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Benannte Vertragsstaaten: |
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CH DE FR GB LI |
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Priorität: |
02.10.1987 CH 3856/87
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Veröffentlichungstag der Anmeldung: |
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05.04.1989 Patentblatt 1989/14 |
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Patentinhaber: CIBA-GEIGY AG |
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4002 Basel (CH) |
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Erfinder: |
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- Reinert, Gerhard, Dr.
CH-4123 Allschwil (CH)
- Burdeska, Kurt, Dr.
CH-4058 Basel (CH)
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Vertreter: Schwabe - Sandmair - Marx |
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Stuntzstrasse 16 81677 München 81677 München (DE) |
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Entgegenhaltungen: :
WO-A-84/02365 GB-A- 2 174 731
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WO-A-86/03528
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- JOURNAL OF POLYMER SCIENCE: POLYMER CHEMISTRY EDITION, Band 20, Nr. 9, 1982, Seiten
2429-2443, John Wiley & Sons, Inc., New York, US; I.H. LEAVER:"The action of a benzotriazole
light stabilizer in wool. II. The mechanism of photostabilization"
- JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, Band 33, Nr. 6, Mai 1987, Seiten 2087-2095, John
Wiley & Sons, Inc., New York, US; C.M. CARR et al.:"Photoprotective agents for wool.
Synergism between UV absorbers and antioxidants"
- CHEMICAL ABSTRACTS, Band 77, Nr. 6, 7. August 1972, Seite 98, Nr. 36262r, Columbus,
Ohio, US
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Bemerkungen: |
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[0001] Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Löschen oder Unterdrücken der
Fluoreszenz von mit optischen Aufhellern behandelten Substraten aus natürlichen oder
synthetischen Polyamiden mit sulfonierten UV-Absorbern sowie das damit behandelte
Material.
[0002] Verfahren zum Löschen der Fluoreszenz von mit optischen Aufhellern behandelten Substraten
sind bereits bekannt. So ist z.B. aus der GB-A-2 174 731 ein Verfahren zur Löschung
oder Verhinderung von Aufhelleffekten auf verschiedenen Substraten mit UV-Absorbern
bekannt, bei welchem als UV-Absorber Derivate der Benzophenonreihe oder der nicht
sulfonierten Benzotriazolreihe verwendet werden.
[0003] Es wurde nun gefunden, dass sulfonierte 2-Hydroxyphenyl-benzotriazole und 2-Hydroxyphenyl-s-triazine
sich sehr gut eignen, um Fluoreszenzeffekte optisch aufgehellter Substrate zu löschen
oder zu unterdrücken.
[0004] Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist somit ein Verfahren zum Löschen oder Unterdrücken
der Fluoreszenz von mit optischen Aufhellern behandelten Substraten aus natürlichen
oder synthetischen Polyamiden mit UV-Absorbern, das dadurch gekennzeichnet ist, dass
man auf diese Substrate einen sulfonierten UV-Absorber der Formel

worin
- R₁
- Wasserstoff, Halogen, C₁-C₁₂-Alkyl, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo,
- R₂
- Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Halogen, Hydroxy oder Sulfo,
- R₃
- Wasserstoff, C₁-C₁₂-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Phenyl, (C₁-C₈-Alkyl)-phenyl, C₅-C₆-Cycloalkyl,
C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Halogen, Carboxy-C₁-C₄-alkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo und
- X
- einen Rest der Formel

bedeuten, worin
- R₄
- für Wasserstoff, Halogen, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Carboxy
oder Sulfo,
- R₅
- für Wasserstoff oder Halogen und
- R₆ und R₇
- unabhängig voneinander für C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₅-C₆-Cycloalkyl, Phenyl oder
durch C₁-C₄-Alkyl und Hydroxy substituiertes Phenyl
stehen,
aufbringt und fixiert.
[0005] Als UV-Absorber der Formel (1) kommen bevorzugt in Betracht
A) 2-Phenylbenzotriazole der Formel

worin
- R₁
- Wasserstoff, C₁-C₁₂-Alkyl, Chlor, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo,
- R₂
- Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Chlor, Hydroxy oder Sulfo
- R₃
- C₁-C₁₂-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Phenyl, (C₁-C₈-Alkyl)-phenyl, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl,
Chlor, Carboxyethyl oder C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo,
- R₄
- Wasserstoff, Chlor, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Carboxy oder
Sulfo und
- R₅
- Wasserstoff oder Chlor
bedeuten, wobei Carboxy- oder Sulfongruppen auch als Salze, z.B. Alkalimetall- Erdalkalimetall-,
Ammonium- oder Aminsalze vorliegen können. Beispiele von Verbindungen der Formel (2)
sind das Natriumsalz der 3-(2′H-benzotriazol-2′-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxy-, 3-(2′H-5′-chlorbenzotriazol-2′-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxy-
und 3-(2′H-benzotriazol-2′-yl)-5-sec.-butyl-4-hydroxy-benzolsulfonsäure, und
B) 2-Phenyl-s-triazine der Formel

worin
- R₁
- Wasserstoff, Halogen, C₁-C₄-Alkyl oder Sulfo,
- R₂
- Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy oder Hydroxy,
- R₃
- Wasserstoff, oder Sulfo und
- R₆ und R₇
- unabhängig voneinander C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₅-C₆-Cycloalkyl, Phenyl oder durch
C₁-C₄-Alkyl und Hydroxy substituiertes Phenyl bedeuten, wobei die Sulfongruppen in
freier Form oder in Salzform, z.B. als Alkalimetall-, Erdalkalimetall-, Ammonium-
oder Aminsalz vorliegen können. Beispiele von Verbindungen der Formel (3) sind das
Natriumsalz der 3-(4′,6′-diphenyl-s-triazin-2′-yl)-4-hydroxy-6-methoxy-, 3-(4′,6′-diphenyl-s-triazin-2′-yl)-4-hydroxy-6-ethoxy-
und 3-(4′,6′-diphenyl-s-triazin-2′-yl)-4-hydroxy-6-propoxy-benzolsulfonsäure.
[0006] Die oben angegebenen Verbindungen der Formeln (1) bis (3) sind z.B. aus dem WO-A-84/02365
und WO-A-86/03528 bekannt und können nach bekannten Verfahren hergestellt werden.
[0007] Es können auch Mischungen von UV-Absorbern eingesetzt werden.
[0008] Der UV-Absorber wird vorteilhaft aus einem wässrigen Medium auf das Substrat aufgebracht.
[0009] Erfindungsgemäss kann der UV-Absorber nach allen bekannten Methoden des Färbens oder
Bedruckens, wie Behandlung im langen Bad bei Temperaturen von 20 bis 140°C, Imprägnieren
und Verweilen bei Raum- oder erhöhter Temperatur, beispielsweise zwischen 20 und 90°C
während 30 Minuten bis 48 Stunden je nach Temperatur, Foulardieren und Fixieren durch
Einwirkung von Sattdampf, überhitztem Dampf, Heissluft, Behandlung mit Hochfrequenz-
oder Kontakthitze, auf dem Substrat aufgebracht und fixiert werden. Auch kann der
UV-Absorber im sogenannten Thermodruck eingesetzt werden. Weiterhin kann der UV-Absorber
durch Vermittlung von organischen Hochpolymeren, beispielsweise in Form von wässrigen
oder nicht wässrigen Anstrichfarben oder nach der Methode des Pigmentdruckes auf dem
Substrat fixiert werden.
[0010] Die Wahl der Applikations- und Fixiermethode und die Menge des UV-Absorbers richten
sich nach dem Substrat, den verwendeten Farbstoffen, den optischen Aufhellern und
deren Echtheiten und den Eigenschaften der verwendeten UV-Absorber. Im allgemeinen
werden gute Löscheffekte erhalten wenn der UV-Absorber in einer Menge von 0,1 bis
5 % von Warengewicht eingesetzt wird.
[0011] Wie schon erwähnt, wird der UV-Absorber erfindungsgemäss nach dem optischen Aufhellen,
bzw. vor, während oder nach dem Färben oder Bedrucken eines mit einem optischen Aufheller
behandelten Substrates eingesetzt. Dies ist z.B. der Fall bei Bekleidungsstücken,
die nach dem Gebrauch gewaschen werden. Handelsübliche Waschmittel oder Seifen für
den Haushalt enthalten heute meistens optische Aufheller, um die damit gewaschene
Wäsche weisser erscheinen zu lassen. Werden nun mit einem solchen Waschmittel hellfarbig
gefärbte bzw. bedruckte Textilien gewaschen, so ergibt sich nach dem Trocknen ein
anderer Farbton als vorher. Dies wird besonders bei hellen Farbtönen wie bleu, rosé,
beige usw. beanstandet.
[0012] Je nach angewandten Verfahren werden die optischen Aufhellungseffekte örtlich oder
auf der ganzen Fläche gelöscht oder unterdrückt. Diese optischen Aufhellungseffekte
sind durch handelsübliche optische Aufheller erzeugt, beispielsweise bekannte anionische
oder kationische optische Aufheller sowie Disperisonsaufheller wie sie in Waschmitteln,
eingesetzt werden. Als Beispiele von solchen Aufhellern seien Derivate der Bis-(triazinylamino)-stilbendisulfonsäure,
Triazolyl-Derivate von Stilbensulfonsäuren, Bis(stilben)-Verbindungen, Pyrazolin-,
Cumarin-, Bis(benzimidazolyl)-, Bis(oxazolyl)-, Naphthalimid-, Cyanin-, Benzoxazolyl-
und Oxacyanin-Derivate genannt.
[0013] Unter Substraten werden aus natürlichen oder synthetischen Polyamiden bestehende
textile Materialien und unter letzteren z.B. Garne, Gewebe, Gewirke oder Vliesse verstanden.
Die textilen Materialien können auch aus Mischungen von Polyamiden mit anderen Fasern
bestehen.
1. Verfahren zum Löschen oder Unterdrücken der Fluoreszenz von mit optischen Aufhellern
behandelten Substraten aus natürlichen oder synthetischen Polyamiden mit UV-Absorbern,
dadurch gekennzeichnet, dass man auf diese Substrate einen sulfonierten UV-Absorber
der Formel

worin
R₁ Wasserstoff, Halogen, C₁-C₁₂-Alkyl, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder
Sulfo,
R₂ Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Halogen, Hydroxy oder Sulfo,
R₃ Wasserstoff, C₁-C₁₂-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Phenyl, (C₁-C₈-Alkyl)-phenyl, C₅-C₆-Cycloalkyl,
C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Halogen, Carboxy-C₁-C₄-alkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo und
X einen Rest der Formel

bedeuten, worin
R₄ für Wasserstoff, Halogen, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Carboxy
oder Sulfo,
R₅ für Wasserstoff oder Halogen und
R₆ und R₇ unabhängig voneinander für C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₅₋C₆-Cycloalkyl,
Phenyl oder durch C₁-C₄-Alkyl und Hydroxy substituiertes Phenyl
stehen,
aufbringt und fixiert.
2. Verfahren gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass man als UV-Absorber ein
2-Phenylbenzoltriazol oder ein Salz davon der Formel

aufbringt, worin
R₁ Wasserstoff, C₁-C₁₂-Alkyl, Chlor, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo,
R₂ Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Chlor, Hydroxy oder Sulfo,
R₃ C₁-C₁₂-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, Phenyl, (C₁-C₈-Alkyl)-phenyl, C₅-C₆-Cycloalkyl, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl,
Chlor, Carboxyethyl oder C₇-C₉-Phenylalkyl oder Sulfo,
R₄ Wasserstoff, Chlor, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₂-C₉-Alkoxycarbonyl, Carboxy
oder Sulfo und
R₅ Wasserstoff oder Chlor
bedeuten.
3. Verfahren gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass man das Natriumsalz der
3-(2′H-benzotriazol-2′-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxy-, 3-(2′H-5′-chlor-benzotriazol-2′-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxy-
oder 3-(2′H-benzotriazol-2′-yl)-5-sec.-butyl-4-hydroxy-benzolsulfonsäure aufbringt.
4. Verfahren gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass man als UV-Absorber ein
2-Phenyl-s-triazin oder ein Salz davon der Formel

aufbringt, worin
R₁ Wasserstoff, Halogen, C₁-C₄-Alkyl oder Sulfo,
R₂ Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy oder Hydroxy,
R₃ Wasserstoff, oder Sulfo und
R₆ und R₇ unabhängig voneinander C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, C₅-C₆-Cycloalkyl, Phenyl
oder durch C₁-C₄-Alkyl und Hydroxy substituiertes Phenyl bedeuten.
5. Verfahren gemäss Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass man das Natriumsalz der
3-(4′,6′-diphenyl-s-triazin-2′-yl)-4-hydroxy-6-methoxy-, 6-ethoxy-oder -6-propoxy-benzolsulfonsäure
aufbringt.
6. Verfahren gemäss Anspruch 1, daduch gekennzeichnet, dass der UV-Absorber vor, während
oder nach dem Färben oder Bedrucken des Substrates aufgebracht wird.
7. Das nach dem Verfahren gemäss Anspruch 1 behandelte Material.
1. A process for quenching or suppressing the fluorescence of natural or synthetic polyamide
substrates treated with fluorescent whitening agents by means of UV absorbers, which
process comprises applying to said substrates a sulfonated UV absorber of formula

in which
R₁ is hydrogen, halogen, C₁-C₁₂alkyl, C₅-C₆cycloalkyl, C₇-C₉phenylalkyl or sulfo,
R₂ is hydrogen, C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, halogen, hydroxyl or sulfo,
R₃ is hydrogen, C₁-C₁₂alkyl, C₁-C₄alkoxy, phenyl, (C₁-C₈alkyl)phenyl, C₅-C₆cycloalkyl,
C₂-C₉alkoxycarbonyl, halogen, carboxy-C₁-C₄alkyl, C₇-C₉phenylalkyl or sulfo, and
X is a radical of formula

in which
R₄ is hydrogen, halogen, C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, C₂-C₉alkoxycarbonyl, carboxyl
or sulfo,
R₅ is hydrogen or halogen and
R₆ and R₇ are each independently of the other C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, C₅-C₆cycloalkyl,
phenyl or phenyl which is substituted by C₁-C₄alkyl and hydroxyl,
and fixing said UV absorber thereon.
2. A process according to claim 1, which comprises applying a 2-phenylbenzenetriazole,
or a salt thereof, of formula

as UV absorber, in which
R₁ is hydrogen, C₁-C₁₂alkyl, chlorine, C₅-C₆cycloalkyl, C₇-C₉phenylalkyl or sulfo,
R₂ is hydrogen, C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, chlorine, hydroxyl or sulfo,
R₃ is C₁-C₁₂alkyl, C₁-C₄alkoxy, phenyl, (C₁-C₈alkyl)phenyl, C₅-C₆cycloalkyl, C₂-C₉alkoxycarbonyl,
chlorine, carboxyethyl or C₇-C₉phenylalkyl or sulfo,
R₄ is hydrogen, chlorine, C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, C₂-C₉alkoxycarbonyl, carboxyl
or sulfo, and
R₅ is hydrogen or chlorine.
3. A process according to claim 2, which comprises applying the sodium salt of 3-(2'H-benzotriazol-2'-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxybenzenesulfonic
acid, 3-(2'H-5'-chlorobenzotriazol-2'-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxybenzenesulfonic acid
or 3-(2'H-benzotriazol-2'-yl)-5-sec-butyl-4-hydroxybenzenesulfonic acid.
4. A process according to claim 1, which comprises applying a 2-phenyl-s-triazine, or
a salt thereof, of formula

as UV absorber, in which
R₁ is hydrogen, halogen, C₁-C₄alkyl or sulfo,
R₂ is hydrogen, C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy or hydroxyl,
R₃ is hydrogen or sulfo, and
R₆ and R₇ are each independently of the other C₁-C₄alkyl, C₁-C₄alkoxy, C₅-C₆cycloalkyl,
phenyl or phenyl which is substituted by C₁-C₄alkyl or hydroxyl.
5. A process according to claim 4, which comprises applying the sodium salt of 3-(4',6'-diphenyl-s-triazin-2'-yl)-4-hydroxy-6-methoxybenzenesulfonic
acid, 3-(4',6'-diphenyl-s-triazin-2'-yl)-4-hydroxy-6-ethoxybenzenesulfonic acid or
3-(4',6'-diphenyl-s-triazin-2'-yl)-4-hydroxy-6-propoxybenzenesulfonic acid.
6. A process according to claim 1, wherein the UV absorber is applied to the substrate
before, during or after dyeing or printing said substrate.
7. The material treated by the process according to claim 1.
1. Procédé pour éteindre ou affaiblir, au moyen de composés absorbant les rayons UV,
la fluorescence de substrats en polyamide naturel ou synthétique, traités par des
agents d'azurage optique, caractérisé en ce que l'on applique et fixe, sur ces substrats,
un composé sulfoné absorbant les rayons UV, répondant à la formule :

dans laquelle :
R₁ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C₁ à C₁₂,
cycloalkyle en C₅ à C₆, phénylalkyle en C₇ à C₉ ou sulfo,
R₂ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C₁ à C₄,
alcoxy en C₁ à C₄, hydroxy ou sulfo,
R₃ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C₁ à C₁₂,
alcoxy en C₁ à C₄, phényle, alkyl(C₁ à C₈)phényle, cycloalkyle en C₅ à C₆, alcoxycarbonyle
en C₂ à C₉, carboxyalkyle(C₁ à C₄), phénylalkyle en C₇ à C₉ ou sulfo, et
X représente un reste de formule :

formules dans lesquelles :
R₄ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C₁ à C₄,
alcoxy en C₁ à C₄, alcoxycarbonyle en C₂ à C₉, carboxy ou sulfo,
R₅ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, et
R₆ et R₇ représentent chacun, indépendamment l'un de l'autre, un groupe alkyle en
C₁ à C₄, alcoxy en C₁ à C₄, cycloalkyle en C₅ à C₆, phényle ou phényle substitué par
un groupe alkyle en C₁ à C₄ et un groupe hydroxy.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on applique, en tant que
composé absorbant les rayons UV, un 2-phénylbenzotriazole répondant à la formule :

dans laquelle
R₁ représente un atome d'hydrogène ou de chlore, ou un groupe alkyle en C₁ à C₁₂,
cycloalkyle en C₅ à C₆, phénylalkyle en C₇ à C₉ ou sulfo,
R₂ représente un atome d'hydrogène ou de chlore, ou un groupe alkyle en C₁ à C₄,
alcoxy en C₁ à C₄, hydroxy ou sulfo,
R₃ représente un atome de chlore ou un groupe alkyle en C₁ à C₁₂, alcoxy en C₁ à
C₄, phényle, alkyl(C₁ à C₈)phényle, cycloalkyle en C₅ à C₆, alcoxycarbonyle en C₂
à C₉, carboxyéthyle, phénylalkyle en C₇ à C₉ ou sulfo,
R₄ représente un atome d'hydrogène ou de chlore, ou un groupe alkyle en C₁ à C₄,
alcoxy en C₁ à C₄, alcoxycarbonyle en C₂ à C₉, carboxy ou sulfo, et
R₅ représente un atome d'hydrogène ou de chlore,
ou un sel d'un tel 2-phénylbenzotriazole.
3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'on applique le sel de sodium
de l'acide 3-(2'H-benzotriazol-2'-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxybenzènesulfonique, de
l'acide 3-(2'H-5'-chlorobenzotriazol-2'-yl)-5-tert.-butyl-4-hydroxybenzènesulfonique
ou de l'acide 3-(2'H-benzotriazol-2'-yl)-5-sec.-butyl-4-hydroxybenzènesulfonique.
4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on applique, en tant que
composé absorbant les rayons UV, une 2-phényl-s-triazine répondant à la formule :

dans laquelle :
R₁ représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupe alkyle en C₁ à C₄
ou sulfo,
R₂ représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C₁ à C₄, alcoxy en C₁
à C₄ ou hydroxy,
R₃ représente un atome d'hydrogène ou un groupe sulfo, et
R₆ et R₇ représentent chacun, indépendamment l'un de l'autre, un groupe alkyle en
C₁ à C₄, alcoxy en C₁ à C₄, cycloalkyle en C₅ à C₆, phényle ou phényle substitué par
un groupe alkyle en C₁ à C₄ et un groupe hydroxy,
ou un sel d'une telle 2-phényl-s-triazine.
5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que l'on applique le sel de sodium
de l'acide 3-(4',6'-diphényl-s-triazin-2'-yl)-4-hydroxy-6-méthoxy-, -6-éthoxy- ou
-6-propoxybenzènesulfonique.
6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on applique le composé absorbant
les rayons UV avant, pendant ou après la teinture ou l'impression du substrat.
7. Le produit traité par le procédé selon la revendication 1.