[0001] Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Positioniervorrichtung für Siebdruckrahmen
gemäss Oberbegriff des Anspruchs 1.
[0002] Auf Siebdruckrahmen wird vor dem eigentlichen Siebdruck die Maske aufgebracht. Gemäss
einem gängigen Verfahren wird das Siebgewebe zur Gänze mit dem Maskenmaterial beschichtet.
Darauf wird selektiv eine Abdeckung aufgebracht und an den Stellen, die die Abdeckung
freilässt, das Maskenmaterial wieder ausgewaschen. Die modernen Verfahren bringen
die Abdeckung direkt beispielsweise mittels eines Plotters auf. Gängige Bebilderungsverfahren
sind: Tintenstrahldruck und Wachsbeschichtung. Diese Technik erlaubt es auch, Siebdruckrahmen
in bisher unbekannter Grösse von 1 m
2 und mehr zu bebildern, z. B. Flächen von 1,6 m auf 1,8 m. Trotz dieser Grösse werden
absolute Genauigkeiten von eingen Mikrometern bei Auflösungen im Nanometer-Bereich
über die gesamte Fläche gefordert, z. B. 1 µm Genauigkeit und 5 nm Auflösung.
[0003] Für die geforderte Präzision und Auflösung im Mikrometerbereich müssen jedoch die
Siebdruckrahmen entsprechend genau nicht nur in der Zeichenebene (X-Y-Ebene) des Plotters
hochgenau positioniert werden, sondern auch der Abstand des Siebdruckgewebes muss
über die gesamte zu bedruckende Fläche in möglichst konstantem Abstand vom Zeichen-
bzw. Druckkopf angeordnet sein, d. h. in der Z-Achse ebenfalls genau eingerichtet
sein. Insbesondere bei grossen Siebdruckrahmen und/oder Monochromdruck verschärfen
sich die Probleme der Justierung überproportional.
[0004] Diesen Anforderungen steht entgegen, dass die Rahmen der Siebdruckrahmen eher einfach
ausgeführt sind, da im eigentlichen Druckprozess der Rahmen nur noch eine untergeordnete
Rolle spielt. Insbesondere sind die Rahmen zu wenig eigenstabil und von schwankenden
Abmessungen, so dass jeder Rahmen aufwendig auf der Zeichenanlage (Plotter) in allen
3 Achsen aufwendig einjustiert werden muss. Trotzdem kann es noch vorkommen, dass
wegen der geringen Stabilität der Rahmen es während des Aufbringens der Maske zur
Dejustierung kommt.
[0005] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung anzugeben, die
eine vereinfachte Positionierung von Siebdruckrahmen für die Bebilderung gestattet.
Bevorzugt sollen auch die übrigen, oben genannten Nachteile behoben werden.
[0006] Eine derartige Positionierungseinrichtung ist im Anspruch 1 angegeben, die weiteren
Ansprüche geben bevorzugte Ausführungen an.
[0007] Die erfindungsgemässe Vorrichtung besteht demgemäss im wesentlichen aus einem Support
hoher Massgenauigkeit und Festigkeit, der am eigentlichen Zeichengerät (Plotter usw.)
angebracht und einjustiert wird. Die Siebdruckrahmen werden dann so auf den Support
aufgelegt, dass das Siebgewebe auf dem Support aufliegt und damit in der Z-Achse exakt,
zumindest innerhalb der Bebilderungsfläche, die vom Support definiert ist, u. a. unabhängig
von der Höhe des Rahmens des Siebdruckrahmens positioniert wird.
[0008] Die Positionierung in der X-Y-Ebene kann z. B. dadurch erfolgen, dass der Siebdruckrahmen,
der aussen um den Support herum verläuft, an Anschläge am Support oder einfach mit
einer Ecke an eine Ecke des Supports angelegt wird.
[0009] Die Erfindung soll weiter anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiel unter Bezugnahme
auf Figuren erläutert werden.
- Fig. 1
- zeigt eine Draufsicht auf eine Anordnung von Stützrahmen und Siebdruckrahmen;
- Fig. 2
- zeigt einen Teilschnitt gemäss II-II in Fig. 1;
- Fig. 3
- ist eine Frontansicht auf einen Stellklotz;
- Fig. 4
- ist eine Draufsicht auf einen Stellklotz;
- Fig. 5
- zeigt eine Draufsicht auf eine bevorzugte Ausführungsform;
- Fig. 6
- zeigt einen Schnitt gemäss VI-VI in Fig. 5; und
- Fig. 7
- zeigt einen anderen Stellklotz.
[0010] Fig. 1 zeigt den Siebdruckrahmen 1, innerhalb dem sich als Support, der Stützrahmen
2 befindet. Das Siebdruckgewebe wie auch der Plotter selbst, auf dem der Stützrahmen
2 aufliegt, ist nicht dargestellt. Am Stützrahmen 2 sind Stellklötze 3 befestigt.
Der Stützrahmen 2 ist bevorzugt mit einem Gewebe, insbesondere einem Siebdruckgewebe
(nicht dargestellt), bespannt.
[0011] Wie Fig. 3 zeigt, liegt das Siebdruckgewebe auf dem Stützrahmen 2 auf. Der Rahmen
5 des Siebdruckrahmens 1 schwebt dagegen über der Auflagefläche 6 des Plotters. Die
Dicke des Rahmens 5 hat somit keinen Einfluss auf die Positionierung in der Z-Achse
7 und damit auch nicht auf den Abstand von dem Druckkopf, der hier durch ein überdimensionales
Tintentröpfchen 8 mit Druckrichtungspfeil 9 angedeutet ist.
[0012] Die Stellklötze 3 sind mittels Schrauben 10 am Stützrahmen befestigt. Zur Positionierung
in Z-Richtung sind Justierschrauben 11 in entsprechenden Gewindelöchern 12 geführt.
Für die nötige Feinjustierung empfehlen sich Mikroschrauben für die Justierschrauben
11. Für die Befestigungsschrauben 10 sind durchgehende Löcher 13 vorgesehen.
[0013] Zur exakten Positionierung genügt also ein einmaliges Einjustieren des Stützrahmens
2 insbesondere in der Z-Achse 7 mittels der Mikroschrauben 11. Danach können einfach
Siebdruckrahmen 1 nacheinander aufgelegt werden. Auch bei verzogenem Rahmen 5 wird
durch das Eigengewicht eine plane Auflage des Siebdruckgewebes 4 auf dem Stützrahmen
2 bewirkt.
[0014] Zur Positionierung in der X-Y-Ebene, d. h. der Zeichenebene des Plotters, wird der
Rahmen 5 so verschoben, dass er z. B. mit der Innenseite einer Ecke am Stützrahmen
anliegt. Anschläge oder Abstandshalter (nicht gezeigt), die gegebenenfalls auch einstellbar
sind, können zusätzlich noch am Stützrahmen 2 vorhanden sein. Hierdurch ist eine Vorpositionierung
der Siebdruckrahmen gegeben, die auch das Einrichten der Siebdruckanlage erleichtert
und beschleunigt.
[0015] Eine Alternative zeigt Figur 5: an der Zeichenvorrichtung wird eine zusätzliche Positionierhilfe
in Form eines Winkels 14 angebracht. Der Winkel 14 weist Anschläge 15 auf, in die
der hier nicht dargestellte Siebdruckrahmen angelegt und damit exakt in der X-Y-Ebene
positioniert werden kann. Vorteilhaft ist damit die Ausrichtung in der Z-Achse von
derjenigen in der X-Y-Achse entkoppelt, wodurch sich die Justierung der Positioniervorrichtung
erleichtert. Die Anschläge 15 können einstellbar sein und in der Anzahl und Anordnung
gemäss aktuellen Erfordernissen gewählt werden. Der Supportrahmen ist hier mit Siebdruckgewebe
19 bespannt dargestellt.
[0016] Figur 6 zeigt einen Schnitt durch eine Zeichenanlage gemäss VI-VI in Figur 5. Der
Rahmen 5 liegt an einem Anschlag 15 des Positionierwinkels 14 an, während durch Aufliegen
und Spannen über den Support 2 die Höhe und Planlage des Siebdruckgewebes 4 und damit
auch ein konstanter Abstand vom Druckkopf 16 gewährleistet ist.
[0017] Figur 7 zeigt eine andere Ausführungsform eines Stellklotzes 3, in der der verstellbare
Fuss 17 mittels einer Justierschraube 18 in der Höhe verstellbar ist.
[0018] Insgesamt sind damit Verwindungen der Siebdruckrahmen, Dickentoleranzen der Rahmenprofile
und Unebenheiten auf den Rahmenprofiloberflächen ohne Einfluss auf Distanz und Parallelität
der zu bebildernden Gewebeoberseite in bezug zum Drucksystem, da die Positionierung
ausschliesslich im Gewebebereich erfolgt.
[0019] Der Rahmen 5 wird auch bei Torsion durch das Eigengewicht positioniert und ist selbstarretierend.
Mechanische und pneumatische Klemmvorrichtungen, wie aus dem Stand der Technik bekannt,
können daher entfallen.
[0020] Als Material für den Stützrahmen kommen u. a. Aluminium, Aluminiumlegierungen, Edelstahl
oder Kunststoff in Frage. Ein wesentliches Auswahlkriterium hierfür ist die Grösse
des Rahmens und die damit anwachsenden Anforderungen an seine Steifigkeit. Der Stützrahmen
kann z. B. aus Rundrohren oder anderen Hohlprofilen bestehen, um hohe Festigkeit mit
niedrigem Gewicht zu vereinen.
[0021] Abwandlungen des erfindungsgemässen Supports sind dem Fachmann aus der Beschreibung
ersichtlich, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen. Z. B. kann die Anzahl Stellklötze
je nach Grösse des Supports unterschiedlich sein.
[0022] Denkbar ist ein anderer planarer Support als ein Stützrahmen, z. B. eine Wabenkonstruktion
oder eine plane Platte oder auch eine Bespannung des Stützrahmens mit einer Folie.Im
Prinzip kann der Support mit beliebigen Bebilderungsverfahren eingesetzt werden, also
u. a. auch auf Vorrichtungen, die mit dem Thermodruck- oder Wachsbeschichtungsverfahren
arbeiten.
1. Vorrichtung zum Positionieren von Siebdruckrahmen (1) auf Zeichengeräten, gekennzeichnet
durch einen Support (2), auf dem ein Siebdruckrahmen (1) derart anbringbar ist, dass
das Siebdruckgewebe (4) auf dem Support (2) aufliegt.
2. Vorrichtung gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Support (2) eine Bebilderungsfläche
definiert und durch die Auflage des Siebdruckgewebes (4) auf den Support (2) eine
Planlage des Siebdruckgewebes zumindest innerhalb der Bebilderungsfläche bewirkt wird.
3. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der
Support ein Stützrahmen (2) ist.
4. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Support
(2) eine Wabenkonstruktion oder eine Platte mit planer Oberfläche ist.
5. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Support
(2) mit einem Gewebe, insbesondere einem Siebdruckgewebe, bespannt ist.
6. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Support
(2) über Justiermittel (3) verfügt, um ihn bezüglich der Z-Achse senkrecht zur Rahmenfläche
ausrichten zu können, um bei aufgelegtem Siebdruckrahmen einen Verlauf des Siebdruckgewebes
(4) in konstantem Abstand von der Druck- oder Zeicheneinrichtung des Zeichengerätes
zu erhalten.
7. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiermittel
(3) am Support (2) angebrachte Klötze sind, durch die senkrecht zur Rahmenebene verstellbare
Mikroschrauben (11) hindurchtreten.
8. Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch ein Positioniermittel
(14), an das ein auf dem Support (2) aufliegenden Siebdruckrahmen (1) durch Verschieben
in der X-Y Ebene parallel zur Ebene des Siebdruckgewebes (4) anlegbar ist, um eine
Positionierung des Siebdruckrahmens in der X-Y-Ebene zu bewirken.
9. Vorrichtung gemäss Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Positionierungsmittel
im wesentlichen ein L-förmiger Winkel (14) ist, der den Support (2) teilweise umgibt.
10. Verwendung der Vorrichtung gemäss einem der Ansprüche 1 bis 10 an Plottern mit Tintenstrahldruck-,
Thermodruck- oder Wachsbeschichtungsvorrichtung.