[0001] La présente invention concerne une amélioration d'une source d'ions à résonance cyclotronique
électronique (RCE) permettant, notamment, la production d'ions multichargés.
[0002] Elle trouve de nombreuses applications en fonction des différentes valeurs de l'énergie
cinétique des ions produits, dans le domaine de l'implantation ionique, de la microgravure,
et plus particulièrement dans l'équipement des accélérateurs de particules utilisés
aussi bien dans le domaine scientifique que médical.
[0003] Dans les sources d'ions à résonance cyclotronique électronique, les ions sont obtenus
par ionisation, dans une enceinte fermée, telle qu'une cavité hyperfréquence, d'un
milieu gazeux constitué d'un ou plusieurs gaz ou de vapeurs métalliques, au moyen
d'électrons fortement accélérés par résonance cyclotronique électronique. Cette résonance
est obtenue grâce à l'action conjuguée d'un champ électromagnétique haute fréquence
(HF) injecté dans l'enceinte, contenant le gaz à ioniser, et d'un champ magnétique,
régnant dans cette même enceinte, dont l'amplitude B satisfait à la condition de résonance
cyclotronique électronique suivante B = F.2 π m/e, dans laquelle e représente la charge
de l'électron, m sa masse et F la fréquence du champ électromagnétique.
[0004] Dans ces sources, la quantité d'ions pouvant être produite résulte de la compétition
entre deux processus : d'une part, la formation des ions par impact électronique sur
des atomes neutres constituant le gaz à ioniser et, d'autre part, la destruction de
ces mêmes ions par recombinaison, simple ou multiple, lors d'une collision de ces
derniers avec un atome neutre ; cet atome neutre peut provenir du gaz non encore ionisé
ou bien être produit sur les parois de l'enceinte par impact d'un ion sur lesdites
parois.
[0005] Cet inconvénient est évité en confinant, dans l'enceinte constituant la source, les
ions formés, ainsi que les électrons servant à leur ionisation. Ceci est réalisé en
créant à l'intérieur de l'enceinte des champs magnétiques radial et axial, définissant
une surface dite "équimagnétique", n'ayant aucun contact avec les parois de l'enceinte
et sur laquelle la condition de résonance cyclotronique électronique est satisfaite.
Cette surface a la forme d'un ballon de rugby. Plus cette surface équimagnétique est
proche des parois de l'enceinte, plus son efficacité est grande car elle permet de
limiter le volume de présence des atomes neutres et donc la quantité de collisions
ions-atomes neutres. Cette surface permet aussi de confiner les ions et les électrons
produits par ionisation du gaz. Grâce à ce confinement, les électrons créés ont le
temps de bombarder plusieurs fois un même ion et de l'ioniser totalement.
[0006] Une telle source d'ions a été décrite dans le document déposé le 13 mars 1986, au
nom du demandeur, et publié sous le numéro FR-A-2 595 868.
[0007] Sur la figure 1, on a représenté schématiquement une source d'ions, selon l'art antérieur.
Cette source comprend une enceinte 1 constituant une cavité résonante pouvant être
excitée par un champ électromagnétique haute fréquence (HF). Ce champ électromagnétique
est produit par un générateur 3 d'ondes électromagnétiques ; il est introduit à l'intérieur
de l'enceinte 1 par l'intermédiaire d'un guide d'ondes 5 et d'une cavité de transition
20.
[0008] Cette source comprend également une structure magnétique (7, 9, 11) blindée extérieurement,
dont le blindage 11 permet de ne magnétiser que le volume utile à la résonance cyclotronique
électronique dans l'enceinte 1.
[0009] Cette structure magnétique comprend, en outre le blindage 11, des aimants permanents
7 et des solénoïdes 9, disposés autour de l'enceinte 1 et créant respectivement un
champ magnétique radial et un champ magnétique axial. Ces deux champs magnétiques
se superposent et se répartissent dans toute l'enceinte ; ils forment ainsi un champ
magnétique résultant qui définit la surface équimagnétique résonante 13 à l'intérieur
de l'enceinte 1.
[0010] Un axe magnétique 15, qui est également l'axe longitudinal de la source, traverse
le blindage 11 par deux ouvertures 17 et 19, aménagées dans ledit blindage 11 pour
permettre respectivement l'extraction des ions de l'enceinte 1, ainsi que l'introduction
d'ondes électromagnétiques et d'échantillons gazeux ou solides.
[0011] Une première et une seconde canalisations 21 et 23 relient l'ouverture 19 du blindage
11 à des ouvertures respectives 25 et 27 de la cavité de transition 20, ces ouvertures
étant situées sur les faces latérales de la cavité 20 qui a la forme d'un cube.
[0012] Le rapport des diamètres de ces deux canalisations 21, 23 est tel qu'il est possible
d'assimiler ces dernières à une ligne coaxiale d'impédance caractéristique de l'ordre
de 85 Ohms. Une telle ligne coaxiale propage préférentiellement un mode électromagnétique
Transverse Electro-Magnétique (TEM) dans lequel le champ électromagnétique E est transverse
à la direction de propagation des ondes et perpendiculaire à la surface des conducteurs,
c'est-à-dire des canalisations 21, 23.
[0013] Pour ioniser un gaz, on introduit ledit gaz dans l'enceinte 1 par l'intermédiaire
d'une canalisation 30 de gaz reliée à l'ouverture 27 de la cavité de transition 20.
Le gaz et les ondes électromagnétiques introduits dans la cavité 20 sont transmis
à l'enceinte 1 par les première et seconde canalisations 21 et 23, dont le rôle est
de permettre de transmettre lesdites ondes vers ladite enceinte et de les y injecter
suivant l'axe longitudinal 15.
[0014] Il est possible, également, de créer des ions à partir d'un échantillon solide introduit
sous forme d'une tige dans la canalisation 23. Cependant, dans toute la description
qui va suivre, il sera pris, comme exemple, l'ionisation d'un gaz.
[0015] Dans l'enceinte 1, l'association du champ magnétique axial et du champ électromagnétique
permet d'ioniser fortement le gaz introduit. Les électrons produits sont alors fortement
accélérés par résonance cyclotronique électronique, ce qui conduit à la formation
d'un plasma d'électrons chauds confinés dans le volume limité par la surface équimagnétique
13.
[0016] Les ions alors formés dans l'enceinte 1 sont extraits de celle-ci par un champ électrique
d'extraction généré par une différence de potentiel appliquée entre une électrode
31 et l'enceinte 1. L'électrode 31 et l'enceinte 1 sont toutes deux reliées à une
source 33 d'alimentation électrique, l'électrode 31 étant positionnée à l'extérieur
de l'ouverture 17 de l'enceinte 1.
[0017] Pour contrôler l'intensité du courant d'ions, il est possible de contrôler la puissance
moyenne du champ électromagnétique en agissant sur un générateur d'impulsions 35,
lui-même situé en amont d'une source d'alimentation 37 reliée au générateur d'ondes
électromagnétiques. Ledit générateur d'impulsions 35 commande ladite source d'alimentation
37 en ajustant le cycle utile, à savoir le rapport entre la durée d'une impulsion
et la période des impulsions.
[0018] De plus, des moyens 39 de mesure de pression totale sont reliés à une entrée d'un
comparateur 41, dont la sortie est elle-même reliée à une vanne 43 de la canalisation
30 de gaz. Sur une seconde entrée du comparateur 41, une tension de référence R est
appliquée et comparée à la valeur mesurée du courant d'ions pour donner, en sortie
du comparateur, la valeur à transmettre à la vanne 43. Cette vanne 43 permet d'agir
sur la quantité de gaz à introduire dans l'enceinte 1, de façon à réguler automatiquement
le courant d'ions.
[0019] De plus, un piston 45 d'adaptation, relié à une troisième ouverture latérale 29 de
la cavité 20, permet de régler le volume interne de ladite cavité 20. Le réglage dudit
piston 45 est utilisé pour accorder l'ensemble des volumes internes de la cavité 20
sur la fréquence des ondes électromagnétiques afin d'obtenir un minimum d'ondes réfléchies,
c'est-à-dire d'ondes qui retournent au générateur d'ondes 3. Lorsque ces volumes internes
sont accordés sur la fréquence des ondes électromagnétiques, les ondes injectées dans
la cavité 20 par le générateur 3 sont presque totalement transmises, par les canalisations
21 et 23, à l'enceinte 1 contenant le plasma, puis absorbées par la surface équimagnétique
13.
[0020] Dans cette source d'ions de l'art antérieur, la seconde canalisation 23 est transparente
aux ondes électromagnétiques à son extrémité 23a, extrémité voisine de l'ouverture
19 de l'enceinte 1 située en regard du blindage 11.
[0021] Dans le volume intérieur de cette partie transparente 23a, règne un champ magnétique
axial provenant des solénoïdes, un champ électromagnétique et une pression de gaz
élevée. Le champ électromagnétique provient des ondes électromagnétiques transmises
entre la première canalisation 21 et une partie non transparente 23b de la seconde
canalisation 23, et qui traversent la partie transparente 23a de la seconde canalisation
23. De ce fait, une résonance cyclotronique électronique peut avoir lieu à l'intérieur
de l'extrémité 23a de la seconde canalisation 23 dans un volume où règne une forte
pression de gaz.
[0022] Cette extrémité transparente aux ondes électromagnétiques constitue donc un étage
de pré-ionisation auto-régulé, où l'excédent de puissance incidente des ondes électromagnétiques
est transmis sans réflexion jusqu'à la zone de résonance cyclotronique électronique
constituée par la surface équimagnétique 13.
[0023] En effet, plus le plasma produit par résonance cyclotronique électronique (ou plasma
préionisé) est dense à l'intérieur de l'extrémité 23a de la canalisation, plus la
transmission des ondes électromagnétiques et bonne, ce plasma préionisé devenant lui-même
conducteur. De façon plus précise, le plasma préionisé se porte à un potentiel qui
lui est imposé par la présence immédiate de la partie 23b conductrice de la canalisation
23, elle-même soumise, par l'intermédiaire de la canalisation 21 et de l'enceinte
1, à la tension de la source d'alimentation 33.
[0024] Le plasma confiné dans la surface équimagnétique 13 se porte naturellement à un potentiel
positif par rapport à l'enceinte 1. En effet, les électrons de ce plasma confiné sont
chauffés par la résonance cyclotronique des électrons et certains de ces électrons,
trop énergétiques, s'échappent du confinement. Ils vont alors frapper l'enceinte 1
qui, sous cet effet, se charge négativement. Le plasma confiné a donc une polarité
plus positive que celle de l'enceinte 1.
[0025] Aussi, la différence de potentiel créée entre l'enceinte 1 et le plasma confiné est
à l'origine d'un champ électrique E. Ce champ E permet notamment le transfert des
ions confinés vers l'ouverture 17 de l'enceinte 1.
[0026] Cependant, le plasma de préionisation qui s'étend jusqu'à la surface équimagnétique
13 est en contact avec le plasma confiné. Or, ledit plasma de préionisation est conducteur
et porté au même potentiel que l'enceinte 1. Le champ électrique E est alors perturbé,
ce qui affecte les capacités de la source d'ions.
[0027] Eloigner la partie conductrice 23b de la seconde canalisation, en augmentant la partie
transparente 23a permettrait effectivement d'isoler le plasma de préionisation du
plasma confiné. Cependant, dans un tel dispositif, la transmission de l'onde électromagnétique
issue du générateur 3 n'est pas assurée car ladite partie transparente 23a n'est pas
conductrice ; or, l'onde nécessite deux conducteurs coaxiaux, formant une ligne de
transmission coaxiale, pour être transmise.
[0028] La présente invention permet justement d'optimiser ce champ électrique E en isolant
le plasma de préionisation par rapport au plasma confiné tout en assurant la transmission
de l'onde électromagnétique. Elle propose, en effet, un système d'injection centrale
du plasma de préionisation alimenté électriquement par une source de tension.
[0029] De façon plus précise, la présente invention concerne une source d'ions RCE (à résonance
cyclotronique électronique) comprenant :
- une enceinte contenant un plasma d'ions et d'électrons formés par résonance cyclotronique
électronique ;
- une structure magnétique entourant l'enceinte et créant, à l'intérieur de celle-ci,
deux champs magnétiques respectivement radial et axial assurant un confinement dans
l'enceinte ;
- un système d'extraction des ions de l'enceinte connecté à une source d'alimentation
électrique ;
- une cavité de transition reliée à un générateur d'ondes électromagnétiques ;
- une première canalisation, conductrice, reliant de façon étanche au vide l'enceinte
et la cavité ; et
- une seconde canalisation, au moins en partie conductrice, traversant axialement la
première canalisation ainsi que la cavité et débouchant dans l'enceinte.
[0030] Cette source se caractérisé par le fait que la première et la seconde sources d'alimentation
électrique sont identiques et de même polarité que la première source d'alimentation
électrique.
[0031] Avantageusement, la seconde canalisation comprend :
- un tube transparent aux ondes électromagnétiques réalisé en un matériau diélectrique
;
- un tube conducteur de faible épaisseur, recouvrant en partie le tube transparent ;
- un tube de métal réfractaire, de faible épaisseur, disposé contre une partie de la
face interne du tube transparent.
[0032] Selon l'invention, le tube conducteur recouvre le tube transparent depuis sa partie
traversant la cavité jusqu'à une distance critique L = C/F du point de résonance C.
[0033] De même, le tube en métal réfractaire recouvre la partie de la face interne du tube
transparent depuis sa partie traversant la cavité jusqu'à une distance critique L
= C/F du point de résonance C.
[0034] Selon un mode de réalisation de l'invention, le tube transparent est en quartz, le
tube conducteur en cuivre, et le tube en métal réfractaire est réalisé par une feuille
de tantale.
[0035] D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description
qui va suivre. Cette description est donnée à titre illustratif, mais nullement limitatif,
en référence aux dessins annexés dans lesquels :
- la figure 1, déjà décrite, représente schématiquement une source d'ions RCE selon
l'art antérieur ;
- la figure 2 représente schématiquement une source d'ions selon l'invention ; et
- la figure 3 représente un agrandissement de la seconde canalisation aux environs du
point de résonance C.
[0036] Les références citées et décrites lors de la description de la figure 1, seront conservées
pour la description des figures 2 et 3 lorsque l'élément qu'elles référencent est
identique dans l'invention et dans l'art antérieur.
[0037] La figure 2 représente une source d'ions selon l'invention. Elle représente, en effet,
la source d'ions de l'art antérieur, telle que décrite précédemment, à laquelle est
ajoutée une seconde source d'alimentation électrique 50 et sur laquelle on a modifié
la seconde canalisation conformément à l'invention. Cette canalisation porte, dans
la figure 2, la référence 52.
[0038] La seconde source d'alimentation 50 est identique et de même polarité que la première
source d'alimentation 33. Elle permet la délivrance d'une tension variable comprise
entre sensiblement 10 et 20 Kv.
[0039] La source d'alimentation 50 est connectée, par son pôle positif, à la seconde canalisation
52 et, par son pôle négatif, à la terre ainsi qu'au pôle négatif de la source d'alimentation
33.
[0040] L'existence de la seconde source d'alimentation 50 permet de porter l'enceinte 1
et la canalisation 52 à des potentiels indépendants l'un de l'autre, et à des polarités
identiques. Ainsi, lorsque l'enceinte 1 va se charger négativement au contact des
électrons échappés de la surface équimagnétique 13, la canalisation 52 conservera
sa polarité positive, de même que le plasma de préionisation qu'elle contient.
[0041] Aussi, ledit plasma de préionisation, qui a une polarité à peu près similaire à la
polarité du plasma confiné dans la surface équimagnétique 13, reste isolé par rapport
au plasma confiné.
[0042] De cette façon, le champ électrique E entre le plasma confiné et l'enceinte 1, et
notamment le champ E devant l'orifice d'extraction 17, est optimum.
[0043] Sur cette figure 2, on voit également la canalisation 52 conforme à l'invention.
Cette canalisation 52 comporte un tube de quartz 53 disposé à l'intérieur de la première
canalisation 21 et qui traverse toute la cavité 20 jusqu'à l'embouchure de la canalisation
30 du gaz.
[0044] Ce tube de quartz 53 peut être, de façon plus générale, un tube constitué dans un
matériau transparent diélectrique. Le quartz a cependant l'avantage de ne pas permettre
le dégazage.
[0045] La canalisation 52 comprend également un tube en cuivre 54 très mince enfilé sur
le tube de quartz 53, c'est-à-dire entourant ledit tube de quartz de façon à épouser
la surface extérieure du tube de quartz 53. Ce tube en cuivre 54 est conducteur et
permet de transmettre les ondes électromagnétiques introduites dans la canalisation
21.
[0046] Pour une meilleure transmission desdites ondes, le tube en cuivre 54 est soudé sur
la paroi 28 de la cavité 20.
[0047] De plus, pour permettre la préionisation du gaz injecté, le tube en cuivre 54 ne
recouvre pas totalement le tube de quartz 53. En effet, une partie 53a du tube de
quartz 53 doit rester transparente aux ondes électromagnétiques.
[0048] Selon un autre mode de réalisation de la canalisation 52, le tube en cuivre 54 peut
être remplacé par la métallisation du tube de quartz 53, c'est-à-dire par un dépôt
argenté sur ledit tube de quartz.
[0049] La canalisation 52 comprend de plus un tube en métal réfractaire 55 enfilé à l'intérieur
du tube de quartz 53, c'est-à-dire posé contre la paroi interne dudit tube de quartz.
[0050] De façon avantageuse, et selon un mode de réalisation préféré de l'invention, le
tube en métal réfractaire 55 peut être réalisé par une feuille de tantale mince enroulée
à l'intérieur du tube de quartz 53 de façon à en épouser sa surface interne de manière
quasi-parfaite.
[0051] Ce tube en métal réfractaire 55 peut également être réalisé, suivant le même principe,
par une feuille de tunsgtène.
[0052] Ce tube en métal réfractaire 55 recouvre la surface interne du tube de quartz 53
sur toute sa longueur, excepté dans sa partie 53a laissée transparente aux ondes électromagnétiques.
[0053] A l'extrémité fermée de la canalisation 52, c'est-à-dire à son extrémité proche de
la canalisation de gaz 30, un passage étanche au vide est créé dans ladite canalisation
52, par lequel un fil électrique assure une liaison entre la source d'alimentation
50 et le tube en métal réfractaire 55.
[0054] Sur la figure 3, on a représenté la position des tubes 53, 54 et 55 en fonction du
point de résonance C.
[0055] En effet, dans une source d'ions à injection coaxiale de l'onde électromagnétique,
telle que la source d'ions décrite précédemment, les champs électriques (non représentés
sur les figures) des ondes électromagnétiques sont optimum aux points A, B et C représentés
sur la figure 2. Plus précisément, la résonance RCE est optimisée au point C, lorsque
le champ électrique atteint sa valeur maximale, qu'il est perpendiculaire au champ
d'induction résonante et qu'il est sur un cylindre de faible rayon, c'est-à-dire sur
la seconde canalisation 52 de faible rayon.
[0056] De plus, lorsque cette résonance RCE optimisée existe, le plasma de préionisation
créé dans la canalisation 52 est tellement dense qu'il devient pratiquement conducteur,
s'épanouissant jusqu'à la surface équimagnétique 13, atteignant ainsi le point B.
Cette surface équimagnétique 13 contient le plasma confiné qui est apte à absorber
et à réfléchir les ondes électromagnétiques, rendant ainsi ladite surface 13 semi-conductrice,
du point B jusqu'au point A.
[0057] Ainsi, d'un point de vue électromagnétique, la source d'ions RCE se comporte comme
une ligne coaxiale jusqu'au point A de l'axe magnétique 15. Cette ligne ouverte est
alors le siège d'ondes stationnaires entre le point A et le piston 45.
[0058] On comprend alors que la position de la canalisation 52 par rapport au point C doit
être définie avec précision. Cette position est représentée sur la figure 3 par la
distance critique L entre la partie non transparente de la canalisation 52 et le point
de résonance C.
[0059] Le plasma préionisé, créé en C, diffuse non seulement jusqu'au point B mais également
jusqu'au tube en métal 55 qui est conducteur. Le tube en métal 55 peut donc être interrompu
à une distance L du point C, cette distance critique L étant déterminée à partir de
l'égalité L = C/F, dans laquelle C est la célérité de la lumière et F la fréquence
de l'onde électromagnétique.
[0060] Selon un exemple de réalisation, et pour une fréquence F de 10 120 MHz, la distance
L entre le point C et le tube 55 est de 2,96 cm.
[0061] D'un point de vue électromagnétique, la transmission de l'onde électromagnétique
s'effectue comme si le plasma de préionisation prolongeait aussi le tube en cuivre
54. Le système d'ondes stationnaires entre le point A et le piston 45 (figure 2) n'est
donc pas perturbé. Aussi, l'onde électromagnétique issue du générateur 3 est transmise
au plasma jusqu'au point A d'où elle est réfléchie jusqu'au piston 45 qui la renvoie
dans le plasma, et ainsi de suite, jusqu'à ce que l'onde soit totalement absorbée
par le plasma dans le procédé de résonance cyclotronique électronique.
[0062] Ainsi, la polarisation positive de la canalisation 52 par une source d'alimentation
50 permet d'isoler le plasma préionisé dans ladite canalisation et le plasma confiné
dans la surface équimagnétique 13 de façon à obtenir l'établissement optimum du champ
électrique E d'extraction des ions sans perturber la transmission des ondes électromagnétiques
nécessaires au phénomène de RCE.
[0063] Ce dispositif, tel que décrit, permet d'accroître les performances d'une source d'ions
connue (telle que celle représentée sur la figure 1) d'un facteur 3 à 4.
1. Source d'ions à résonance cyclotronique électronique comprenant :
- une enceinte (1) contenant un plasma d'ions et d'électrons formés par résonance
cyclotronique électronique ;
- une structure magnétique (11) entourant l'enceinte et créant, à l'intérieur de celle-ci,
deux champs magnétiques respectivement radial et axial assurant un confinement dans
l'enceinte ;
- un système d'extraction des ions de l'enceinte connecté à une source (33) d'alimentation
électrique ;
- une cavité (20) de transition reliée à un générateur (3) d'ondes électromagnétiques
;
- une première canalisation (21), conductrice, reliant de façon étanche au vide l'enceinte
et la cavité ; et
- une seconde canalisation (52), au moins en partie conductrice, traversant axialement
la première canalisation ainsi que la cavité et débouchant dans l'enceinte,
caractérisée en ce que la seconde canalisation, dans laquelle se produit une résonance
en un point de résonance C, est connectée à une seconde source (50) d'alimentation
électrique.
2. Source d'ions selon la revendication 1, caractérisée en ce que la première et la seconde
source d'alimentation électrique sont identiques et de même polarité, de façon à porter
l'enceinte et la seconde canalisation au même potentiel par rapport à la masse.
3. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisée en ce
que la seconde canalisation comprend :
- un tube transparent (53) en un matériau diélectrique ;
- un tube conducteur (54) de faible épaisseur, recouvrant en partie le tube transparent
;
- un tube de métal réfractaire (55), de faible épaisseur, dispose contre une partie
de la face interne du tube transparent.
4. Source d'ions selon la revendication 3, caractérisée en ce que le tube conducteur
recouvre le tube transparent depuis sa partie traversant la cavité jusqu'à une distance
critique L = C/F du point de résonance C.
5. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 3 et 4, caractérisée en ce
que le tube en métal réfractaire recouvre la partie de la face interne du tube transparent
depuis sa partie traversant la cavité jusqu'à une distance critique L = C/F du point
de résonance C.
6. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 3 à 5, caractérisée en ce
que le tube transparent est un tube de quartz.
7. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 3 à 6, caractérisée en ce
que le tube conducteur est en cuivre.
8. Source d'ions selon l'une quelconque des revendications 3 à 7, caractérisée en ce
que le tube en métal refractaire est réalisé par une feuille de tantale.