DISPOSITIF POUR CREER UN FAISCEAU D'IONS D'ENERGIE AJUSTABLE NOTAMMENT POUR LE TRAITEMENT AU DEFILE ET SOUS VIDE DE SURFACES DE GRANDES DIMENSIONS - Patent 0769201

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EP 0 769 201 A1

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(43)	Date de publication:
	23.04.1997 Bulletin 1997/17

(21)	Numéro de dépôt: 95925012.0

(22)	Date de dépôt: 05.07.1995

(51)

Int. Cl.:

H01J 27/ 16^{( . )}

H01J 37/ 08^{( . )}

(86)	Numéro de dépôt:
	PCT/FR1995/000900

(87)	Numéro de publication internationale:
	WO 1996/001490 (18.01.1996 Gazette 1996/04)

(84)	Etats contractants désignés:
	BE CH DE ES FR GB IT LI NL SE

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Priorité:

05.07.1994 FR 19940008279

(71)	Demandeur: PLASMION
	91892 Orsay Cédex (FR)

(72)	Inventeurs:
	WARTSKI, Louis F-92120 Montrouge (FR) ROY, Véronique F-75014 Paris (FR) SCHWEBEL, Christian F-91470 Forges-les-Bains (FR)

(74)	Mandataire: Leszczynski, André
	NONY & ASSOCIES 29, rue Cambacérès 75008 Paris 75008 Paris (FR)

(54)	DISPOSITIF POUR CREER UN FAISCEAU D'IONS D'ENERGIE AJUSTABLE NOTAMMENT POUR LE TRAITEMENT AU DEFILE ET SOUS VIDE DE SURFACES DE GRANDES DIMENSIONS