[0001] Die Erfindung betrifft ein Vormaterial zur Herstellung elektrischer Kontakte durch
Verbinden mit einem elektrisch leitfähigen, im wesentlichen aus Kupfer bestehenden
Kontaktträger-Band mittels Widerstandserwärmung, wobei das Vormaterial als Metallband
mit Kontaktbereich ausgebildet ist, welches an seiner mit dem Kontaktträger-Band verbindbaren
Bandunterseite eine Beschichtung aus einem Werkstoff aufweist, der im wesentlichen
aus Silber besteht, wobei der Schmelzpunkt des Werkstoffes der Beschichtung unterhalb
des Schmelzpunkts des Metallbandes liegt und ein Verfahren zur Herstellung von Vormaterial
und von Halbzeug für elektrische Kontakte.
[0002] Aus der DE-PS 42 16 224 ist ein Vormaterial zur Herstellung elektrischer Kontakte,
beispielsweise Relais-Kontakte, bekannt, bei dem das Vormaterial als Metallband mit
einem Kontaktbereich ausgebildet ist, das durch Verschweißen mit einem elektrisch
leitfähigen Kontaktträger auch mit einer elektrischen Leitfähigkeit von mehr als 15
m/(Ohm x mm
2) bzw. mehr als (15 S x 10
6)/m mittels Widerstandserwärmung verbunden wird; der Kontaktträger besteht im wesentlichen
aus Kupfer; die Bandoberflächenseite des mit Kontaktbereich bestehenden Metallbandes
weist strangartige Vorsprünge als Schweißwarzen auf, die eine Beschichtung enthalten,
die im wesentlichen aus Silber besteht, wobei der Schmelzpunkt des Werkstoffs der
Beschichtung unterhalb des Schmelzpunktes des Metallbandes liegt; das Metallband besteht
im wesentlichen aus Nickel, wobei der eigentliche Kontaktbereich auf der Basis einer
Gold-Legierung oder Silber-Palladium-Legierung gebildet ist.
[0003] Im Zuge zunehmender Miniaturisierung von Bauelementen und zugehörigen Kontakten erweist
sich die Anordnung von mehreren zueinander paralleln Vorsprüngen als problematisch.
[0004] Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, ein Metallband als Vormaterial zur Herstellung
elektrischer Kontakte anzugeben, das ein Kontaktprofil geringer Profilbreite aufweist,
und zur Widerstandsverschweißung auf ein Kontaktträger-Band hoher elektrischer Leitfähigkeit
von mehr als 15 m/(Ohm x mm
2), wie sie beispielsweise bei Kupfer vorliegt, geeignet ist.
[0005] Weiterhin stellt sich die Erfindung die Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung des
Metallbandes als Vormaterial anzugeben.
[0006] Darüberhinaus soll ein Verfahren zur Herstellung eines Halbzeuges für elektrische
Kontakte angegeben werden, bei dem das Metallband als Vormaterial mit dem Kontaktträger-Band
hoher Leitfähigkeit verbunden wird.
[0007] Die Aufgabe wird hinsichtlich des Vormaterials durch die kennzeichnenden Merkmale
des Anspruchs 1 gelöst.
[0008] Vorteilhafte Ausgestaltungen des Vormaterials sind in den Ansprüchen 2 bis 6 angegeben.
[0009] In einer bevorzugten Ausführungsform besteht der Kernbereich des Metallbandes im
wesentlichen aus Nickel; es ist jedoch auch möglich, einen Kernbereich aus einer Kupfer-Nickel-Legierung
vorzusehen.
[0010] Hinsichtlich des Verfahrens zur Herstellung eines Vormaterials wird die Aufgabe durch
die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 7 gelöst.
[0011] Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens zur Herstellung von Vormaterial sind
in den Ansprüchen 8 bis 10 angegeben.
[0012] Als vorteilhaft erweist sich die verhältnismäßig einfache Beschichtung der Vorsprünge
durch Walzplattieren.
[0013] Der Kontaktbereich für den späteren Arbeitskontakt besteht vorzugsweise aus einer
Gold- bzw. einer Silber-Palladium-Legierung; er kann in vorteilhafter Weise zusammen
mit der Beschichtung der Vorsprünge durch Walzplattieren aufgebracht werden.
[0014] Hinsichtlich des Verfahrens zur Herstellung eines Halbzeugs für elektrische Kontakte
wird die Aufgabe durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 11 gelöst.
[0015] Eine vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens zur Herstellung eines Halbzeugs für
elektrische Kontakte ist in Anspruch 12 angegeben.
[0016] Als besonders vorteilhaft erweist sich aufgrund eines einzelnen strangartigen Vorsprungs
eine Energieersparnis beim Schweißvorgang aufgrund des verringerten Schweißstroms,
gegenüber mehreren Vorsprüngen, sowie eine höhere Standzeit der zugehörigen Elektroden.
[0017] Im folgenden ist der Gegenstand der Erfindung anhand der Figuren 1a, 1b, 1c, 2a,
2b und 2c näher erläutert.
Figur 1a zeigt im Querschnitt das mit Kontaktbereich versehene Metallband als Vormaterial,
wobei die mit einem strangartigen Vorsprung versehene Bandoberflächenseite mit einem
Werkstoff beschichtet ist, der im wesentlichen aus Silber besteht;
Figur 1b zeigt im Querschnitt das in der Elektrodenvorrichtung eingesetzte Vormaterial,
wobei ebenfalls das Kontaktträger-Band im Querschnitt erkennbar ist; zwecks besserer
Übersicht ist die Elektrodenvorrichtung nur teilweise dargestellt.
Figur 1c zeigt den Kontaktprofilstrang nach seiner Verbindung mit dem Kontaktträger
als Halbzeug für elektrische Kontakte;
Figur 2a zeigt im Querschnitt das mit Kontaktbereich versehene Metallband, welches
an seiner dem Kontaktträger zugewandten Seite mit einer Silber-Beschichtung versehen
ist;
Figur 2b zeigt das in die Elektrodenvorrichtung eingespannte Metallband, wobei auch
das Kontaktträger-Band im Bereich der unteren Elektrode sichtbar ist; die Elektrodenvorrichtung
ist zwecks besserer Übersicht nur teilweise dargestellt.
Figur 2c zeigt den Kontaktprofilstrang als Halbzeug nach der Verbindung des Metallbandes
mit dem Metallträger.
[0018] Figur 1a zeigt als Vormaterial das Metallband 1, dessen Schweißhilfsträger bzw. Kernbereich
2 im wesentlichen aus Nickel oder einer Kupfer-Nickel-Basis-Legierung besteht; vorzugsweise
wird eine Legierung mit einem Nickel-Anteil von 30 Gewichts-%, einem Eisen-Anteil
von ca. 1 Gewichts-% sowie Rest Kupfer eingesetzt; in einer weiteren bevorzugten Ausführungsform
besteht der Kernbereich 2 des Metallbandes aus einer Legierung mit einem Nickel-Anteil
von 9 Gewichts-%, einem Zinn-Anteil von 2 Gewichts-% sowie Rest Kupfer. Auf der Oberseite
des Kernbereichs 2 befindet sich der eigentliche Kontaktbereich 3 für den späteren
Arbeitskontakt, der im wesentlichen aus Edelmetall, vorzugsweise aus einer Gold-Legierung
oder Silber-Palladium-Legierung besteht. Die Bandunterseite 4 des Kernbereichs 2 weist
in ihrer Mitte einen Vorsprung 5 als Schweißwarze auf, wobei die gesamte Bandunterseite
4 mit einer Beschichtung versehen ist, die im wesentlichen aus Silber besteht.
[0019] Die Herstellung eines solchen Metallbandes ist aus der DE-PS 42 16 224 bekannt.
[0020] Sowohl der Kernbereich 2, als auch der Kontaktbereich 3 des Metallbandes 1 weisen
im Querschnitt gesehen einen trapezförmigen Außenumfang auf, wobei sich die Profilbreite
in Richtung Vorsprung 5 stetig vergrößert.
[0021] Figur 1b zeigt das auf Kontaktträger-Band 8 aufgesetzte Metallband 1 in der Elektrodenvorrichtung;
die auf dem strangartigen Vorsprung 5 befindliche Beschichtung 6 liegt dabei direkt
auf der Oberfläche des Kontaktträger-Bandes 8 auf. Der Schweiß-Stromkreis wird über
die nur teilweise dargestellten Elektroden 9 und 10 geschlossen, wobei Elektrode 9
eine im Querschnitt gesehen trapezförmige Ausnehmung 11 aufweist, in welcher das Metallband
mit seiner Oberseite formschlüssig eingebracht ist, so daß das Metallband 1 mit seinem
beschichteten Vorsprung 5 exakt ausgerichtet auf der Oberfläche 12 des Kontaktträger-Bandes
8 ruht; der Schweiß-Stromkreis ist zwecks besserer Übersicht hier nicht dargestellt.
Anhand der Figur 1b ist erkennbar, daß sich im Schweiß-Stromkreis die Stromdichte
vom Metallband 1 ausgehend im Bereich des Vorsprunges 5 in Richtung zum Kontaktträger
8 zunehmend erhöht, wodurch auch eine zunehmende Wärmeleistung im Bereich des in der
Profilbreite sich verringernden Vorsprungs 5, bzw. im Bereich des benachbarten Kontaktträgers
entsteht; somit wird eine zunehmend höhere Wärmeleistung im Bereich des Vorsprungs
erzielt, so daß die Beschichtung 6 in der Anfangsphase eines Schweiß-Strom-Impulses
zum Schmelzen gebracht werden kann, worauf das Material der Beschichtung dann aufgrund
der Preßwirkung der Elektroden 9, 10 in den Bereich des Kontaktträgers 8 gedrückt
wird, und einen großflächigen Schmelzsee bis zum Rand des Metallbandes 1 bildet, der
nach der Erstarrung einen optimalen Kontaktstromdurchgang bietet; d.h., daß die Beschichtung
6 in der Anfangsphase des Schweiß-Strom-Impulses zum Schmelzen gebracht wird und daß
das Beschichtungsmaterial mit dem im wesentlichen aus Kupfer bestehenden Material
des Kontaktträgers eine Legierung bildet, die im wesentlichen aus Silber und Kupfer
besteht; als Material für das Kontaktträger-Band sind neben Kupfer auch Kupfer-Legierungen
geeignet, wie z.B. Bronze, Neusilber, Kupfer-Eisen-Legierung oder Kupfer-Beryllium-Legierung.
[0022] Figur 1c zeigt im Querschnitt einen Kontaktprofilstrang, nach dem er den in Figur
1b teilweise dargestellte Elektrodenvorrichtung verlassen hat und mit dem darunter
liegenden Kontaktträger-Band 8 elektrisch und mechanisch fest verbunden ist; anhand
Figur 1c ist auf einfache Weise erkennbar, daß die ursprünglich auf der Bandunterseite
4 des Metallbandes befindliche Beschichtung 6 sich von dem Vorsprung 5 und den benachbarten
Bereichen der Unterseite 4 entfernt hat und zusammen mit dem Kupfer im Bereich der
Oberfläche 12 des Kontaktträgers 8 einen mittels Schmelzvorgang durch Widerstandserwärmung
gebildeten Verbindungsbereich zwischen Kontaktträger-Band 8 und Metallband 1 aufweist;
während des eigentlichen Schweißvorganges wird durch Einwirkung des elektrischen Stromes
die mit Ziffer 13 bezeichnete Berührungsverbindungsstelle gemäß Figur 1b so hoch erwärmt,
bis sich das Silber aus dem Bereich der Beschichtung 6 und das Kupfer aus dem Oberflächenbereich
des Kontaktträgers 8 miteinander legieren und durch Einstellung der Schweißparameter
eine neue Legierung 14 entsteht, die dem Eutektikum für eine Legierung mit 28 Gewichts-%
Kupfer, Rest Silber (AgCu28) mit einem Schmelzpunkt bei 779°C entspricht, bzw. sehr
naheliegt; beim Aufschmelzen dieser Legerung erstreckt sich gegebenenfalls je nach
der Länge des Schweißintervalls die gebildete Legierung weitgehend über die gesamte
Breite der Unterseite 4 des Metallbandes 1.
[0023] Figur 2a zeigt ein Metallband 1' als Vormaterial, das im wesentlichen so ähnlich
aufgebaut ist, wie das anhand Figur 1a beschriebene; im Gegensatz zu Figur 1a weist
jedoch die Bandunterseite 4' zwei strangförmige Rillen, bzw. Vertiefungen 16, 17 auf,
zwischen denen der aus Figur 1a bekannte strangartige Vorsprung 5 angeordnet ist.
Die Vertiefungen 16, 17 sind geometrisch so ausgebildet, daß sie durch das Volumen
des Schmelzsees 14 beim Aufschweißen auf das Kontaktträger-Band 8 ausgefüllt werden
und somit ein seitliches Ausquellen der gebildeten Legierung verhindern. Als Werkstoff
für den Kernbereich 2, bzw. Schweißhilfsträger werden ebenfalls vorzugsweise Nickel
oder eine Kupfer-Nickel-Basis-Legierung eingesetzt.
[0024] Anhand Figur 2b ist der Einsatz des Metallbandes 1' in der Elektrodenvorrichtung
dargestellt, wobei das Metallband 1' im Bereich des Vorsprungs 5 direkt mit der Beschichtung
6 auf der Oberfläche 12 des Kontaktträgerbandes 8 aufliegt. Die beiden Elektroden
9, 10 sind nur teilweise dargestellt, wobei die Elektrodenvorrichtung zwecks besserer
Übersicht weggelassen wurde. Anhand Figur 2b ist auch die trapezförmige Ausnehmung
11 der Elektrode 8 zur formschlüssigen Aufnahme des Metallbandes 1' erkennbar.
[0025] Figur 2c zeigt im Querschnitt einen Kontaktprofilstrang, nachdem er die in Figur
2b dargestellte Elektrodenvorrichtung verlassen hat und das Metallband 1' mit dem
Kontaktträger-Band 8 elektrisch und mechanisch fest durch Verschweißen verbunden ist.
Während des Schweißvorganges wird durch Einwirkung des elektrischen Stromes die mit
Ziffer 13 bezeichnete Berührungs-Verbindungsstelle zwischen Vorsprung 5 mit Silber-Beschichtung
6 und Kontaktträger 8 so stark erwärmt, daß sich das Silber aus dem Beschichtungsbereich
des Vorsprunges und anschließend auch aus den strangförmigen Vertiefungen 16, 17 verflüssigt,
bis das Silber aus dem Beschichtungsbereich und das Kupfer aus dem Kontaktträger-Band
8 miteinander legieren und somit eine Legierung entsteht, die der eutektischen Legierung
mit 28 Gewichts-% Kupfer, Rest Silber mit einem Schmelzpunkt bei 779°C entspricht,
bzw. sehr naheliegt.
[0026] Das Kontaktträger-Band besteht vorzugsweise aus Kupfer, es ist jedoch auch möglich
Kupfer-Legierungen, wie z.B. Bronze, Neusilber CuFe
2 oder CuBe als Werkstoff für das Kontaktträger-Band einzusetzen.
1. Vormaterial zur Herstellung elektrischer Kontakte durch Verbinden mit einem elektrisch
leitfähigen, im wesentlichen aus Kupfer bestehenden Kontaktträger-Band mittels Widerstandserwärmung,
wobei das Vormaterial als Metallband mit Kontaktbereich ausgebildet ist, welches an
seiner mit dem Kontaktträger-Band verbindbaren Bandunterseite eine Beschichtung aus
einem Werkstoff aufweist, der im wesentlichen aus Silber besteht, wobei der Schmelzpunkt
des Werkstoffes der Beschichtung unterhalb des Schmelzpunkts des Metallbandes liegt,
dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung wenigstens im Bereich der Spitze eines
strangartigen Vorsprungs (5) der Bandunterseite (4, 4') des Metallbandes (1, 1') aufgebracht
ist.
2. Vormaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kernbereich (2) des Metallbandes
(1, 1') im wesentlichen aus Nickel besteht.
3. Vormaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Kernbereich (2)
des Metallbandes aus einer Kupfer-Nickel-Basis-Legierung besteht.
4. Vormaterial nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung einen Nickel-Anteil
im Bereich von 9 bis 70 Gewichts-% aufweist.
5. Vormaterial nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung einen
Zinn-Anteil im Bereich von 2 bis 10 Gewichts-% aufweist.
6. Vormaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis
der Schichtdicke des aufgebrachten Werkstoffs zu der vom Talboden der Bandunterseite
bis zur Spitze des Vorsprungs gemessenen Höhe ein Verhältnis im Bereich von 1:2 bis
1:10 aufweist.
7. Verfahren zur Herstellung eines Vormaterials nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschichtung auf einen durch Walzen erstellten Vorsprung des
Metallbandes aufgebracht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch galvanische
Abscheidung aufgebracht wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch Vakuumbeschichtung
aufgebracht wird.
10. Verfahren zur Herstellung eines Vormaterials nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die auf dem Vorsprung befindliche Beschichtung zusammen mit der
als Kontaktbereich vorgesehenen Beschichtung durch einen gemeinsamen Walzvorgang auf
das Metallband aufgebracht wird.
11. Verfahren zur Herstellung eines Halbzeuges für elektrische Kontakte, bei dem auf ein
Kontaktträger-Band, das im wesentlichen aus Kupfer besteht, ein mit Kontaktprofil
versehenes Metallband als Vormaterial gemäß Anspruch 1 mit seiner Bandunterseite so
aufgebracht wird, daß ein auf dieser Bandunterseite befindlicher Vorsprung auf dem
Kontaktträger-Band aufliegt und anschließend mittels eines Schmelzvorganges durch
Widerstandserwärmung eine elektrische und mechanisch feste Verbindung zwischen dem
Metallband und dem Kontaktträger-Band hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, daß
das Metallband auf das Kontaktträger-Band aufgebracht, die Beschichtung des Metallbandes
mittels Widerstandserwärmung geschmolzen wird und die Beschichtung durch einen zwischen
Metallband und Kontaktträgerband ausgeübten Druck von dem Vorsprung in dem Vorsprung
benachbarte Rillen, bzw. Vertiefungen abläuft und dort mit dem in die Rillen eindringenden
Werkstoff des Kontaktträgerbandes eine Legierung bildet, die eine elektrisch leitende
und mechanisch feste Verbindung sowohl mit dem Werkstoff des Metallbandes als auch
mit dem Werkstoff des Kontaktträger-Bandes eingeht, wobei die während der Widerstandserwärmung
gebildete Legierung einen Schmelzpunkt aufweist, der dem des Eutektikums der Silber-Kupfer-Legierung
entspricht, bzw. sehr nahe liegt.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bildung der Silber-Kupfer-Legierung
zwischen dem Metallband und dem Kontaktträger-Band der Silber-Anteil aus dem Metallband
und der Kupfer-Anteil aus dem Kontaktträger-Band entnommen wird.