(57) Beschrieben wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Ionenstrahlen
mit großflächigem Strahlquerschnitt. Ein Ionenstrahl, der zur Trockenätzung bei der
Herstellung mikroelektronischer Bauelemente verwendet wird, muß eine hohe Strahlqualität
aufweisen (kleine Divergenz, wenig Verunreinigungen, hohe Stromdichte).
Bei bekannten großflächigen Ionenstrahlquellen werden die Ionen mit Hilfe von Gittern
aus dem Plasma extrahiert. Die Verwendung des Gitters wirkt sich wegen des Feldverlaufes
an den Gitterpunkten störend auf die Strahlqualität aus.
Das erfindungsgemäße Verfahren kommt völlig ohne Gitter aus, die Ionen werden mit
Hilfe von Metallzylindern (5) beschleunigt. Dabei gewährleistet eine gepulste Erzeugung
der Ionen und eine gepulste Beschleunigung, daß die Ionen nur dann durch Felder beschleunigt
werden, wenn sie sich in Bereichen bewegen, in denen ein nahezu homogenes Feld herrscht.
Durch die damit erreichte hohe Strahlqualität eignet sich der Ionenstrahl zur Herstellung
kleinster Strukturen im Sub-µ-Bereich.
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