[0001] Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes
Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten,
von Wänden begrenzten Entladungsraum und mit Elektrodenpaaren, die paarweise an die
beiden Pole einer Hochspannungsquelle angeschlossen sind, wobei zwischen zwei auf
unterschiedlichem Potential liegenden Elektroden mindestens ein dielektrisches Material
liegt, das an den Entladungsraum angrenzt.
[0002] Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er sich etwa aus
der EP-Anmeldung 87109674.9 (Veröffentlichungsnummer 257111) ergibt.
[0003] Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark von der der Verfügbarkeit
geeigneter UV-Quellen ab. Die klassischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere
UV-Intensitäten bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z.B. die Quecksilber-Niederdrucklampen
bei 185 nm und insbesondere bei 254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur
aus Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über einen grösseren Wellenlängenbereich
verteilen. Die neuen Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für photochemische
Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind. z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen
Prozess wohl nur in Ausnahmefällen geeignet.
[0004] In der eingangs genannten EP-Patentanmeldung oder auch in dem Konferenzdruck "Neue
UV- und VUV-Excimerstrahler von U.Kogelschatz und B.Eliasson, verteilt an der 10.Vortragstagung
der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photochemie, in Würzburg (BRD) 18.-
20.November 1987, wird ein neuer Excimerstrahler beschrieben. Dieser neue Strahlertyp
basiert auf der Grundlage, dass man Excimerstrahlung auch in stillen elektrischen
Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp, der in der Ozonerzeugung grosstechnisch
eingesetzt wird. In den nur kurzzeitig « 1 Mikrosekunde) vorhandenen Stromfilamenten
dieser Entladung werden durch Elektronenstoss Edelgasatome angeregt, die zu angeregten
Molekülkomplexen (Excimeren) weitereagieren. Diese Excimere leben nur einige 100 Nanosekunden
und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung ab.
[0005] Der Aufbau eines derartigen Excimerstrahlers entspricht bis hin zur Stromversorgung
weitgehend dem eines klassischen Ozonerzeugers, mit dem wesentlichen Unterschied,
dass mindestens eine der den Entladungraum begrenzenden Elektroden und/oder Dielektrikumsschichten
für die erzeugte Strahlung durchlässig ist.
[0006] Ausgehend vom Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler,
insbesondere für UV- oder VUV-Licht, zu schaffen, der sich insbesondere durch höhere
Effizienz auszeichnet, wirtschaftlich zu fertigen ist und auch den Aufbau sehr grosser
Flächenstrahler ermöglicht.
[0007] Zur Lösung dieser Aufgabe bei einem Hochleistungsstrahler der eingangs genannten
Gattung ist erfindungsgemäss vorgesehen, dass die genannten Elektrodenpaare, räumlich
getrennt von besagten Wänden und voneinander getrennt durch dielektrisches Material,
nebeneinander angeordnet sind, derart, dass sich die stille elektrische Entladung
im Entladungsraum im wesentlichen zur im Bereich der Dielektrikumsoberfläche ausbildet.
[0008] Bei Anliegen der Spannung bildet sich eine Vielzahl von Gleitentladungen von einer
Elektrode durch das Dielektrikum im wesentlichen längs der Oberfläche des Dielektrikums
und wieder in das Dielektrikum hinein zur benachbarten Elektrode. Diese Entladungen
strahlen das verwendbare UV-Licht ab, das dann z.B. durch die den Entladungsraum begrenzende
Wand dringt. Im Gegensatz zu den bekannten Konfigurationen wird hier die gesamte Ausdehnung
der Entladungskanäle zur Strahlungserzeugung ausgenutzt.
[0009] Die Herstellung des erfindungsgemässen Hochleistungsstrahlers ist vereinfacht und
kostengünstiger als bei den bekannten Strahlern. Man kann Materialien verwenden, die
man leicht giessen kann, sodass die Elektroden eingegossen werden können. Dadurch
werden Probleme beim Einhalten von Toleranzen (Z.B. Dicke des Dielektrikums oder der
Abstände) verkleinert. Auch für das begrenzende Glas/Quarz-Material sind keine sehr
hohen Ansprüche zu stellen, da die begrenzenden Wände lediglich transparent sein müssen
und nicht durch die Entladung beansprucht werden. Dies führt zu einer höheren Lebensdauer
des Strahlers. Auch ist die Spaltweite und deren Toleranzen weit weniger kritisch.Insbesondere
lassen sich nunmehr wegen der geringeren Anforderungen bezüglich Toleranzen sehr grosse
Flächenstrahler realisieren, die sehr dünn ausgeführt werden können.
[0010] Weil praktisch die gesamte Länge des Entladungsraum zu Emission beiträgt, ist die
UV-Ausbeute sehr hoch. Transmissionsverluste eines Elektrodengitters oder einer teildurchlässigen
Schicht liegen nicht vor.
[0011] Der erfindungsgemässe Hochleistungsstrahler erlaubt Strahler-Geometrien nahezu beliebiger
Gestalt. Neben Flächenstrahlern, die nach einer oder nach beiden Flachseiten strahlen,
können zylindrische oder elliptische Strahler geschaffen werden. Auch müssen die Strahler
nicht notwendig eben oder langestreckt sein, sondern können in einer oder mehreren
Dimensionen gekrümmt oder gebogen sein.
[0012] Selbstverständlich erlaubt es die Erfindung in Analogie zur CH-A-675 504, die den
Entladungsraum begrenzenden Wände entweder auf der dem Entladungsraum zugewandten
oder der äusseren Wand mit einer Lumineszenz-Schicht zu versehen zur Umwandlung des
UV-Lichts in sichtbares Licht. Bei der ersten Alternative muss dann die Wand nicht
mehr UV-durchlässig sein, weil sie nur noch sichtbares Licht durchlassen muss.
[0013] Bei der erfindungsgemässen Anordnung können Dielektrika verwendet werden, die nicht
notwendigerweise transparent für das UV-Licht sind, was für besondere Anwendungen
besonders hohe Wirkungsgrade erwarten lässt. So kann insbesondere das UV-Licht für
manche Anwendungen direkt verwendet werden, ohne dass es den Entladungsraum verlassen
muss. Dies gilt insbesondere für solche Anwendungen, die sich im Entladungsraum durchführen
lassen. Zu solchen Anwendungen mit wachsender wirtschaftlicher Bedeutung zählen z.B.
der Einsatz als starker UV-Strahler für Vorionisierungszwecke anderer Entladungen,
z.B. Laser, Behandlung von Oberflächen mit UV-Belichtung, chemische Prozesse wie Präparation
neuer Chemikalien oder Oberflächen und Beschichtungsverfahren wie Plasma-CVD (Chemical
Vapor Deposition), Photo-CVD, bei denen ein zu behandelndes Substrat bei geeignetem
Füllgas möglichst dicht an UV-Lichtquelle gebracht wird. Die besonderen Vorteile einer
solchen "Innen"-Anordnung liegen u.a. in der Vermeidung von Absorptionsverlusten durch
Fenster und in der Ausnutzung zusätzlicher Effekte durch die Entladung selbst.
[0014] In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt;
darin zeigt
Fig. 1 Ein erstes Ausführungsbeispiel eines Flächenstrahlers mit beidseitiger Abstrahlung
im Querschnitt;
Fig. 2 der Flächenstrahler nach Fig.1 im Längsschnitt mit einer schematischen Darstellung
der elektrischen Anspeisung;
Fig. 3 eine eines erste Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit einseitiger
Abstrahlung und Elektroden, die auf ein Substrat aufgebracht und mit einer dielektrischen
Schicht überzogen sind;
Fig. 4 eine zweite Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit inhomogenem
Dielektrikum;
Fig. 5 eine dritte Abwandlung des Flächenstrahlers nach Fig.1 und 2 mit von dielektrischen
Material ummantelten Einzelelektroden;
Fig. 6 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in Form eines Zylinderstrahlers im Querschnitt;
[0015] Der Flächenstrahler nach Fig.1 und 2 besteht aus zwei beabstandeten UV-durchlässigen
Platten 1, 2 aus Quarzglas, zwischen denen eine weitere Platte 3 aus dielektrischen
Material, z.B. Glas oder Keramik oder ein Kunststoff-Dielektrikum angeordnet ist.
Ueber die Fläche verteilte Abstandshalter 4, 5 sichern die Distanzierung der Platten
1, 2 und 3 und dienen gleichzeitig deren Zusammenhalt. In die Platte 3 sind in regelmässigen
Abständen und voneinander beabstandet Metallelektroden 6',6" eingebettet. Wie in Fig.2
zu erkennen ist, sind die Elektroden 6'6", abwechselnd mit dem einen und dem anderen
Pol einer Wechselstromquelle 7 verbunden.Die Wechselstromquelle 7 entspricht grundsätzlich
jenen, wie sie zur Anspeisung von Ozonerzeugern verwendet werden. Typisch liefert
sie eine einstellbare Wechselspannung in der Grössenordnung von mehreren 100 Volt
bis 20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechselstroms bis hin zu
einigen kHz - abhängig von der Elektrodengeometrie, Druck im Entladungsraum und Zusammensetzung
des Füllgases.
[0016] Die Entladungsräume 8 und 9 zwischen den Platten 1 und 3 bzw. 3 und 2 sind mit einem
unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendenden Füllgas gefüllt, z.B. Quecksilber,
Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gegebenenfalls unter
Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise Ar, He, Ne, als Puffergas.
[0017] Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung kann dabei eine Substanz/Substanzgemisch
gemäss nachfolgender Tabelle Vernwendung finden:

[0018] Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
- Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F2, J2, Br2, CI2 oder eine Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, J, Br oder CI
abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit 02 oder einer Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere O-Atome abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
[0019] In der sich bildenden elektrischen Gleitentladung (surface discharge) kann die Elektronenenergieverteilung
durch Dicke der dielektrischen Platte 3 und deren Eigenschaften, Abstand zwischen
den Elektroden 6',6", Druck und/oder Temperatur optimal eingestellt werden.
[0020] Bei Anliegen einer Spannung zwischen je zwei benachbarten Elektroden 6',6" bildet
sich eine Vielzahl von Entladungskanälen 10 von einer Elektrode 6' durch das Dielektrikum
3 längs der Oberfläche des Dielektrikums 3 und wieder in das Dielektrikum 3 hinein
zur benachbarten Elektrode 6". Diese längs der Oberfläche verlaufenden Gleitentladungen
10 strahlen das UV-Licht ab, das dann durch die im Beispielsfall transparenten Platten
1, 2 dringt. Verwendet man in den Räumen 8 und 9 unterschiedliche Füllgase, so lassen
sich bei entsprechender Wahl der Elektrodenanordnung und -verteilung mit einunddemselben
Strahler zwei unterschiedliche Strahlungen erzeugen. Durch Aufbringen einer Beschichtung
11, 12 auf die beiden Oberflächen des Dielektrikums 3 lassen sich niedrigere Zündspannungen
für die Entladung erzielen, so dass die Kosten für die Speisung reduziert werden können.
Als Beschichtungsmaterial kommen in erster Linie die Oxide von Magnesium, Ytterbium,
Lanthan und Cer (MgO, Yb
20
3, La
20
3, Ce0
2) in Frage.
[0021] Das UV-Licht kann für manchen Anwendungen auch direkt verwendet werden, ohne dass
es durch die Abdeckplatten 1, 2 dringen muss. Dies gilt für solche Anwendungen, die
sich in den Entladungsräumen 8, 9 selbst durchführen lassen. Zu solchen Applikationen
mit wachsender wirtschaftlicher Bedeutung zählen z.B. die Behandlung von Oberflächen
mit UV-Belichtung, chemische Prozesse wie Präparation neuer Chemikalien oder Oberflächen-Beschichtung
wie Plasma-CVD, Photo-CVD, also Verfahren, bei denen ein zu behandelndes Substrat
bei geeignetem Füllgas möglichst dicht an die Dielektrikumsoberfläche, also dort wo
die Strahlung entsteht, herangebracht wird.
[0022] Die besonderen Vorteile einer solchen "Innen"-Anordnung liegen u.a. in der Vermeidung
von Absorptionsverlusten (durch die Platten 1,2) und in der Ausnutzung zusätzlicher
Effekte durch die Entladung selbst, wobei die elektrischen Eigenschaften des zu behandelnden
Substrats relativ unerheblich sind.
[0023] Die Herstellung des Dielektrikums 3 samt der in ihm eingebetteten Elektroden 6',
6" ist gegenüber den bekannten Hochleistungsstrahlern vereinfacht und damit kostengünstiger.
Man kann Materialien verwenden, die man relativ einfach giessen kann, so dass die
Elektroden 6', 6" gleich miteingegossen werden können. Dadurch werden Probleme beim
Einhalten von Toleranzen, z.B. die Dicke des Dielektrikums 3 oder der Abstände zwischen
den Platten 1 und 3 bzw. 3 und 2 verkleinert. Auch für das Material der UV-durchlässigen
Platten - sofern sie überhaupt UV-durchlässig sein müssen - sind keine sehr hohen
Ansprüche zu stellen, da sie nicht durch die Entladung beansprucht sind. Dies führt
wiederum zu einer Erhöhung der Gesamtlebensdauer des Strahlers.
[0024] Für eine kostengünstige Herstellung der in das Dielektrikum 3 eingebetteten Elektroden
6, 6" kann auch auf Techniken zurückgegriffen werden, die bei der Herstellung von
Plasmadisplay-Zellen Anwendung finden (vgl. "AC Plasma Display" von T.N.Criscimagna
& P.Pleshko in "Display Devices", J.I.Pamkove (Ed.), Springer-Verlag Berlin, Heidelberg,
New York 1980, S. 92 - 150).
[0025] Anstelle von metallischen Drähten 6', 6" nach Fig.1 sind die Elektroden gemäss Fig.3
als diskrete Leiterbahnen 6a, 6b mittels Dünnfilm- oder Dickfilm-Techniken auf ein
Substrat 13 aus Glas, Quarz oder Keramik aufgebracht. Dabei werden einerseits Bedampfungs-
und Sputter-Prozesse zur Metallisierung verwendet, andererseits leitfähige Pasten.Feine
Leiterbahnen können durch photo-lithographische Verfahren, breitere (> 25 um) können
durch Metallabscheidung durch eine Maske hindurch erzeugt werden. Die so aufgebrachten
Leiterbahnen (Elektroden) werden danach durch eine dielektrische Schicht 14 abgedeckt.
So kann man z.B. Schichten aus Bleioxydglas als Spray oder Paste auftragen und anschliessend
erhitzen, wobei sich eine durchgehende Glasschicht bildet. Schichten aus Borsilikatglas
kann man durch Verdampfungstechniken herstellen. Es ist auch möglich, dass man andere
dielektrische Schichten abscheidet mit Methoden, die in der Halbleitertechnik üblich
sind, z.B. mittels Plasma-CVD oder Photo-CVD.
[0026] Ohne den durch die Erfindung gesteckten Rahmen zu verlassen, sind eine Fülle von
Modifikationen des vorstehend beschriebenen UV-Hochleistungsstrahlers möglich, auf
die nachstehend eingegangen werden soll.
[0027] So können statt zweier Entladungsräume 8,9 auch nur ein Entladungsraum vorgesehen
sein. Dazu ist durch eine entsprechende Isolation, z.B.Schwefelhexafluorid oder Wasser,
in dem einen Raum oder eine andere Geometrie des Dielektrikums und/oder der Elektroden,
z.B. eine solche nach Fig.3, sicherzustellen, dass sich die Gleitentladungen nur in
dem anderen Raum ausbilden.
[0028] Statt runder Elektroden 6',6" nach Fig.1 können auch Elektroden mit nahezu beliebigem
Querschnitt verwendet werden. Auch müssen die Elektroden nicht geradlinig verlaufen,
sondern können auch z.B. mäanderförmig oder im Zickzack nebeneinander angeordnet sein.
[0029] Zur Verbesserung der Wärmeabfuhr aus dem Dielektrikum ist es möglich, die Elektroden
6',6" als Hohlelektroden auszuführen, oder im Dielektrikum 3 in Fig.1 oder im Substrat
13 in Fig.3 zusätzlich in Elektrodenlängsrichtung verlaufende Kanäle (Pos. 15 in Fig.3)
vorzusehen, durch welche Kanäle ein flüssiges oder gasförmiges Kühlmittel geleitet
wird.
[0030] Neben einzelnen in ein flächiges Dielektrikum 3 bzw. 14 eingebetteten Elektroden
ist es darüber hinaus möglich, gemäss Fig.4 und 5 einzelne Drähte 16',16" mit je einer
dielektrischen Umhüllung 17 zu verwenden, die entweder dicht an dicht (Fig.5), locker
nebeneinander oder durch Zwischenlagen 18 oder Abstandsstücke voneinander distanziert,
zwischen den beiden Platten 1 und 2 angeordnet sind.
[0031] Anstelle von Flächenstrahlern nach den Figuren 1 bis 5 sind auch Zylinderstrahler
möglich, wie es in Fig.6 veranschaulicht ist. Dort ist zwischen zwei Quarzrohren 19,
20 ein Rohr 21 aus dielektrischen Material koaxial angeordnet. Nicht dargestellte
Abstandhalter sichern die gegenseitige Lage der drei Rohre. Analog Fig.1 sind in das
dielektrische Rohr 21 Metallelektroden 22', 22" eingebettet, die analog Fig.2 abwechselnd
mit dem einen und dem anderen Pol einer (nicht dargestellten) Wechselstromquelle verbunden
sind.
[0032] Der Zylinderstrahler nach Fig.6 strahlt im Beispielsfall sowohl nach innen (in den
Innenraum des Rohres 20) als auch nach aussen ab. Verwendet man in den Räumen 8 und
9 unterschiedliche Füllgase, so lassen sich bei entsprechender Wahl der Elektrodenanordnung
und -verteilung mit einunddemselben Strahler zwei unterschiedliche Strahlungen erzeugen.
Dies gilt selbstverständlich auch für einen Strahler nach Fig.4.
[0033] Wie bereits im Zusammenhang mit Fig.1 beschrieben, können auch bei Zylinderstrahlern
nach Fig.6 die gewünschten Reaktionen in dem bzw. den Entladungsräumen 8 bzw. 9 selbst
stattfinden.
[0034] Die vorstehende Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung konzentrierte
sich auf die Erzeugung von UV- bzw. VUV-Strahlung. Durch Beschichtung der Platten
1, 2 bzw. der Rohre 19, 20 mit einer Lumineszenzschicht 23, 24 (Fig.1) lässt sich
in Anlehung an die bei den Lumineszenzröhren für Beleuchtungszwecke bekannte Technik
auch sichtbares Licht hoher Leistung erzeugen. Derartige Schichten sind bekannt und
können auch auf die den Entladungsraum 8 bzw. 9 angrenzenden inneren Oberflächen der
Platten 1, 2 bzw. der Rohre 19, 20 aufgebracht werden. Im letztren Fall brauchen diese
Platten bzw. Rohre nicht mehr UV-durchlässig sondern nur für das sichtbare Licht transparent
sein.
1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter
Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten, von Wänden (1,2) begrenzten
Entladungsraum (8,9) und mit Elektrodenpaaren, die paarweise an die beiden Pole einer
Hochspannungsquelle (7) angeschlossen sind, wobei zwischen zwei auf unterschiedlichem
Potential liegenden Elektroden mindestens ein dielektrisches Material liegt, das an
den Entladungsraum angrenzt,dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Elektrodenpaare
(6',6";6a,6b;16',16";22',22") räumlich getrennt von besagten Wänden (1,2) und voneinander
getrennt durch dielektrisches Material (3;14;21) nebeneinander angeordnet sind, derart,
dass sich die elektrische Entladung im Entladungsraum (8,9) im wesentlichen nur im
Bereich der Dielektrikumsoberfläche ausbildet.
2. Hochleistungstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden
(6',6";6a,6b;16',16";22',22") in das dielektrische Material (3;14;21) eingebettet
sind und benachbarte Elektroden (6',6";6a,6b;16',16";22',22") jeweils an unterschiedliche
Pole der Hochspannungsquelle (7) angeschlossen sind.
3. Hochleistungstrahler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass alle Elektroden
(6',6";22',22") in einen gemeinsamen Träger aus dielektrischem Material eingebettet
sind.
4. Hochleistungstrahler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden
(16',16") einzeln je von einer dielektrischen Umhüllung (17) umgeben sind.
5. Hochleistungstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden
(6a,6b) auf einem Substrat (13) aus Isoliermaterial angeordnet und mit einer dielektrischen
Schicht (14) abgedeckt sind.
6. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass
in den Elektroden oder in dem Material, in dem diese eingebettet bzw. darauf angeordnet
sind, in Elektrodenlängsrichtung verlaufende Kühlkanäle (15) vorgesehen sind.
7. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
dass auf der dem Entladungsraum (8,9) zugewandten Oberfläche des Dielektrikums eine
zusätzliche Schicht (11,12) zur Herabsetzung der Zündspannung der elektrischen Gleitentladung,
vorzugsweise eine Schicht aus Magnesium-, Ytterbium-, Lanthan- oder Ceroxid, vorgesehen
ist.
8. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
dass zur Erzeugung von Strahlungen mit mehreren unterschiedlichen Wellenlängen in
einem Entladungsraum (8;9) ein Füllgas mit mindestens zwei Edelgasen und mindestens
einem Nicht-Edelgas vorgesehen ist.
9. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
dass in den beiden Entladungsräumen (8,9) Füllgase unterschiedlicher Zusammensetzung
vorgesehen sind.
10. Hochleistungstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
dass die den Entladungsraum (8,9) begrenzenden Platten (1,2) bzw. Rohre (19,20) mit
einer Lumineszenzschicht (24,25) versehen sind.
1. High-power radiator, in particular for ultraviolet light, having a discharge space
(8,9), delimited by walls (1,2) and filled with filler gas emitting radiation under
discharge conditions and having electrode pairs which are connected in pairs to the
two poles of a high-voltage source (7), at least one dielectric material which adjoins
the discharge space lying between two electrodes at different potentials, characterised
in that the aforesaid electrode pairs (6', 6"; 6a, 6b; 16', 16"; 22', 22"), spatially
separated from said walls (1, 2) and separated from each other by dielectric material
(3; 14; 21), are arranged adjacent to one another in such a way that the electrical
discharge in the discharge space (8, 9) forms essentially only in the region of the
surface of the dielectric.
2. High-power radiator according to Claim 1, characterised in that the electrodes
(6', 6"; 6a, 6b; 16', 16"; 22', 22") are embedded in the dielectric material (3; 14;
21) and adjacent electrodes (6', 6"; 6a, 6b; 16', 16"; 22', 22") are in each case
connected to different poles of the high-voltage source (7).
3. High-power radiator according to Claim 2, characterised in that all electrodes
(6', 6"; 22', 22") are embedded in a common carrier made of dielectric material.
4. High-power radiator according to Claim 2, characterised in that the electrodes
(16', 16") are each individually surrounded by a dielectric enclosure (17).
5. High-power radiator according to Claim 1, characterized in that the electrodes
(6a, 6b) are arranged on a substrate (13) made of insulating material and are covered
by a dielectric layer (14).
6. High-power radiator according to one of Claims 1 to 5, characterized in that cooling
channels (15) extending in the longitudinal direction of the electrodes are provided
in the electrodes or in the material in which these are embedded or on which they
are arranged.
7. High-power radiator according to one of Claims 1 to 6, characterized in that there
is provided on the surface of the dielectric facing the discharge space (8, 9) an
additional layer (11, 12) for reducing the firing voltage of the electrical surface
discharge, preferably a layer of an oxide of magnesium, ytterbium, lanthanum or cerium.
8. High-power radiator according to one of Claims 1 to 7, characterised in that, for
generating radiation with several different wavelengths in one discharge space (8;
9), a filler gas with at least two noble gases and at least one non-noble gas is provided.
9. High-power radiator according to one of Claims 1 to 8, characterised in that filler
gases of different composition are provided in the two discharge spaces (8, 9).
10. High-power radiator according to one of Claims 1 to 9, characterised in that the
sheets (1, 2) delimiting the discharge space (8, 9) or tubes (19, 20) are provided
with a luminescent layer (24, 25).
1. Source de rayonnement haute puissance, en particulier pour lumière ultra-violette,
ayant un espace de décharge (8,9) limité par des parois (1,2) et rempli par un gaz
de remplissage émettant des radiations dans les conditions de décharge, et avec des
paires d'électrodes, qui sont reliées en paire aux deux pôles d'une source de haute
tension (7), au moins un matériau diélectrique, qui est contigu à l'espace de décharge,
étant placé entre deux électrodes se trouvant à un potentiel différent, caractérisée
en ce que lesdites paires d'électrodes (6',6";6a,6b;16',16";22'22") séparées spatialement
des dites parois (1,2) et séparées les unes des autres par du matériau diélectrique
(3;14;21), sont arrangées les unes à côté des autres de façon à ce que la décharge
électrique dans l'espace de décharge (8,9) se forme essentiellement uniquement dans
la zone de surface du diélectrique.
2. Source de rayonnement haute puissance selon la revendication 1, caractérisée en
ce que les électrodes (6',6";6a,6b;16";22',22") sont noyées dans le matériau diélectrique
(3;14;21) et les électrodes voisines (6',6"; 6a,6b;16',16";22',22") sont chacune reliées
à des pôles différents de la source de haute tension (7).
3. Source de rayonnement haute puissance selon la revendication 2, caractérisée en
ce que toutes les électrodes (6',6";22',22") sont noyées dans un même support en matériau
diélectrique.
4. Source de rayonnement haute-puissance selon la revendication 2, caractérisée en
ce que les électrodes (16',16") sont entourées chacune par une gaine diélectrique
(17).
5. Source de rayonnement haute-puissance selon la revendication 1, caractérisée en
ce que les électrodes (6a,6b) sont arrangées sur un substrat (13) en matériau isolant
et couvertes d'une couche diélectrique (14).
6. Source de rayonnement haute-puissance selon l'une quelconque des revendications
1 à 5, caractérisée en ce que dans les électrodes ou dans le matériau où celles-ci
sont noyées, respectivement sur lequel elles sont arrangées, sont prévus des canaux
de refroidissement s'étendant dans la direction longitudinale des électrodes.
7. Source de rayonnement haute-puissance selon l'une quelconque des revendications
1 à 6, caractérisée en ce que sur la surface du diélectrique qui fait face à l'espace
de décharge (8,9) est prévue une couche supplémentaire (11,12) en vue de réduire la
tension d'allumage de la décharge électrique superficielle, de préférence une couche
en oxyde de magnésium, d'ytterbium, de lanthane ou de cérium.
8. Source de rayonnement haute-puissance selon l'une quelconque des revendications
1 à 7, caractérisée en ce que pour produire des rayonnements ayant plusieurs longueurs
d'onde différentes dans un espace de décharge (8,9), il est prévu un gaz de remplissage
contenant au moins deux gaz rares et au moins un gaz non rare.
9. Source de rayonnement haute-puissance selon l'une quelconque des revendications
1 à 8, caractérisée en ce que sont prévus dans les deux espaces de décharge (8,9)
des gaz de remplissage de composition différente.
10. Source de rayonnement haute-puissance selon l'une quelconque des revendications
1 à 9, caractérisée en ce que les plaques (1,2), respectivement les tubes (19,20)
limitant les espaces de décharge (8,9) sont pourvus d'une couche luminescente (24,25).