ANODE D'ECRAN PLAT DE VISUALISATION

Description

[0001] La présente invention concerne une anode d'écran plat de visualisation et un procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation. Elle s'applique plus particulièrement à la réalisation de connexions d'éléments luminescents d'une anode d'un écran couleur, tel qu'un écran couleur à micropointes.

[0002] La figure 1 représente la structure d'un écran plat à micropointes du type auquel se rapporte l'invention.

[0003] Un tel écran à micropointes est essentiellement constitué d'une cathode 1 à micropointes 2 et d'une grille 3 pourvue de trous 4 correspondant aux emplacements des micropointes 2. La cathode 1 est placée en regard d'une anode cathodoluminescente 5 dont un substrat de verre 6 constitue la surface d'écran.

[0004] Le principe de fonctionnement et le détail de la constitution d'un tel écran à micropointes sont décrits dans le brevet américain numéro 4 940 916 du Commissariat à l'Energie Atomique.

[0005] La cathode 1 est organisée en colonnes et est constituée, sur un substrat de verre 10, de conducteurs de cathode organisés en mailles à partir d'une couche conductrice. Les micropointes 2 sont réalisées sur une couche résistive 11 déposée sur les conducteurs de cathode et sont disposées à l'intérieur des mailles définies par les conducteurs de cathode. La figure 1 représentant partiellement l'intérieur d'une maille, les conducteurs de cathode n'apparaissent pas sur cette figure. La cathode 1 est associée à la grille 3 qui est elle organisée en lignes. L'intersection, d'une ligne de la grille 3 et d'une colonne de la cathode 1, définit un pixel.

[0006] Ce dispositif utilise le champ électrique créé entre la cathode 1 et la grille 3 pour que des électrons soient extraits des micropointes 2 vers des éléments luminophores 7 de l'anode 5. L'anode 5 est pourvue de bandes alternées d'éléments luminophores 7, correspondant chacune à une couleur (Bleu, Rouge, Vert). Les bandes sont séparées les unes des autres par un isolant 8. Les éléments luminophores 7 sont déposés sur des électrodes 9, constituées de bandes correspondantes d'une couche conductrice transparente telle que de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO). Les ensembles de bandes bleues, rouges, vertes sont alternativement polarisés par rapport à la cathode 1, pour que les électrons extraits des micropointes 2 d'un pixel de la cathode/grille soient alternativement dirigés vers les éléments luminophores 7 en vis à vis de chacune des couleurs.

[0007] La commande de sélection du luminophore 7 (le luminophore 7g en figure 1) qui doit être bombardé par les électrons issus des micropointes 2 de la cathode 1 impose de commander, sélectivement la polarisation des éléments luminophores 7 de l'anode 5, couleur par couleur.

[0008] La figure 2 illustre schématiquement une structure d'anode classique. Cette figure représente partiellement, en perspective, une anode 5, réalisée selon des techniques connues. Des pistes d'interconnexion 12 et 13 sont réalisées pour deux (7g, 7b) des trois couleurs de luminophores 7. Ces pistes sont respectivement raccordées à des plots 15, 16 destinés à être connectés, par l'intermédiaire de liaisons électriques 17 et 18, à un système de commande (non représenté). Le raccordement des luminophores 7r de la troisième couleur s'effectue au moyen d'un connecteur 20 à pointes 19, sur des plots 14 ménagés à une extrémité de chacune des bandes de luminophores 7r de la couleur correspondante. La même technique est utilisée pour le dépôt des luminophores 7g, 7b, 7r sur les bandes de conducteurs d'anode auxquelles ils sont associés. De fait, les luminophores 7 sont déposés en trois étapes successives de cataphorèse (une par couleur). On doit donc pouvoir exciter sélectivement les bandes de conducteurs d'anode associées à chaque couleur.

[0009] Le recours à des connecteurs à pointes impose des connexions multiples, ce qui complique la constitution de l'anode et nuit, notamment, à sa fiabilité. En outre, les techniques classiques entraînent une forte consommation en métaux coûteux, en particulier en or, qui est due à la fois à la structure de l'anode et à son processus de fabrication.

[0010] La présente invention a pour objet de pallier les inconvénients des techniques existantes en proposant une anode d'écran plat de visualisation qui simplifie les liaisons entre les séries de conducteurs d'anode et le système de commande. L'invention vise également à simplifier la fabrication d'une telle anode, et notamment le dépôt des luminophores, en autorisant l'utilisation des mêmes liaisons que ce soit pour le fonctionnement de l'anode ou pour le dépôt des luminophores. L'invention a en outre pour objet de proposer un procédé de réalisation d'une telle anode qui réduit la consommation en métaux coûteux.

[0011] Pour atteindre ces objets, la présente invention prévoit un procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation, qui comprend les phases suivantes :

1) formation, sur un substrat, de trois séries de conducteurs d'anode en bandes parallèles alternées, de deux premières pistes d'interconnexion de deux premières séries de conducteurs d'anode, de deux premiers plots uniques de raccordement électrique aux deux premières pistes respectives, et de plots d'une troisième série de conducteurs d'anode ;

2) dépôt d'une couche isolante et réalisation, dans cette couche isolante, d'ouvertures de réception des luminophores à l'aplomb des conducteurs d'anode, de fenêtres à l'aplomb des plots;

3) formation d'une troisième piste d'interconnexion et d'un troisième plot unique de raccordement électrique à la troisième piste d'interconnexion; et

4) dépôts de luminophores sur les conducteurs d'anode dans les ouvertures de la couche isolante.

[0012] Selon un mode de réalisation de la présente invention, la première phase comprend le remplissage des fenêtres par un matériau conducteur.

[0013] Selon un mode de réalisation de la présente invention, la première phase comprend les étapes suivantes :

• dépôt pleine plaque d'une couche de conducteurs d'anode sur un substrat de verre ; et
• gravure selon un motif de lignes, pour former les trois séries de bandes de conducteurs d'anode dans la couche de conducteurs d'anode, et les deux premières pistes d'interconnexion ainsi que les plots.

[0014] Selon un mode de réalisation de la présente invention, le procédé comprend en outre l'étape de dépôt sur au moins deux côtés du pourtour de la plaque d'une couche conductrice.

[0015] Selon un mode de réalisation de la présente invention, la troisième phase comprend en outre l'étape de dépôt d'un matériau conducteur de remplissage dans les fenêtres.

[0016] Selon un mode de réalisation de la présente invention, le remplissage des fenêtres est obtenu par dépôt autocatalytique.

[0017] Selon un mode de réalisation de la présente invention, la troisième piste d'interconnexion et le troisième plot de raccordement sont réalisés par dépôt pleine plaque d'un précurseur organométallique, irradiation de ce dernier au moyen d'un laser, et élimination du précurseur non irradié au moyen d'un solvant approprié.

[0018] Selon un mode de réalisation de la présente invention, la quatrième phase de dépôt des luminophores consiste à effectuer un dépôt cataphorétique en trois étapes, en excitant successivement les bandes de conducteurs d'anode des trois couleurs au moyen des plots de raccordement électrique auxquels les bandes sont respectivement reliées.

[0019] La présente invention prévoit également une anode d'écran plat de visualisation, du type comportant au moins trois séries de bandes parallèles alternées de conducteurs d'anode, comportant pour chaque série de bandes de conducteurs d'anode, un plot unique de raccordement électrique, chaque plot étant rendu accessible, par l'intermédiaire de pistes conductrices depuis un même niveau de surface de l'anode.

[0020] Selon un mode de réalisation de la présente invention, l'anode comporte pour chaque série de bandes de conducteurs d'anode, une piste d'interconnexion des bandes de conducteurs, pourvue d'un plot, tous les plots étant disposés sur un même côté de l'anode.

[0021] Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles :

les figures 1 et 2, qui ont été décrites précédemment, sont destinées à exposer l'état de la technique et le problème posé ;

la figure 3 représente, en vue de dessous, une anode d'écran plat selon l'invention ;

les figures 4 à 6 illustrent schématiquement un mode de mise en oeuvre d'une première phase du procédé de réalisation d'une anode d'écran plat, selon l'invention ;

les figures 7A à 7E représentent, schématiquement, un mode de mise en oeuvre d'une deuxième phase du procédé de réalisation d'une anode d'écran plat, selon l'invention ;

les figures 8A à 8F représentent, schématiquement et en coupe, un mode de mise en oeuvre d'une troisième phase du procédé de réalisation d'une anode d'écran plat, selon l'invention ; et

les figures 9A à 9C représentent, schématiquement, un mode de mise en oeuvre d'une quatrième et dernière phase du procédé de réalisation d'une anode d'écran plat, selon l'invention.

[0022] La figure 3 représente schématiquement, en élévation une anode 5 d'écran plat selon l'invention. Comme on peut le constater, des pistes d'interconnexion 12, 13 et 21 ainsi que des plots de raccordement 15, 16 et 22 sont respectivement créés pour chacune des trois séries de conducteurs d'anode 9g, 9b et 9r, respectivement associées à une couleur (vert, bleu, rouge) de luminophores 7g, 7b, 7r. Les pistes d'interconnexion sont réalisées à deux niveaux différents. Deux premières pistes 12 et 13 sont formées directement sur ou par le matériau constituant la couche de conducteurs d'anode 9. Une troisième piste 21 est formée après interposition d'une couche isolante 8. Les luminophores 7g, 7b et 7r sont déposés dans des ouvertures 23 pratiquées dans cette couche isolante 8, à l'aplomb des conducteurs d'anode 9g, 9b et 9r, dans la surface utile de l'écran. Les plots 15, 16 et 22 permettent non seulement d'activer la série de conducteurs d'anode 9g, 9b ou 9r souhaitée lors du dépôt des luminophores 7, mais également de simplifier considérablement les liaisons de l'anode 5 au système de commande. Un seul plot par couleur est désormais suffisant pour polariser l'anode 5, lors du fonctionnement de l'écran plat.

[0023] Les figures 4 à 6 illustrent un exemple de mise en oeuvre d'une première phase du procédé selon l'invention. Cette première phase consiste, notamment, à réaliser des conducteurs d'anode 9 destinés à recevoir des éléments luminophores, et deux premières pistes d'interconnexion de deux premières séries de conducteurs d'anode 9g et 9b.

[0024] Au cours d'une première étape (vue en perspective de la figure 4), on dépose sur un substrat de verre 6, une couche conductrice transparente, par exemple à base d'oxyde d'indium et d'étain (ITO), destinée à constituer des conducteurs d'anode 9.

[0025] La figure 5B est une vue en coupe selon la ligne A-A', indiquée en traits mixtes, à la représentation en élévation de la figure 5A. Une deuxième étape (figure 5A et 5B) consiste à déposer une couche conductrice 24. Cette couche conductrice 24 est de préférence constituée d'une fine couche d'accrochage 24A sur laquelle est déposée une couche métallique 24B. Cette couche 24 est déposée sur au moins deux bords de la surface de la couche d'ITO. En pratique, ce dépôt est effectué sur trois bords pour que les trois pistes d'interconnexion qui seront réalisées par la suite se retrouvent du même côté de l'anode 5. La largeur de cette couche 24 est telle qu'elle ne recouvre pas la surface utile de l'anode 5. Cela permet une économie notable des matériaux constitutifs de cette couche 24.

[0026] Les figures 6B, 6C et 6D sont des vues en coupes, respectivement selon les lignes B-B', C-C' et D-D', indiquées en traits mixtes, à la représentation en élévation de la figure 6A. Au cours d'une troisième étape (figures 6A à 6D), on grave les couches 24 et 9 de façon à former, à la fois trois séries de bandes alternées 9g, 9r et 9b de conducteurs d'anode, deux pistes d'interconnexion 12 et 13 de deux premières séries 9g, 9b, et des plots 14 pour chacune des bandes de la troisième série 9r. Un plot de raccordement, respectivement 15 et 16, est également formé sur chaque piste d'interconnexion 12 et 13. Sur la figure 6A, on a indiqué par le pointillé 24 la limite intérieure de la couche 24 déposée à l'étape précédente. Les bandes de conducteurs d'anode 9g et 9b sont respectivement prolongées à une de leur extrémité, hors de la surface utile de l'écran, pour être connectées à la piste d'interconnexion 12 ou 13. Les plots 14, 15 et 16 sont de préférence ramenés sur un même côté de l'anode 5.

[0027] A l'issue de cette première phase, on dispose des conducteurs d'anode 9 en ITO ainsi que de deux pistes d'interconnexions 12 et 13, et de plots 14, 15, 16 en métal ou autre matériau à haute conductivité.

[0028] Selon une variante simplifiée de la présente invention, lors de cette première phase, on ne procède pas au dépôt de la couche métallique 24. Alors, la structure de bandes de conducteurs d'anode 9r, 9b, 9g, de pistes d'interconnexion 12, 13, et de plots 14, 15, 16 est formée directement dans la couche conductrice transparente 9.

[0029] Les figures 7A à 7E illustrent des étapes successives d'une deuxième phase du procédé selon l'invention. La figure 7A est une vue en coupe selon la ligne C-C' indiquée en traits mixtes aux figures 6A et 7B. La figure 7B est une vue de dessus représentant une partie de la figure 6A. Les figures 7C, 7D, et 7E sont respectivement des vues en coupe selon les lignes C-C', D-D' et E-E', indiquées en traits mixtes à la figure 7B.

[0030] Au cours d'une première étape (figure 7A), on dépose sur l'empilement issu de la première phase, une couche d'un matériau isolant 8.

[0031] Cette couche isolante 8 est ensuite gravée, lors d'une deuxième étape, pour former des ouvertures 23 à l'aplomb des conducteurs d'anode 9 dans la surface utile de l'anode 5. Cette gravure forme également des fenêtres 25 et 26 à l'aplomb des plots de raccordement 15 et 16 et à l'aplomb 27 des plots 14.

[0032] Les figures 8A à 8F illustrent deux étapes d'une troisième phase du procédé selon l'invention. Elles montrent des vues en coupe selon les lignes C-C', D-D' et E-E' de la représentation de la figure 7B. Les figures 8A et 8D sont des vues en coupe selon la ligne C-C', les figures 8B et 8E sont des vues en coupe selon la ligne D-D', et les figures 8C et 8F sont des vues en coupe selon la ligne E-E'.

[0033] Au cours d'une première étape (figures 8A à 8C), on réalise à partir de l'empilement issu de la deuxième phase, un remplissage 28 de toutes les fenêtres 25, 26 et 27 qui ont été ouvertes à l'aplomb des plots 15, 16 (figure 8C) et 14 (figure 8B). Cette étape consiste à effectuer un dépôt autocatalytique à partir d'un bain contenant le métal que l'on souhaite déposer, sous forme de sel. L'avantage d'un tel dépôt est qu'il est sélectif, ne se dépose que sur les surfaces conductrices des fenêtres 25, 26 et 27, sans remplir les ouvertures 23 dont la surface est constituée d'ITO (figure 8A). Dans l'application de l'invention, un tel dépôt permet de réaliser des économies sensibles en le matériau constituant les remplissages 28, qui est par exemple de l'or.

[0034] Une deuxième étape (figures 8D à 8F) consiste à réaliser une piste d'interconnexion 21 se terminant par un plot de raccordement 22 (figure 8F), des conducteurs d'anode 9r de la troisième série de bandes. Pour ce faire, on relie entre elles, les surfaces apparentes des remplissages 28r, à l'aplomb des plots 14. Cette deuxième étape peut par exemple être réalisée au moyen d'un dépôt pleine plaque d'un matériau conducteur 29 qui est ensuite gravé pour former la piste 21 et le plot de raccordement 22. Ce matériau 29 doit pouvoir être gravé sélectivement par rapport au matériau de remplissage 28.

[0035] On obtient ainsi, pour chacune des trois séries de conducteurs d'anode 9g, 9b et 9r, une piste d'interconnexion 12, 13 et 21 qui, par l'intermédiaire des remplissages 28g, 28b et 28r, et des plots 15, 16 et 14, autorise un raccordement unique sans passages de marche pour la polarisation des conducteurs d'anode associés à une même couleur.

[0036] Selon une variante simplifiée de la présente invention dans laquelle, lors de la première phase, les motifs de bandes, de pistes et de plots ont été directement formés dans la couche conductrice transparente 9, la première étape, de remplissage, de cette troisième phase est omise. On procède alors directement à la formation de la piste d'interconnexion 21 et de son plot 22. Ceci peut par exemple être réalisé par sérigraphie, le matériau sérigraphié pénétrant dans les ouvertures 27 en contact avec les plots 14.

[0037] Les figures 9A à 9C illustrent une quatrième et dernière phase du procédé selon l'invention, qui correspond à une phase de dépôt des luminophores 7. Cette phase reprend les étapes des procédés classiques de dépôt des luminophores. On réalise ce dépôt de luminophores en trois étapes successives de cataphorèse. Chaque étape correspond au dépôt d'une couleur de luminophores, par l'excitation convenable d'une série de conducteurs d'anode 9. Ainsi, par exemple, on commence au cours d'une première étape (figure 9A), par déposer des luminophores verts 7g dans les ouvertures 23 qui mettent à nu les conducteurs d'anode 9g, en excitant ces derniers par l'intermédiaire du remplissage éventuel 28g, du plot de raccordement 15 et de la piste d'interconnexion 12. Puis, dans une deuxième étape (figure 9B) on répète cette opération avec des luminophores bleus 7b, en excitant les conducteurs d'anode 9b par l'intermédiaire du remplissage 28b, du plot de raccordement 16 et de la piste d'interconnexion 13. Enfin, dans une troisième étape (figure 9C) on dépose des luminophores rouges 7r, en excitant les conducteurs d'anode 9r par l'intermédiaire du plot de raccordement 22, de la piste d'interconnexion 21, des remplissages 28r, et des plots 14.

[0038] On obtient ainsi une anode 5 telle que représentée à la figure 3.

[0039] Le procédé décrit ci-dessus, permet de créer des pistes d'interconnexion des bandes de luminophores pour chaque couleur, qui sont utilisées à la fois pour le dépôt des luminophores, et pour la polarisation de l'anode 5 lors du fonctionnement de l'écran. On évite ainsi le recours à un connecteur à pointes, et on simplifie les liaisons entre l'anode et le système de commande. En outre, le procédé selon l'invention est particulièrement économe en matériaux de dépôt.

[0040] On décrira maintenant un exemple particulier de réalisation d'une anode selon l'invention, en indiquant pour chaque étape, les matériaux employés ainsi que le processus opératoire. Pour certaines étapes, des variantes seront indiquées sur la base d'un autre matériau.

Phase 1 :

[0041] 

Etape 1 : Dépôt pleine plaque sur un substrat 6, d'une couche conductrice transparente 9, par exemple à base d'oxyde d'indium et d'étain.

Etape 2 : Dépôt, par exemple par sérigraphie, d'une couche d'or (variante 1), de nickel (variante 2), 24B avec interposition d'une fine couche d'accrochage 24A, par exemple de chrome, sur trois côtés du pourtour de la plaque.

Etape 3 : Gravure de conducteurs d'anode 9 organisés en trois séries de bandes 9g, 9b et 9r, de pistes d'interconnexion 12 et 13 et de plots de raccordement 15 et 16 de deux premières séries, ainsi que de plots 14 de la troisième série. Cette gravure est par exemple une gravure chimique de motifs réalisés par photolithographie.

Phase 2 :

[0042] 

Etape 1 : Dépôt pleine plaque d'une couche isolante 8. Il s'agit, par exemple, d'un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à pression ordinaire d'oxyde de silicium (SiO₂).

Etape 2 : Gravure de la couche isolante 8, pour former des ouvertures 23 de réception de luminophores à l'aplomb des conducteurs d'anode 9, ainsi que des fenêtres 25, 26 et 27 à l'aplomb des plots 15, 16 et 14. Cette gravure est par exemple réalisée par plasma de trifluorométhane (CHF₃).

Phase 3 :

[0043] 

Etape 1 : Dépôt autocatalytique d'or (variante 1), de cuivre (variante 2) pour remplir les fenêtres 25, 26 et 27 d'un matériau conducteur.

Variante 1 : Ce dépôt est par exemple réalisé dans un bain à base de sulfites (sulfite de sodium (Na₂SO₃), disulfite or-sodium (Na₃Au(SO₃)₂)) ou à base de cyanure (KAuCN₂) comme source d'ions métalliques à déposer, de formaldéhyde (HCHO), d'hypophosphite ou autres comme agent réducteur, et d'éthylènediaminetétracide (EDTA) comme complexant des ions métalliques.

Variante 2 : Ce dépôt est par exemple réalisé dans une solution alcaline à base de sels de cuivre (sulfates et chlorures de cuivre) comme source d'ions métalliques à déposer, de formaldéhyde (HCHO) comme agent réducteur, et d'éthylènediaminetétracide (EDTA) ou de tartrates comme complexant des ions métalliques.
Dans les deux variantes, on ajoute de préférence aux solutions, un régulateur de pH (NaOH ou autres) et d'autres additifs susceptibles d'améliorer les performances (vitesse, etc.) du dépôt et la stabilité des bains. Ces additifs peuvent être par exemple, du cyanure de sodium (NaCN) dans le cas d'un bain de dépôt de cuivre, ou du bromure de potassium (KBr), du 1-2 diaminoéthane, du chlorure d'ammonium (NH₄Cl), du citrate de sodium ou autres dans le cas d'un bain de dépôt d'or.

Etape 2 : Dépôt pleine plaque d'une couche de précurseur organométallique 29. Puis, irradiation localisée de cette couche 29 par écriture laser, suivant le tracé d'une piste d'interconnexion 21 des surfaces apparentes des remplissages 28r formés dans les fenêtres 27. Enfin, élimination de la couche 29 aux endroits où elle n'a pas été irradiée par le laser, par dissolution au moyen d'un solvant approprié. L'épaisseur de l'élimination obtenue est déterminée par la taille du faisceau, la puissance du laser (par exemple de l'ordre du Watt), la nature du support de la couche 29, et la vitesse du balayage.

Variante 1 : Le précurseur organométallique 29 utilisé est une poudre d'acétate de palladium (Pd(CH₃COO)₂) dissoute dans du chloroforme (HCCl₃)).

Variante 2 : Le précurseur organométallique 29 utilisé est du formiate de cuivre (Cu(HCOO)₂).

[0044] Ces précurseurs peuvent être décomposés à des températures de 300 à 500°C, ce qui est adapté à l'emploi, par exemple, d'un laser "eximer" ou d'un laser à argon dont le rayonnement est dans le domaine des ultraviolets ou du visible.

[0045] Cette deuxième étape peut encore être remplacée par une simple sérigraphie.

Phase 4 :

[0046] 

Etape 1 : Dépôt par cataphorèse, avec excitation des conducteurs d'anode 9g de la première série, de luminophores verts 7g.

Etape 2 : Dépôt par cataphorèse, avec excitation des conducteurs d'anode 9b de la deuxième série, de luminophores bleus 7b.

Etape 3 : Dépôt par cataphorèse, avec excitation des conducteurs d'anode 9r de la troisième série, de luminophores rouges 7r.

[0047] Selon une variante du procédé objet de l'invention, une étape de dépôt autocatalytique, par exemple d'or ou de cuivre, peut être intercalée entre les phases 1 et 2 pour renforcer éventuellement l'épaisseur des pistes d'interconnexion 12 et 13, préalablement au dépôt de la couche isolante 8.

[0048] Selon une autre variante du procédé objet de l'invention, l'étape 2 de la phase 1, c'est-à-dire le dépôt périphérique de la couche 24, est réalisé par gravure au laser d'un précurseur organométallique, tel que par exemple de l'acétate de palladium.

[0049] En outre, chacun des matériaux ou constituants décrits pourra être remplacé par un ou plusieurs constituants possédant des caractéristiques conformes à leur destination. De même, chacune des méthodes de dépôt ou de gravure décrite pourra être remplacée par une gravure (sèche ou humide) remplissant la même fonction.

Revendications

1. Procédé de réalisation d'une anode (5) d'écran plat de visualisation, caractérisé en ce qu'il comprend les phases suivantes :

1) formation, sur un substrat (6), de trois séries de conducteurs d'anode (9) en bandes parallèles alternées (9g, 9b, 9r), de deux premières pistes d'interconnexion (12, 13) de deux premières séries de conducteurs d'anode (9g, 9b), de deux premiers plots uniques de raccordement (15, 16) électrique aux deux premières pistes respectives, et de plots (14) d'une troisième série de conducteurs d'anode (9r) ;

2) dépôt d'une couche isolante (8) et réalisation, dans cette couche isolante (8), d'ouvertures (23) de réception des luminophores (7) à l'aplomb des conducteurs d'anode (9), de fenêtres (25, 26, 27) à l'aplomb des plots (15, 16, 14) ;

3) formation d'une troisième piste d'interconnexion (21) et d'un troisième plot unique de raccordement (22) électrique à la troisième piste d'interconnexion ; et

4) dépôts de luminophores (7) sur les conducteurs d'anode (9) dans les ouvertures (23) de la couche isolante (8).

2. Procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première phase comprend le remplissage des fenêtres (25, 26, 27) par un matériau conducteur.

3. Procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première phase comprend les étapes suivantes :

- dépôt pleine plaque d'une couche de conducteurs d'anode (9) sur un substrat de verre (6) ; et

- gravure selon un motif de lignes, pour former les trois séries de bandes de conducteurs d'anode (9g, 9b, 9r) dans la couche de conducteurs d'anode (9), et les deux premières pistes d'interconnexion (12, 13) ainsi que les plots (15, 16, 14).

4. Procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'il comprend en outre l'étape de dépôt sur au moins deux côtés du pourtour de la plaque d'une couche conductrice.

5. Procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que la troisième phase comprend en outre l'étape de dépôt d'un matériau conducteur de remplissage (28g, 28b, 28r) dans les fenêtres (25, 26, 27).

6. Procédé de réalisation d'une anode selon la revendication 5, caractérisé en ce que le remplissage (28) des fenêtres (25, 26, 27) est obtenu par dépôt autocatalytique.

7. Procédé de réalisation d'une anode selon la revendication 1, caractérisé en ce que la troisième piste d'interconnexion (21) et le troisième plot de raccordement (22) sont réalisés par dépôt pleine plaque d'un précurseur organométallique (29), irradiation de ce dernier au moyen d'un laser, et élimination du précurseur non irradié au moyen d'un solvant approprié.

8. Procédé de réalisation d'une anode d'écran plat de visualisation selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la quatrième phase de dépôt des luminophores (7g, 7b, 7r) consiste à effectuer un dépôt cataphorétique en trois étapes, en excitant successivement les bandes de conducteurs d'anode (9g, 9b, 9r) des trois couleurs au moyen des plots (15, 16, 22) de raccordement électrique auxquels les bandes (9g, 9b, 9r) sont respectivement reliées.

9. Anode (5) d'écran plat de visualisation, du type comportant au moins trois séries de bandes parallèles alternées de conducteurs d'anode (9g, 9b, 9r), caractérisée en ce qu'elle comporte pour chaque série de bandes de conducteurs d'anode (9g, 9b, 9r), un plot unique (15, 16, 22) de raccordement électrique, chaque plot étant rendu accessible, par l'intermédiaire de pistes conductrices (12, 13, 21) depuis un même niveau de surface de l'anode (5).

10. Anode d'écran plat de visualisation selon la revendication 9, caractérisée en ce qu'elle comporte pour chaque série de bandes de conducteurs d'anode (9g, 9b, 9r), une piste d'interconnexion (12, 13, 21) des bandes de conducteurs (9g, 9b, 9r), pourvue d'un plot (15, 16, 22), tous les plots étant disposés sur un même côté de l'anode (5).

Ansprüche

1. Verfahren zur Herstellung einer Anode (5) eines flach-ebenen Anzeige- bzw. Bildschirms, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren die folgenden Phasen umfaßt:

(1) Herstellung auf einem Substrat (6) von drei Reihen von Anodenleitern (9) in Form paralleler alternierender Bänder bzw. Streifen (9g, 9b, 9r), von zwei ersten Zwischenverbindungsbahnen bzw. Pfaden (12, 13) der beiden ersten Reihen von Anodenleitern (9g, 9b), von zwei ersten einzigen gemeinsamen elektrischen Anschlußkontakten (15, 16) zu den zwei betreffenden ersten Zwischenverbindungsbahnen bzw. -pfaden, sowie von Anschlußkontakten (14) einer dritten Reihe von Anodenleitern (9r);

(2) Aufbringen einer Isolierschicht (8) und Erzeugen von Ausnehmungen bzw. Öffnungen (23) in dieser Isolierschicht (8) zur Aufnahme von Leuchtstoffen (7) in Ausrichtung mit den Anodenleitern (9), sowie von Fenstern (25, 26, 27) in Ausrichtung mit den Anschlußkontakten (15, 16, 14);

(3) Erzeugen einer dritten Zwischenverbindungsbahn (21) und eines dritten einzigen gemeinsamen elektrischen Anschlußkontakts (22) zu der dritten Zwischenverbindungsbahn; sowie

(4) Aufbringungen bzw. Abscheidungen von Leuchtstoffen (7) auf den Anodenleitern (9) in den Öffnungen bzw. Ausnehmungen (23) der Isolierschicht (8).

2. Verfahren zur Herstellung einer Anode eines flach-ebenen Anzeige- bzw. Bildschirms nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Phase die Ausfüllung der Fenster (25, 26, 27) mit einem Leitermaterial umfaßt.

3. Verfahren zum Herstellen einer Anode eines flach-ebenen Anzeige- bzw. Bildschirms nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Phase die folgenden Stufen umfaßt:

- ganzflächige Aufbringung einer Anodenleiterschicht (9) auf einem Glassubstrat (6); sowie

- Ätzen gemäß einem Linienmuster zur Bildung der drei Reihen von Anodenleiterstreifen bzw. -bändern (9b, 9g, 9r) in der Anodenleiterschicht (9) sowie der zwei ersten Zwischenverbindungsbahnen bzw. -pfade (12, 13) sowie der Anschlußkontakte (15, 16, 14).

4. Verfahren zur Herstellung einer Anode eines flach-ebenen Anzeige- bzw. Bildschirms nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren des weiteren die Stufe der Aufbringung einer Leiterschicht auf wenigstens zwei Seiten des Umfangs der Platte umfaßt.

5. Verfahren zur Herstellung einer Anode eines flachen Bildschirms gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Phase des weiteren die Stufe der Aufbringung eines Leitermaterials als Auffüllung (28g, 28b, 28r) in den Fenstern (25, 26, 27) umfaßt.

6. Verfahren zur Herstellung einer Anode nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet daß die Ausfüllung (28) der Fenster (25, 26, 27) durch autokatalytische (stromlose) Abscheidung erfolgt.

7. Verfahren zur Herstellung einer Kathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Zwischenverbindungsbahn (21) und der dritte Anschlußkontakt (22) durch ganzflächige Aufbringung eines organometallischen Vorläufermaterials (29), Bestrahlen dieses Vorläufermaterials mithilfe eines Lasers und Entfernen des nicht bestrahlten Vorläufermaterials mittels eines geeigneten Lösungsmittels erfolgt.

8. Verfahren zur Herstellung einer Anode eines flach-ebenen Bildschirms nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte Phase der Aufbringung von Leuchtstoffen (7g, 7b, 7r) in der Durchführung einer kataphoretischen Abscheidung in drei Stufen besteht, wobei aufeinanderfolgend die Anodenleiterstreifen (9g, 9b, 9r) der drei Farben mit Hilfe der elektrischen Anschlußkontakte (15, 16, 22), mit welchen die entsprechenden Streifen jeweils verbunden sind, angeregt werden.

9. Anode (5) für einen flach-ebenen Anzeige- bzw. Bildschirm des Typs mit drei Reihen von alternierenden parallelen Anodenleiter-Streifen (9g, 9b, 9r), dadurch gekennzeichnet, daß sie für jede Reihe von Anodenleiterstreifen (9g, 9b, 9r) einen einzigen elektrischen Anschlußkontakt (15, 16, 22) aufweist, wobei jeder Anschlußkontakt jeweils vermittels Leiterbahnen bzw. -pfaden (12, 13, 21) von ein und demselben Oberflächenniveau der Anode (5) zugänglich ist.

10. Anode für einen flach-ebenen Bildschirm nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß sie für jede Reihe von Anodenleiter-streifen (9g, 9b, 9r) eine mit einem Anschlußkontakt (15, 16, 21) versehene Zwischenverbindungsbahn (12, 13, 21) der Leiterstreifen (9g, 9b, 9r) aufweist, wobei sämtliche Anschlußkontakte auf derselben Seite der Anode angeordnet sind.

Claims

1. A fabrication method of an anode (5) of a flat display screen, characterized in that it includes the following phases:

1) forming, on a substrate (6), three series of anode conductors (9) in alternated parallel strips (9g, 9b, 9r), two first interconnection paths (12, 13) of the first two series of anode conductors (9g, 9b), first two single electrical connection pads (15, 16) to the first two paths, and pads (14) of a third series of anode conductors (9r);

2) depositing an insulating layer (8) and etching, in this insulating layer (8), holes (23) to receive phosphor elements (7) in register with the anode conductors (9), and windows (25, 26, 27) in register with the pads (15, 16, 14);

3) forming a third interconnection path (21) and one third electrical connection pad (22) to the third interconnection path; and

4) depositing phosphors (7) over the anode conductors (9) in the holes (23) of the insulating layer (8).

2. The method of claim 1, characterized in that the first phase includes the filling of the windows (25, 26, 27) with a conductive material.

3. The method of claim 1, characterized in that the first phase includes the following steps:

- depositing over the whole plate anode conductors (9) on a glass substrate (6); and

- etching according to a row pattern, to form the three series of strips of anode conductors (9g, 9b, 9r) in the anode conductor layer (9), and the first two interconnection paths (12, 13) as well as the pads (15, 16, 14).

4. The method of claim 3, characterized in that it further includes the step of depositing a conductive layer over at least two sides of the periphery of the plate.

5. The method of any of claims 1 to 4, characterized in that the third phase further includes the step of depositing a conductive filling material (28g, 28b, 28r) in the windows (25, 26, 27).

6. The method of claim 5, characterized in that the filling (28) of the windows (25, 26, 27) is achieved by electroless deposition.

7. The method of claim 1, characterized in that the third interconnection path (21) and the third connection pad (22) are achieved by depositing over the whole plate an organometallic precursor (29), irradiating the latter by laser, and removing the non-irradiated precursor by a suitable solvent.

8. The method of any of claims 1 to 7, wherein the fourth phase for depositing phosphors (7g, 7b, 7r) is achieved by a cataphoretic deposition in three steps, by successively exciting the anode conductive strips (9g, 9b, 9r) of the three colors through electrically connecting pads (15, 16, 22) to which the strips (9g, 9b, 9r) are respectively connected.

9. An anode (5) of a flat display screen including at least three series of alternated parallel strips of anode conductors (9g, 9b, 9r), characterized in that it includes for each series of anode conductor strips (9g, 9b, 9r), a single electrical connection pad (15, 16, 22), each pad being accessible through conductive paths (12, 13, 21) from a same surface level of the anode (5).

10. The anode of claim 9, characterized in that it includes for each series of anode conductor strips (9g, 9b, 9r), an interconnection path (12, 13, 21) of conductor strips (9g, 9b, 9r), provided with pads (15, 16, 22), all the pads being disposed on the same side of the anode (5).

Dessins