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(11) | EP 0 300 995 A3 |
(12) | EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG |
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(54) | Stabförmige Magnetron- bzw. Sputterkathodenanordnung, Sputterverfahren, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und rohrförmiges Target |
(57) Die Erfindung betrifft eine stabförmige Magnetron-Sputterkathodenanordnung mit einem
innenliegenden, gekühlten Permanentmagnetsystem und einem Trägerrohr für das Target.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, daß zwischen den aus einem oder mehreren, insbesondere
austauschbar auf das Trägerrohr (36) aufgezogenen Ring(en) (37, 37′, 37˝) bestehenden
Target und dem Trägerrohr (36) zumindest eine Wärmekontaktschicht (38) angeordnet
ist. Während des Sputterns können die Kathode (6) und die zu besputternde Fläche einer
gegenseitigen Relativbewegung in Längsrichtung der Kathode (6) unterworfen werden,
wozu eine Verstelleinrichtung vorgesehen ist. Die Magnete (31) sind mit in Längsrichtung
des Trägerrohres (36) alternierend entgegengesetzter Richtung ihres Magnetfeldes
innerhalb des Trägerrohres (36) angeordnet. Sie besitzen zylindrische oder polygonale
Mantelflächen und parallele und im Winkel (α) zur Längsrichtung der Elektrode (6)
bzw. Welle (30) geneigt verlaufende Endflächen (44). |