(19)
(11) EP 0 453 979 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
20.01.1993  Patentblatt  1993/03

(43) Veröffentlichungstag A2:
30.10.1991  Patentblatt  1991/44

(21) Anmeldenummer: 91106299.0

(22) Anmeldetag:  19.04.1991
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)5H01J 29/02, H01J 29/50, H01J 9/18
(84) Benannte Vertragsstaaten:
DE FR IT NL

(30) Priorität: 23.04.1990 DE 4012888

(71) Anmelder: Nokia (Deutschland) GmbH
D-75175 Pforzheim (DE)

(72) Erfinder:
  • Marggraf, Manfred
    W-7310 Plochingen (DE)
  • Tischer, Kurt-Manfred
    W-7317 Wendlingen (DE)


(56) Entgegenhaltungen: : 
   
       


    (54) Gitter für Elektronenstrahl-Erzeugungssysteme


    (57) Nach dem gegenwärtigen Stand der Technik sind die Öffnungen der Gitter von Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen in Stanztechnik gefertigt. Da die geforderten engen Toleranzen für diese Öffnungen 13.1, 13.2, 13.3 nur mittels Präzisionsstanzmaschinen realisiert werden können, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, die Öffnungen 13.1, 13.2, 13.3 mit tiefgezogenen Einsteckhülsen 14.1, 14.2, 14.3 auszukleiden und mit dem Gitter 10 fest zu verbinden. Die außerordentlich gute Maßhaltigkeit der tiefgezogenen Einsteckhülsen 14.1, 14.2, 14.3 wird nicht beeinträchtigt, wenn die Verbindung von Gitter 10 und Einsteckhülse 14.1, 14.2, 14.3 unter Verwendung einer Lehre in Laserschweißtechnik ausgeführt wird.







    Recherchenbericht