[0001] La présente invention a pour objet une source d'ions à résonance cyclotronique électronique
(ECR) spécialement conçue pour la production d'ions positifs multichargés. Elle trouve
de nombreuses applications, en fonction des différentes valeurs de l'énergie cinétique
des ions extraits et de leurs charges, dans le domaine de l'implantation ionique,
de la microgravure et plus particulièrement dans l'équipement des accélérateurs de
particules, utilisés aussi bien dans le domaine scientifique que médical.
[0002] Dans le domaine des sources d'ions, on appelle source d'ions multichargés une source
dont le courant produit par les ions une fois chargés est supérieur à celui produit
par des ions au moins deux fois chargés.
[0003] Dans les sources à résonance cylclotronique électronique, les ions sont obtenus par
ionisation d'un milieu gazeux constitué d'un ou plusieurs gaz ou de vapeurs métalliques,
contenu dans une enceinte étanche à symétrie axiale, au moyen d'un plasma d'électrons
fortement accélérés par résonance cyclotronique électronique. La pression résiduelle
régnant dans l'enceinte est de l'ordre de 10⁻⁴ à 10⁻² Pa.
[0004] La résonance cyclotronique est obtenue grâce à l'action conjuguée d'un champ électromagnétique
de haute fréquence (UHF), injecté dans l'enceinte, et d'un champ magnétique à symétrie
axiale présentant une structure dite "à minimum |

|".
[0005] L'induction magnétique axiale présente une amplitude croissant du centre de l'enceinte
à ses extrémités ; elle possède en particulier une amplitude Br qui satisfait à la
condition (1) de résonance cyclotronique électronique Br=f.2πm/e dans laquelle
e représente la charge de l'électron,
m sa masse et
f la fréquence du champ électromagnétique.
[0006] Un système d'extraction des ions, situé du côté de l'enceinte opposé à celui de l'injection
de la haute fréquence, est prévu.
[0007] Le champ magnétique axial est créé soit par des bobines soit par des aimants permanents
entourant l'enceinte étanche.
[0008] Dans ce type de source, la quantité d'ions pouvant être produite résulte de la compétition
entre deux processus : d'une part la formation des ions par impact électronique sur
des atomes neutres constituant le milieu gazeux à ioniser, et d'autre part, les pertes
de ces mêmes ions par recombinaison due à une collision de ces ions avec un atome
neutre du milieu gazeux non encore ionisé ou bien par diffusion jusqu'aux parois de
l'enceinte.
[0009] Il est prévu de confiner dans l'enceinte les ions formés ainsi que les électrons
servant à leur ionisation. Ceci est réalisé en superposant au champ magnétique de
symétrie axiale un champ magnétique de symétrie radiale. Ce champ magnétique radial
est obtenu à l'aide d'une structure multipolaire constituée généralement par des aimants
permanents.
[0010] La superposition du champ magnétique radial et du champ magnétique axial conduit
à la formation de surfaces d'équi-module de champ magnétique, fermées n'ayant aucun
contact avec les parois de l'enceinte sur lesquelles la condition (1) de résonance
cyclotronique électronique est satisfaite. Une telle source d'ions a notamment été
décrite dans le document EP-A-0 238 397.
[0011] Les sources d'ions multichargés connues jusqu'à ce jour comportent une enceinte de
confinement de dimension transversale (mesurée perpendiculairement à l'axe longitudinal
de l'enceinte) nettement plus grande que celle du conduit par lequel est injectée
la puissance électromagnétique (3 à 5 fois plus grande dans la source ECR du document
EP-A-0 238 397). Dans ces conditions, l'enceinte se comporte comme une cavité résonnante
multimode, favorisant le remplissage uniforme de la puissance électromagnétique dans
le volume utile pour l'ionisation du milieu gazeux et permettant ainsi un chauffage
efficace du plasma.
[0012] D'autre part, la fréquence
f de l'onde électromagnétique destinée à la création du plasma doit être de l'ordre
de grandeur de la fréquence de coupure associée à la densité électronique n
e du plasma ; cette fréquence de coupure est donnée par l'équation n
e.e²/m.ε
o, où
m et
e ont les significations précédentes et ε
o représente la permittivité diélectrique du vide.
[0013] Dans le cas d'un plasma destiné à créer des ions multichargés, la densité électronique
n
edoit être aussi élevée que possible, d'où le choix de la fréquence électromagnétique
f la plus élevée possible, compatible avec la technologie des hyperfréquences actuelles
: généralement
f est choisi de 10 à 14GHz ; la longueur d'onde dans le vide de ces ondes électromagnétiques
est de l'ordre de 3 centimètres (guide rectangulaire de 10x22 mm pour 8 à 12 GHz et
de 7x14 mm pour 12 à 18 GHz). Cette dimension définit le diamètre ou la section du
conduit HF qui alimente la décharge.
[0014] Des mesures préliminaires ont permis de montrer que le plasma s'organise de manière
totalement inhomogène dans la structure magnétique.
[0015] En effet, celui-ci prend la forme d'un "cordon de plasma", présentant une densité
marquée au voisinage de l'axe avec une symétrie quasi cylindrique. La dimension caractéristique
de ce plasma est aussi de l'ordre du centimètre.
[0016] L'utilisation d'enceintes de confinement surdimensionnées implique soit l'utilisation
de bobines pour créer le champ magnétique de confinement (champ axial + champ radial)
et donc l'utilisation d'une forte puissance électrique en tenant compte du système
de refroidissement associé à ces bobines, soit l'utilisation de grandes quantités
d'aimants permanents rendant la source coûteuse et lourde. En outre, l'encombrement
total de la source varie comme le cube du diamètre de l'enceinte.
[0017] Il faut toutefois noter que l'emploi de telles structures magnétiques permet la production
de champs magnétiques axial et radial élevés, ce qui est nécessaire à la production
d'ions multichargés.
[0018] Tous ces aspects rendent difficile l'emploi des sources ECR d'ions multichargés,
actuelles dans les systèmes électrostatiques où la puissance et l'encombrement alloués
à la source d'ions sont extrêmement réduits (plateforme très haute tension THT, Van
de Graff ou terminal de Tandem). De plus, si le milieu gazeux est fortement radioactif
(émission de gammas et de neutrons) l'utilisation de bobines ne peut plus être envisagée
du fait des risques de vieillissement prématurés des résines d'imprégnation utilisées
dans ces bobines.
[0019] La publication de C.M. Lyneiss (Proceedings of the 1987 IEEE Particle Accelerator
Conference : Accelerator Engineering and Technology, vol.1, mars 1987, pp. 254-258,
"Status of ECR source technology) relative aux différents types de sources ECR disponibles
dans le commerce enseigne l'emploi d'une enceinte à plasma de diamètre D>2λ, où λ
représente la longueur d'onde du champ électromagnétique haute fréquence, pour obtenir
des ions multichargés et que l'emploi d'une enceinte avec D<λ entraîne rapidement
la décroissance en charge des ions.
[0020] En outre, ces sources utilisent des bobines pour créer le champ magnétique axial
et présentent donc les inconvénients mentionnés ci-dessus.
[0021] Le document de K. Amemiya et al. (Nuclear Instruments et Methods in Phys. Res. B,
vol. 37/38, n°2, février 1989, "New microwave ion source for high energy ion implanter)
est relatif à une source fonctionnant à 2,45GHz produisant un faible courant d'ions
multichargés. Cette source monomode, à l'inverse des sources ECR d'ions multichargés
qui sont multimodes, présente l'inconvénient de comporter des bobines pour créer le
champ magnétique axial. En outre, le courant d'ions multichargés produit est très
faible.
[0022] Aussi, l'invention a pour objet une nouvelle source d'ions multichargés à résonance
cyclotronique électronique à enceinte étanche de confinement de dimensions réduites,
permettant de remédier aux différents inconvénients mentionnés ci-dessus.
[0023] L'invention a donc pour objet une source d'ions multichargés à résonance cyclotronique
électronique comportant :
a) - une enceinte étanche renfermant un milieu gazeux capable d'être ionisé pour former
un plasma comportant des électrons accélérés par résonance cyclotronique électronique,
cette enceinte comportant un axe longitudinal, une première et une seconde extrémité
orientées selon cet axe,
b) - des moyens d'injection d'un champ électromagnétique de fréquence supérieure ou
égale à 6GHz dans l'enceinte, au niveau de sa première extrémité, pour ioniser le
milieu gazeux,
c) - des moyens pour créer, dans l'enceinte, un champ magnétique de symétrie axiale
dont la valeur de l'induction B est minimum dans un plan médian de l'enceinte, perpendiculaire
à l'axe,
d) - des aimants permanents pour créer un champ magnétique de symétrie radiale,
e) - un système d'extraction des ions, situé au niveau de la seconde extrémité,
caractérisée en ce que l'enceinte étanche est un guide d'ondes ayant une largeur
l selon le plan médian (P) telle que 0,5≦l/λ≦1,5 où λ représente la longueur d'onde
du champ électromagnétique satisfaisant à la condition de résonance et en ce que les
moyens pour créer le champ à symétrie axiale sont constitués d'aimants permanents.
[0024] L'emploi d'une fréquence électromagnétique ≧6GHz, et pouvant aller jusqu'à 30GHz,
permet l'obtention d'un faisceau d'ions multichargés, ce qui n'est pas le cas avec
des fréquences <6GHz.
[0025] Ainsi, il est possible de réaliser une enceinte étanche à décharge ne dépassant pas
quelques centimètres de diamètre ou de côté, suivant que l'enceinte présente une section
circulaire ou carrée, et permettant la production d'ions plusieurs fois chargés.
[0026] L'introduction du champ électromagnétique de haute fréquence peut être assurée, soit
par une transition du type coaxial, soit par une injection directe, à partir d'un
guide d'ondes rectangulaire ou circulaire en mode fondamental.
[0027] Selon l'invention, l'enceinte présente, selon son plan médian, une section sensiblement
égale à celle du guide d'ondes assurant l'injection du champ électromagnétique dans
l'enceinte.
[0028] Ainsi, la dimension de l'enceinte de confinement du plasma n'est limitée que par
les plus petites dimensions du guide d'ondes, rectangulaire ou circulaire, associé
à la fréquence électromagnétique de l'onde utilisée.
[0029] Du fait des dimensions extrêmement réduites de l'enceinte à décharge, il est possible
de n'utiliser que des aimants permanents, de petites tailles, répartis autour de l'enceinte
pour créer les champs magnétiques axial et radial, contrairement aux sources ECR de
l'art antérieur. Le coût de la source de l'invention se trouve ainsi réduit par rapport
à celui des sources classiques.
[0030] La production d'ions multichargés nécessite la création de champs magnétiques axial
et radial élevés. Or, l'emploi de petits aimants va à l'encontre de la production
de champs magnétiques élevés.
[0031] La configuration particulière des aimants utilisés dans l'invention permet avec de
petits aimants la production de champs magnétiques élevés et donc la production d'ions
multichargés. Ces aimants sont notamment fortement coercitifs.
[0032] Par ailleurs, et de façon avantageuse, les moyens pour créer le champ magnétique
à symétrie axiale comportent des premiers aimants permanents à symétrie axiale, entourant
l'enceinte, dont l'aimantation est substantiellement perpendiculaire à l'axe de l'enceinte,
ces aimants étant situés au niveau des première et seconde extrémités.
[0033] D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description
qui va suivre, donnée à titre illustratif et non limitatif, en référence aux dessins
annexés, dans lesquels :
- la figure 1 représente schématiquement, en coupe longitudinale, une source d'ions
conforme à l'invention,
- la figure 2 représente schématiquement une variante de la source de l'invention,
- la figure 3 montre un système d'aimants permanents utilisable dans la source de l'invention,
- les figures 4 à 6 donnent trois spectres d'ions multichargés obtenus avec la source
de l'invention à une fréquence HF de 10GHz ; les figures 4 et 5 sont relatives à l'argon
et la figure 6 au tantale.
[0034] Sur la figure 1, on a représenté schématiquement, en coupe longitudinale, une source
d'ions positifs multichargés à résonance cyclotronique électronique, selon l'invention.
Cette source ECR comporte un guide d'ondes 2 non résonnant, constituant une enceinte
à vide de confinement, équipée d'un axe de symétrie 4. Cette enceinte peut présenter
une section circulaire ou une section carrée.
[0035] La référence P indique le plan médian de l'enceinte 2, perpendiculaire à l'axe 4
et C indique le milieu de l'enceinte (intersection du plan P et de l'axe 4). On note
l la largeur ou le diamètre du guide 2 ;
l est appelé, ci-après, la dimension caractéristique de l'enceinte.
[0036] Cette enceinte comporte en outre une extrémité d'entrée 6 et une extrémité de sortie
8, centrées selon l'axe 4.
[0037] Le guide d'ondes 2 est excité par un champ électromagnétique de haute fréquence (HF
ou UHF) de fréquence ≧6GHz, injecté au niveau de son extrémité 6. Ce champ haute fréquence
est produit par une source 10 telle qu'un klystron, couplée à l'enceinte de confinement
2, via une cavité de transition 12 comportant une ouverture 14, disposée dans le prolongement
du guide 2 et coaxialement. Cette ouverture 14 présente une largeur (ou diamètre)
sensiblement égale à celle du guide d'ondes 2.
[0038] La cavité de transition 12 comporte à son entrée latérale HF une fenêtre étanche
16 en matériau diélectrique.
[0039] Selon l'invention, la dimension caractéristique
l de l'enceinte 2 est du même ordre de grandeur que la longueur d'onde. Autrement dit,
l/λ satisfait à l'équation 0,5≦l/λ≦1,5 où λ est la longueur d'onde du champ HF utilisée.
[0040] Sur la figure 1, l'injection de la haute fréquence dans l'enceinte 2 est réalisée
coaxialement à l'introduction du gaz ou de la vapeur métallique dans l'enceinte 2,
destiné à former le plasma. A cet effet, la cavité de transition 12 est traversée
par une conduite 18 d'alimentation en gaz ou vapeur, centrée sur l'axe 4 de l'enceinte
et débouchant en aval de l'extrémité 6 du guide d'ondes 2. Le guide 2 et la conduite
18 sont métalliques et définissent une ligne coaxiale.
[0041] Le plasma peut consister en de l'hydrogène, du néon, du xénon, de l'argon, de l'oxygène,
du tungstène, du titane, etc.
[0042] Une pompe à vide non représentée permet de créer dans l'enceinte 2 un vide de 10⁻⁴
à 10² Pa. La pompe à vide est généralement placée en aval de l'extrémité de sortie
8 de la chambre à vide 2.
[0043] L'onde électromagnétique peut être continue ou pulsée et présenter une fréquence
allant de 6 à 30GHz et typiquement valant 10GHz.
[0044] Conformément à l'invention, il est possible, comme schématisé sur la figure 2, d'injecter
la haute fréquence dans l'enceinte de type guide d'ondes 2 directement dans celle-ci
à l'aide d'un guide 20 de section rectangulaire débouchant directement dans l'enceinte
2 selon une direction radiale. La longueur l′ du guide d'entrée 20 est égale approximativement
à la largeur l de l'enceinte 2. Un guide d'onde circulaire en mode fondamental est
aussi possible. Un système de couplage par fentes entre un guide rectangulaire et
l'enceinte est aussi possible et remplacerait la cavité de transition.
[0045] En revenant sur la figure 1, on voit que la chambre de confinement 2 est portée à
un potentiel positif par rapport à la masse, grâce à une source d'alimentation électrique
18 et est entourée d'une structure magnétique 19, par exemple de symétrie de révolution
lorsque l'enceinte 2 est cylindrique, destinée à créer le champ magnétique dans l'enceinte
guide 2. Un système mécanique 20 permet le maintien de cette structure magnétique
sur l'enceinte guide 2.
[0046] On trouve en outre à l'extrémité 8 de l'enceinte 2 une plaque 21 pourvue d'un orifice
de sortie 22 des ions ; cet orifice 22 est centré sur l'axe 4.
[0047] En sortie de la chambre 2, on trouve aussi un blindage 24 de forme extérieure cylindrique
et de forme interne tronconique, disposé coaxialement au guide d'ondes 2 et dans son
prolongement ; le diamètre interne de ce blindage 24 va en s'élargissant de l'amont
vers l'aval de la source. Ce blindage est réalisé en noyau de fer doux ou en aimant
permanent. L'angle T que forme la paroi interne du blindage 24 avec une direction
parallèle à l'axe 4 est de 20° environ. La forme du blindage 24 assure la distance
d'isolement électrostatique de la chambre 2 avec l'électrode d'extraction 28 des ions.
[0048] En appui sur le système mécanique 20, on trouve une virole cylindrique 26 en matériau
électriquement isolant, servant de support à une électrode d'extraction 28 des ions.
Cette électrode 28 présente la forme d'un cylindre et est disposée coxialement au
guide d'ondes 2. Elle est portée au potentiel de la masse afin d'accélérer les ions
formés dans l'enceinte.
[0049] La structure magnétique 19 permet la création, dans l'enceinte 2, de lignes équimagnétiques
30 fermées. La valeur de l'induction B sur ces lignes satisfait l'équation de résonance
(1). En outre, l'induction B diminue du centre C à la périphérie de l'enceinte 2.
[0050] Du fait de la miniaturisation de l'enceinte de confinement, la structure magnétique
19 peut consister uniquement en un système d'aimants permanents fortement coercitifs,
juxtaposés entourant l'enceinte de confinement 2. Ces aimants sont réalisés en FeNdB
ou SmCO₅ (matériaux magnétiques "durs").
[0051] Cette structure magnétique, comme représenté sur les figures 1 et 3, présente une
symétrie axiale et constitue un circuit magnétique ouvert.
[0052] Selon l'invention, des aimants permanents 32 et 34 à aimantation radiale, disposés
respectivement à l'entrée et à la sortie de la chambre 2, permettent de créer dans
celle-ci le champ magnétique de symétrie axiale. Ces aimants 32 et 34 se présentent
sous la forme d'un anneau cylindrique.
[0053] L'aimant d'entrée 32 a son vecteur aimantation orienté de sorte que son pôle sud
soit dirigé substantiellement vers l'enceinte 2. A l'inverse, l'aimant de sortie 34
est tel que son pôle nord soit dirigé substantiellement vers l'enceinte 2.
[0054] Ces aimants 32 et 34 permettent la création d'un champ magnétique à symétrie axiale
présentant dans le plan médian P de la chambre 2 une valeur minimum en passant par
des valeurs maximums au niveau des aimants 32 et 34. Ces aimants 32 et 34 définissent
donc deux miroirs magnétiques.
[0055] Des aimants permanents 36 et 38 entourant le guide d'ondes 2 sont disposés de sorte
que leur vecteur aimantation soit orienté sensiblement de l'extrémité d'entrée 6 à
l'extrémité de sortie 8 de l'enceinte. Ces aimants 36 et 38 ont la forme d'un anneau
et contribuent avec les aimants 32 et 34 à la création du champ magnétique de symétrie
axiale dans l'enceinte 2. Ces aimants servent à magnétiser l'ensemble de l'enceinte
guide sur une distance D1.
[0056] L'ouverture annulaire 35 de longueur D2 séparant les aimants 36 et 38 de la structure
magnétique permet de contrôler le champ magnétique de symétrie axiale, dans le plan
médian P de l'enceinte 2.
[0057] Selon l'invention, les aimants à aimantation axiale 36 et 38 sont accolés respectivement
aux aimants 32 et 34 et situés entre ces aimants 32 et 34.
[0058] En outre, les rayons internes R₁ et R₂ des aimants 36 et 38 sont supérieurs aux rayons
internes R₃ et R₄ des aimants 32 et 34.
[0059] Des barreaux aimantés 40 et 42, de forme allongée, sont logés dans l'espace annulaire
défini entre l'enceinte guide 2 et les aimants 32, 34, 36 et 38. Ces aimants ont une
aimantation radiale et définissent une structure multipolaire par exemple quadrupolaire,
hexapolaire, octopolaire ou dodécapolaire ; les polarités des aimants 40 et 42 sont
alternées. En particulier, ces barreaux sont distants de R₁ de l'axe 4.
[0060] Ces barreaux aimantés définissent dans l'enceinte 2 le champ radial de confinement.
[0061] Dans l'espace 35, de longueur D2, il est possible, mais non obligatoire, comme représenté
sur la figure 3, d'introduire des aimants 44, 45 à aimantation radiale et à structure
multipolaire, pour renforcer localement le champ radial là où le champ axial est minimum,
c'est-à-dire dans le plan médian.
[0062] Il est en outre possible, comme représenté sur la figure 1, d'introduire dans cet
espace annulaire 35, au-dessus des aimants 44 un anneau aimanté 46 à aimantation axiale
afin d'augmenter encore localement le champ axial.
[0063] Les longueurs maximales L₁ et L₂ des aimants 32 et 34, mesurées selon une direction
parallèle à l'axe 4, peuvent être adaptées pour définir un éventuel déséquilibrage
du module du champ magnétique résultant entre l'entrée et la sortie' de la source,
déséquilibrage permettant d'optimiser le taux de fuite du plasma. Le module du champ
à l'entrée doit donc être plus fort qu'à la sortie.
[0064] A cet effet, L₁ peut être choisi supérieur à L₂.
[0065] Un même effet peut aussi être réalisé par optimisation des rayons internes R₁ et
R₂ des aimants annulaires 32 et 34, par optimisation des rayons externes R₃ et R₄
des aimants 32, 36 d'une part et 34, 38 d'autre part ainsi que par optimisation des
angles a₁, b₁, a₂, b₂ que forme l'aimantation des aimants 32, 36, 34 et 38 avec l'axe
4.
[0066] En particulier, la distance R₁ séparant l'axe 4 de l'aimant 32 situé au niveau de
l'extrémité d'entrée 6 est inférieure à la distance R₂ séparant l'axe de l'aimant
34 situé au niveau de l'extrémité 8 de sortie.
[0067] Par ailleurs, les angles C₁ et C₂ que font, par rapport à une direction parallèle
à l'axe 4, les extrémités des aimants 32 et 36 en regard d'une part et les angles
C₃ et C₄ que font, par rapport à une direction parallèle à l'axe 4, les extrémités
des aimants 34 et 38 en regard d'autre part, peuvent être optimisés de manière à définir
un circuit magnétique idéal (continuité du flux magnétique).
[0068] Notons que sur la figure 1, les angles a₁, b₁, a₂, b₂, C₁ et C₂ sont nuls par rapport
à l'axe 4.
[0069] Les aimants 34 et 32 de l'invention permettent de diminuer la masse et la dimension
des aimants 38 et 36 de façon importante.
[0070] Au lieu d'utiliser un blindage 24 en noyau de fer doux monté à l'intérieur de l'aimant
annulaire 34, il est possible d'utiliser une partie aimantée faisant partie intégrante
de l'aimant 34. Toutefois, du point de vue fabrication, il est plus facile de donner
la forme recherchée à un noyau de fer doux qu'à un aimant.
[0071] Une source d'ions comportant une chambre 2 de diamètre interne
l de 26mm et une longueur A de 160 mm environ a été réalisée. Elle a été excitée par
un champ UHF de 10 GHz et un champ magnétique dont l'induction B variait progressivement
de 0,3 T au centre C de l'enceinte à 0,8 T au niveau des parois latérales de l'enceinte
2.
[0072] Avec cette source, on a réalisé des spectres d'ions multiples donnés sur les figures
4 à 6. Ces spectres donnent l'intensité, exprimée en microampères, du courant d'ions
I sortant de la source d'ions en fonction du courant dans l'aimant d'analyse, exprimé
en ampères ; ce courant d'analyse donne le rapport Q/A où Q est la charge de l'ion
et A sa masse. Les figures 4 et 5 sont relatives à l'argon et la figure 6 au tantale.
[0073] Ces spectres ne montrent qu'une faible diminution de la charge moyenne, comparée
à une source de grand volume ; des ions chargés 6+ sont obtenus au lieu de 8+ pour
l'argon et des ions chargés 16+ sont obtenus au lieu de 20+ pour le tantale.
[0074] Si l'on observe le courant d'ions I produit par l'ion le plus abondant de la distribution,
on obtient un courant de 250 microampères pour des ions chargés huit fois dans une
source classique et un courant de 25 microampères pour des ions chargés six fois dans
une source type guide d'ondes, conforme à l'invention.
[0075] Ce courant est l'image du courant total d'ions multichargés contenus dans le spectre.
On constate que celui-ci a évolué dans le rapport des sections droites des chambres
à plasma, soit proportionnellement au volume de plasma qui y est contenu.
[0076] Cette variation qui ne dépend, a priori, que des paramètres géométriques peut laisser
penser que la densité du flux de plasma utile à la formation du faisceau extrait dans
la région d'extraction est restée constante dans les deux types de source.
[0077] Le diamètre d'une source de l'invention est, à même fréquence électromagnétique,
environ un tiers inférieur à celui de l'art antérieur.
[0078] Notons que la source représentée sur la figure 1 est à l'échelle 1/1.
[0079] La source de l'invention permet en outre, à charge moyenne extraite équivalente,
un gain énergétique de l'ordre de 40 KW à quelques centaines de Watts et par ailleurs
un coût de mise en oeuvre de 10 à 20 fois inférieur à celui des sources de l'art antérieur.
1. Source d'ions multichargés à résonance cyclotronique électronique comportant :
a) - une enceinte étanche (2) renfermant un milieu gazeux capable d'être ionisé pour
former un plasma comportant des électrons accélérés par résonance cyclotronique électronique,
cette enceinte comportant un axe longitudinal (4), une première (6) et une seconde
(8) extrémités orientées selon cet axe,
b) - des moyens (12, 20) d'injection d'un champ électromagnétique de fréquence supérieure
ou égale à 6GHz dans l'enceinte, au niveau de sa première extrémité, pour ioniser
le milieu gazeux,
c) - des moyens (36, 38) pour créer, dans l'enceinte, un champ magnétique de symétrie
axiale dont la valeur de l'induction B est minimum dans un plan médian de l'enceinte,
perpendiculaire à l'axe,
d) - des aimants permanents (32, 34, 40) pour créer un champ magnétique de symétrie
radiale,
e) - un système (28) d'extraction des ions, situé au niveau de la seconde extrémité,
caractérisée en ce que l'enceinte (2) étanche est un guide d'ondes ayant une largeur
(
l) selon le plan médian (P) telle que 0,5≦l/λ≦1,5, où λ représente la longueur d'onde
du champ électromagnétique satisfaisant à la condition de résonance et en ce que les
moyens pour créer le champ à symétrie axiale sont constitués d'aimants permanents.
2. Source d'ions selon la revendication 1, caractérisée en ce que les moyens d'injection
comportent un guide d'ondes (20) agencé pour injecter le champ électromagnétique selon
une direction perperpendiculaire à l'axe.
3. Source d'ions selon la revendication 2, caractérisée en ce que l'enceinte (2) présente
une largeur (l), mesurée selon le plan médian, sensiblement égale à la largeur (l′)
du guide d'ondes des moyens d'injection.
4. Source d'ions selon la revendication 1, caractérisée en ce que les moyens d'injection
comportent une cavité de transition (12), en communication directe avec l'enceinte,
cette cavité étant traversée par une conduite d'amenée (18) du milieu gazeux débouchant
dans l'enceinte en aval de la première extrémité et coaxialement à cette dernière.
5. Source d'ions selon la revendication 4, caractérisée en ce que la cavité de transition
communique avec l'enceinte par une ouverture de largeur sensiblement égale à celle
de l'enceinte, mesurée selon le plan médian.
6. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisée en ce
que les moyens pour créer le champ magnétique à symétrie axiale comportent des premiers
aimants permanents (32, 34) à symétrie axiale, entourant l'enceinte (2), dont l'aimantation
est substantiellement perpendiculaire à l'axe de l'enceinte, ces aimants étant situés
au niveau des première et seconde extrémités.
7. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce
que les moyens pour créer le champ magnétique de symétrie radiale comportent des aimants
permanents (40, 42) répartis autour de l'enceinte et agencés selon une structure multipolaire
et dont l'aimantation est substantiellement perpendiculaire à l'axe de l'enceinte.
8. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce
que les moyens pour créer le champ magnétique à symétrie axiale comportent des seconds
aimants permanents (36, 38) à symétrie axiale, entourant l'enceinte (2) dont l'aimantation
est substantiellement parallèle à l'axe de l'enceinte.
9. Source d'ions selon la revendication 6, caractérisée en ce que les premiers et seconds
aimants sont accolés.
10. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisée en ce
qu'elle comprend des aimants permanents (44, 45) à aimantation radiale, disposés au
niveau du plan médian et agencés selon une structure multipolaire, créant un champ
magnétique radial complémentaire dans ce plan.
11. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce
qu'elle comprend un aimant permanent (46) à symétrie axiale, disposé dans le plan
médian créant un champ magnétique axial complémentaire dans ce plan.
12. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 6 à 11, caractérisée en ce
que la distance (R₁) séparant l'axe (4) de l'aimant (32) situé au niveau de la première
extrémité (6) est inférieure à celle (R₂) séparant l'axe de l'aimant (34) situé au
niveau de la seconde extrémité (8).
13. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 6 à 12, caractérisée en ce
que la longueur (L₁) des aimants (32) situés au niveau de la première extrémité est
supérieure à la longueur (L₂) des aimants (34) situés au niveau de la seconde extrémité,
ces longueurs étant mesurées selon une direction parallèle à l'axe.
14. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisée en ce
qu'elle comprend un blindage en noyau de fer doux (24) en regard des moyens d'extraction
dont la paroi interne forme un angle T>0 par rapport à l'axe de l'enceinte.