:
  • Aldag, Reinhard, Dr.
    D-6700 Ludwigshafen (DE)
  • Neumann, Peter, Dr.
    D-6908 Wiesloch (DE)
  • Boettcher, Andreas, Dr.
    D-6906 Leimen (DE)
  • Bluemel, Thomas, Dr.
    D-6701 Erpolzheim (DE)
  • Seitz, Friedrich, Dr.
    D-6701 Friedelsheim (DE)


(56) Entgegenhaltungen: : 
   
       


    (54) Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien sowie Photoresistschichten und Flachdruckplatten auf Basis dieser Aufzeichnungsmaterialien


    (57) Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien mit mindestens einer photopolymerisierbaren, olefinisch ungesättigten organischen Verbindung, gegebenenfalls einem polymeren Bindemittel, einem Photopolymerisationsinitiator, einem farbbildenden System aus einem Farbbildner und einem Photooxidationsmittel, einem Sensibilisator sowie gegebenenfalls weiteren Zusatz- und/oder Hilfsstoffen, enthalten als Sensibilisator bestimmte Benztriazolverbindungen.
    Diese photopolymerisierbaren Aufzeichungsmaterialien eignen sich insbesondere zur Herstellung von Photoresistschichten und Flachdruckplatten. 1





    Recherchenbericht