(57) Zur Herstellung der zweiseitig gequetschten Metallhalogenidhochdruckentladungslampe
(19) werden folgende Arbeitsgänge ausgeführt: Vorformen des Entladungsgefäßes (6)
durch Einrollen mit N₂-Staudruckspülung, Einspannen in die Quetschvorrichtung, Einführen
des ersten Eo-Systems (7, 8, 9, 10), wobei die Stromzuführung (9) zickzackförmig
geknickt und an der Innenwand des Quarzrohres (1) selbsthalternd abgestützt ist,
Herstellen der ersten Quetschung (12) mit Ar-Spülung, Hochvakuumglühen beim Einschleusen
in die mit Xenon gefüllte Glovebox, Einbringen der Füllsubstanzen (14, 15), Einführen
des zweiten Eo-Systems (7, 8, 9, 10), Dichtschmelzen des offenen Rohrendes mit Plasmabrenner,
Entnehmen aus der Glovebox, Herstellen der zweiten Quetschung (18) bei gleichzeitigem
Ausfrieren des im Entladungsgefäß (6) enthaltenen Xenon bei mindestens -112 °C, Entnehmen
der Lampe (19) aus der Quetschvorrichtung und Entfernen der überstehenden Enden des
Quarzrohres. Kein Pumprohr am Entladungsgefäß (6).
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