(57) Bei einer Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats (1) mit elektrisch leitenden
Materialien (2), umfassend eine Gleichstrom- und/oder eine Wechselstromquelle (10
bzw. 38), die an eine in einer evakuierbaren Beschichtungskammer (15, 15a, 15b) angeordnete
Elektrode (44) angeschlossen ist, die elektrisch mit einem Target (43) in Verbindung
steht, das zerstäubt wird und dessen zerstäubte Teilchen sich auf dem Substrat (1)
niederschlagen, wobei in die Beschichtungskammer (15, 15a, 15b) ein Prozeßgas einbringbar
ist und wobei toroidförmige Magnetfelder durch das Target hindurchgreifen, deren Feldlinien
im Bereich der Magnetpole (45, 46 47) aus der Oberfläche des Targets (43) austreten,
weist das Target (43) eine im wesentlichen längliche, parallelepipede Form auf, wobei
die einander diametral gegenüberliegenden schmalen Stirnflächen bogenförmig abgerundet
sind, so daß sich eine ovale Grundfläche ergibt, und ist außerdem von einer Dunkelraumabschirmung
(34) umschlossen ist, deren dem Substrat (1) zugewandte, umlaufende Stirnfläche (35)
geringfügig gegenüber der Vorderfläche des Targets (34) zurückversetzt ist, wobei
die in einer Kathodenwanne (4) angeordnete, auf einem Joch (48) gehaltene Magnetanordnung
aus einer mittleren, sich in Targetlängsrichtung erstreckenden Reihe von schmalen
Magneten (46), einer weiteren an der Randpartie des Jochs (6, 48) angeordneten endlosen
Reihe von schmalen Magneten (45, 47) und zwei Rundmagneten gebildet ist, die sich
jeweils an jedem Ende der mittleren Reihe von Magneten (46) befinden.
|
|
