(19)
(11) EP 0 387 838 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
15.05.1991  Patentblatt  1991/20

(43) Veröffentlichungstag A2:
19.09.1990  Patentblatt  1990/38

(21) Anmeldenummer: 90104819.9

(22) Anmeldetag:  14.03.1990
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)5: H05G 2/00
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT CH DE FR GB IT LI NL

(30) Priorität: 15.03.1989 DE 3908480

(71) Anmelder: Karl Süss KG Präzisionsgeräte für Wissenschaft und Industrie - GmbH & Co.
D-85748 Garching (DE)

(72) Erfinder:
  • Richter, Franz,
    D-5190 Stolberg (DE)
  • Neff, Willi
    B-4721 Kelmis (BE)
  • Eberle, Jürgen
    D-6149 Fürth/Odenwald (DE)
  • Lebert, Rainer
    D-5100 Aachen (DE)

(74) Vertreter: VOSSIUS & PARTNER 
Postfach 86 07 67
81634 München
81634 München (DE)


(56) Entgegenhaltungen: : 
   
       


    (54) Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasmaquelle hoher Strahlungsintensität im Röntgenbereich


    (57) Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasmaquelle hoher Strah­lungsintensität im Röntgenbereich, mit zwei konzentrischen
    Elektroden (10, 11) die zwischen sich einem mit Gas geringen Drucks gefüllten Entladungsraum (12) aufweisen, der an einem Ende (13) offen und am anderen Ende (14) mit einem Isola­tor (15) verschlossen ist, der eine den Aufbau einer homogenen Plasmaschicht erlaubende Oberfläche (16) aufweist, und mit ei­nem die Elektroden (10, 11) kurzzeitig mit einer Hochspannungs­quelle verbindenden Hochleistungsschalter (HS).
    Um eine hohe Standzeit des Isolators (15) der Vorrichtung zu erreichen, ist diese so ausgebildet, daß der Isolator (15) eine ringförmige Scheibe ist und mit einer senkrechten oder ma­ximal um 45° gegen die Zylindervertikale (18) geneigten Oberflä­che (16) an den Entladungsraum (12) angrenzt, und daß die Elektroden (10,11) in einem Elektronenvervielfachung in einer homogenen Entladung erlaubenden Abstand (25) voneinander an­geordnet sind.







    Recherchenbericht