......DE....FRGB..IT....NL..........................................................................*EPregister to ST.36 EBD process v 1.0 kbaumeister@epo.org (15 Jan 2013)0888570A119990107EP97952867.01997120319980720dedede1996105398319961221DE1999010719990119990107199901

H01L 21/ 027 A I

G02B 13/ 14 A I

G02B 13/ 18 A I

G02B 13/ 22 A I

G02B 13/ 24 A I

G03F 7/ 20 A I

enRETICULAR OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY-PROJECTION EXPOSURE INSTALLATIONSfrOBJECTIF A RETICULE POUR UNITES D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIEdeREMA-OBJEKTIV FÜR MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGENCarl ZeissD-89518 Heidenheim (Brenz)DECARL-ZEISS-STIFTUNG, trading as CARL ZEISS89518 HeidenheimDESCHULTZ, JörgBohlstrasse 29D-73430 AalenDEWANGLER, JohannesAn der Reute 15D-89551 KönigsbronnDESCHUSTER, Karl-HeinzRechbergstrasse 24D-89551 KönigsbronnDEMüller-Rissmann, Werner Albrecht, Dr., et alCarl Zeiss, Patentabteilung73446 OberkochenDEDEFRGBITNLEP199700676019971203deWO199802864419980702199826