(57) Die Erfindung betrifft die Verwendung einer dielektrischen behinderten Entladevorrichtung
(4a, 4b, 4c, 4d) (Barriereentladevorrichtung) zur Reinigung von mittels vakuumgestützter
Verfahren zu beschichtender Oberflächen (5a, 5b). Die in einer Vakuumkammer (1) angeordnete
Barriereentladevorrichtung (4a, 4b, 4c, 4d) besteht im wesentlichen aus mindestens
zwei sich gegenüberliegenden Elektrodenkörpern (20, 22) und einem zwischen den Elektrodenkörpern
(20, 22) in unmittelbarer Nähe zu einer Elektrode (20) positioniertem Dielektrikum
(22) und einer mit den Elektroden (20,22) elektrisch verbundenen Stromquelle (26).
Die während der elektrischen Entladung zwischen den Elektrodenkörpern (20,22) freigesetzten
Plasmateilchen und UV-Strahlung tritt durch die für UV-Strahlung und/oder Plasmateilchen
durchlässige Elektrode (22) aus dem Entladungsraum heraus und trifft auf die zu reinigenden
Oberflächen (5a, 5b). An den Oberflächen (5a, 5b) wird mittels der UV-Strahlung ein
photochemischer und/oder mittels der auftreffenden Plasmateilchen ein plasmachemischer
Reinigungsprozeß ausgelöst. Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren ist im wesentlichen
druckunabhängig bei Drücken kleiner als 10 bar einsetzbar, wodurch das Reinigungsverfahren
insbesondere während der Abpumpphase der Vakumumkammer (1) anwendbar ist.
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